JPH05258708A - イオン照射装置の運転方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 処理室の両側にエアロック室を備えるイオン
照射装置において、処理終了時における試料の場所を確
定することができる運転方法を提供する。 【構成】 この運転方法は、試料２が処理室８を通過す
る走査回数を奇数回にしてその試料２に対する処理を終
了することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えばイオン注入装
置、イオンビームエッチング装置、イオン照射を併用す
る薄膜形成装置等のように、イオンビームを試料に照射
して処理するイオン照射装置の運転方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種のイオン照射装置の一例を図１に
示す。この装置は、イオン源４が取り付けられていてそ
こから引き出したイオンビーム６を試料２に照射して処
理する処理室８と、この処理室８の左右両側に真空弁１
４、１６を介して隣接された二つのエアロック室１０、
１２とを備えている。エアロック室１０、１２は、試料
２を大気中と処理室８との間で出し入れする予備的な真
空室であり、かつ試料２を矢印Ａのように機械的に走査
するためのスペースを確保する部屋も兼ねている。

【０００３】このような装置においては、試料２は、処
理室８内においてのみイオンビーム６が照射され、イオ
ン注入、エッチング等の処理が施される。また、イオン
ビーム照射の均一性向上あるいはイオン照射量を制御す
るために、試料２は、一方のエアロック室例えばエアロ
ック室１２から、処理室８、他方のエアロック室１０、
処理室８、エアロック室１２・・・のように繰り返して
走査される。このような試料２の機械的走査は、例えば
搬送ベルト、搬送ロッドのような搬送手段（図示省略）
によって行われる。また、試料２の搬送時、真空弁１
４、１６は、適宜開閉される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、処理室８の
通過回数を試料２の走査回数と呼ぶと、エアロック室１
２から始めて走査回数が奇数回の場合、処理終了時の試
料２は図３に示すようにエアロック室１０内にあり、走
査回数が偶数回の場合は処理終了時の試料２は図４に示
すようにエアロック室１２内にある。従って、連続的に
多数の試料２を処理する場合、先の処理済の試料２がど
ちらのエアロック室１０、１２内にあるかを確認する必
要が生じ、そのためにセンサを設ける等しなければなら
ず装置構成が複雑になるという問題がある。

【０００５】そこでこの発明は、上記のような処理室の
両側にエアロック室を備えるイオン照射装置において、
処理終了時における試料の場所を確定することができる
運転方法を提供することを主たる目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の運転方法は、試料が処理室を通過する走
査回数を奇数回にしてその試料に対する処理を終了する
ことを特徴とする。

【０００７】

【作用】上記運転方法によれば、試料の走査回数を奇数
回に限定するので、処理終了時の試料の場所は、処理開
始時とは反対側のエアロック室内に限定される。これに
より、処理終了時における試料の場所が確定する。

【０００８】

【実施例】この発明の実施例を前述した図１および図２
を参照して説明する。

【０００９】この発明では、試料２が処理室８を通過す
る走査回数を必ず奇数回にして、その試料２に対する処
理を終了する。従って例えば、前記と同様にエアロック
室１２から走査を始める場合、処理終了時の試料２の場
所は、図２に示すように、処理開始時とは反対側のエア
ロック室１０内に限定される。その結果、次の動作に移
るとき、試料２がどちらのエアロック室１０、１２内に
あるかを捜す必要がなくなり、従って装置構成を簡素化
することができる。

【００１０】また、処理開始時のエアロック室１２と処
理終了時のエアロック室１０とが異なるため、エアロッ
ク室１０とエアロック室１２とで同時に異なる作業を行
う（例えばエアロック室１０から処理済の試料２を大気
中に取り出すと同時に、エアロック室１２内に新しい試
料２を大気中から搬入する）ことができ、当該イオン処
理装置のスループット（単位時間当りの処理能力）を向
上させることができる。

【００１１】なお、以上では処理室８の上部にイオン源
４を取り付けた装置の例を示したが、それ以外に、他の
場所で発生させたイオンビーム６をビームラインを通し
て処理室８内に導く構成の装置であっても、この発明の
運転方法を適用することができるのは勿論である。

【００１２】

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、試料の
走査回数を奇数回に限定するので、処理終了時の試料の
場所は、処理開始時とは反対側のエアロック室内に限定
される。これにより、処理終了時における試料の場所が
確定する。その結果、次の動作に移るとき、試料がどち
らのエアロック室内にあるかを捜す必要がなくなり、装
置構成を簡素化することができる。

【００１３】また、処理開始時のエアロック室と処理終
了時のエアロック室とが異なるため、両エアロック室で
同時に異なる作業を行うことができ、当該イオン処理装
置のスループットを向上させることができるという効果
も得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 イオン照射装置の一例を示す概略図である。

【図２】 この発明の運転方法による場合の処理終了時
の状態を示す図である。

【図３】 従来の運転方法による場合の処理終了時の状
態の一例を示す図である。

【図４】 従来の運転方法による場合の処理終了時の状
態の他の例を示す図である。

【符号の説明】

２ 試料 ４ イオン源 ６ イオンビーム ８ 処理室 １０，１２ エアロック室 １４，１６ 真空弁

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 イオンビームを試料に照射して処理する
   処理室と、この処理室の両側に真空弁を介して隣接され
   た二つのエアロック室とを備えていて、試料を一方のエ
   アロック室から処理室を通して他方のエアロック室へと
   繰り返して走査するイオン照射装置において、試料が処
   理室を通過する走査回数を奇数回にしてその試料に対す
   る処理を終了することを特徴とするイオン照射装置の運
   転方法。