JPH05254882A - 不透明石英ガラス - Google Patents
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- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 69
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 11
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 abstract description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 13
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 239000004576 sand Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 abstract description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 abstract 2
- 239000004604 Blowing Agent Substances 0.000 abstract 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 abstract 1
- 239000011034 rock crystal Substances 0.000 abstract 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 6
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005485 electric heating Methods 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
- 229910021489 α-quartz Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
- C03C4/08—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths
- C03C4/082—Compositions for glass with special properties for glass selectively absorbing radiation of specified wave lengths for infrared absorbing glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C11/00—Multi-cellular glass ; Porous or hollow glass or glass particles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/80—Glass compositions containing bubbles or microbubbles, e.g. opaque quartz glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/10—Melting processes
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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Abstract
制御された窒化珪素を所定量添加し、酸水素炎で溶融し
て純度、粘性の高い不透明石英ガラスを得、かつ得られ
る不透明石英ガラスの泡の径分布が20〜180μmで
あることを特徴とする不透明石英ガラス。 【効果】 純度、粘性、密度が高く、耐熱性を有し、熱
線遮断材料として最も重要な特性である赤外域での反射
率が高く、機械的強度にも優れ、またアルカリ不純物濃
度が低い特性を有するため高集積度の半導体製造用治具
や高温工業用材料に好適である。
Description
る純度が高く赤外線の熱線遮断効果に優れた不透明石英
ガラスに関する。
などの熱にかかる装置(以下、半導体治具という)、ま
たは電気発熱体用保護管などには熱線遮断特性を生かし
て不透明石英ガラスが利用されてきた。
従来、珪石、珪砂などの原料に炭素あるいは炭素含有物
質を発泡剤として添加して電融法で製造する方法が知ら
れている。
射からなり、天然あるいは合成の透明石英ガラスは、数
%の正反射をもつものの透過率に優れており、電熱加熱
時に放射される1〜5μmの赤外線を透過するので放射
熱伝導により大きな熱量が移動し、例えば反応管のフラ
ンジ部など低温に保たねばならない部分には使用できな
い。
の不透明石英ガラスは次のような問題点がある。 (1)純度が悪いため、この不透明石英ガラスを使用し
て製造した半導体は性能低下、歩留り低下を起こす。 (2)泡が不均質に分散しているため半導体治具等の作
製時における切断、研削時に研磨材が浸漬する。 (3)泡の存在量が不適切であるため赤外域で充分な反
射率が得られない。 (4)粘性が低いため高温での使用が制限される。
料として最も重要な特性である赤外域での反射率が高い
石英ガラスを提供することを目的とする。
上記課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、純度の
高い珪酸質原料粉に純度が高く粒径の制御された窒化珪
素を所定量添加し、酸水素炎で溶融して純度、粘性の高
い不透明石英ガラスを得、かつ得られる不透明石英ガラ
スの泡の径分布を20〜180μmとすれば前記目的が
達成できるとの知見を得て本発明を完成した。
り又純度を損なわないシリコン化合物でもある窒化ケイ
素を使用し、酸水素火炎溶融法により、不透明石英ガラ
スインゴット(ブロック等)を造ることにある。
0.03〜3重量%、が好ましく、特に好ましくは
0.1%〜1%である。添加量が0.03重量%未満で
は、白色化、不透明化が充分でなく、また3重量%を超
えると、石英ガラスの性質を損ない(結晶化)、また、
泡の分散が不均一となり好ましくない。
て珪石や珪砂の替わりに、α−クォーツ、またはクリス
トバライト等の高純度の酸化ケイ素源の一種またはこれ
らの混合物、例えば精製した高純度の水晶粉や合成した
シリカ粉等を用いて使用することができる。
部に微細な泡を存在させることが効果的であるが、この
泡は20μm未満では微細すぎて効果がうすく、また、
泡径が180μmを超えると不透明石英ガラスを研削や
研磨する際、研磨材が混入し、また、泡が大きいと装置
との接着面の密着性が悪くなり、例えばフランジに使用
した際、リークの原因となり好ましくない。このため、
泡径は20〜180μm、望ましくは30μm〜150
μm以下が好ましい。
の高い珪酸質原料粉に純度が高く粒径の制御された窒化
珪素を所定量添加することによって得られるが、粒径は
その平均粒径が1〜2ミクロンであることが必要であ
る。
が得られるが、機械的強度が落ち、高温粘性も低下する
ので半導体治具に使用出来ず、密度は、1.8g/cm
3以上、望ましくは1.9g/cm3以上が必要である。
英ガラスの高温粘性は1280℃で1×1012ポイズ以
上が好ましく、接合して使われる不透明石英ガラスも少
なくとも3.3×1011ポイズ以上、望ましくは6.3
×1011ポイズ以上であることが必要である。
め用いられるので、光を透過しないこと、即ちガラス厚
3mmにて波長0.2〜5μmの光の透過率が0である
ことが必要で、また、反射率においても、ガラス厚3m
mにおいて波長0.2〜3μmで少なくとも30%、望
ましくは40%以上でないと効果的に熱線を遮断できな
い。
もより純度の高いものが求められており、特に半導体の
断線原因となるアルカリ金属は嫌われ、アルカリの総量
が1.5ppm以下であることが望ましい。
料を溶解するため無接触に近い状態で製造でき不純物の
混入を極めて小さくすることが出来る。また、発泡剤に
粒度を制御した純度の高い窒化珪素を用いれば、純度を
損なうことなく泡径を制御し、前記条件を満たした不透
明石英ガラスを製造出来る。
導体治具に広く用いられている天然透明石英ガラスと同
等の純度を有し、半導体製造時の熱源である赤外域での
反射率が高いため、従来では、到底、到達できないよう
な熱線遮断効果が期待できる。さらに、密度が天然透明
石英ガラスに近いので機械的強度も天然透明石英ガラス
に劣らない。
英ガラスなみの耐熱性を有し、したがって、本発明によ
る不透明石英ガラスは高集積度の半導体製造用治具に最
適のガラスである。また、高温工業用材料としても充分
に使用できる。
するが、本発明はこれに限定されるものではない。
化ケイ素を用いた。
合濃度は0.2%(重量)とし、この混合粉末を充分に
混合した後、酸水素火炎溶融法により溶融し、サイズ5
50×180Hの白色不透明石英ガラスインゴットを造
った。
するために、窒化珪素の平均粒径が1〜2ミクロンにな
るように調整する。
剤添加前が2.20であるのに比し2.10であった。
また、目視観察により泡は均一に分散しており、美観上
すぐれた白色の不透明石英ガラスを得た。
率を測定したところ、ガラス厚3mmにて波長200〜
5000nmの光を全く透過しないことが確認された。
結果を図3に示す。
ついての分析値は、ナトリウム0.9ppm、カリウム
0.1ppm、リチウム0.09ppmであった。
粘性測定を行なった。その結果を表2、図1、図4及び
図5に示す。
珪素をもちい実施例1に準じて不透明石英ガラスを製造
した。
も200μmを越えるものが含まれていた。泡径分布測
定結果を図2に示す。また、高温粘性も1280℃にお
いて、実施例が6.31×1011であるのに対して3.
66×1011であつた。さらに、研削、研磨したとき大
きな泡に研磨材が混入し黒色の班点で汚染されていた。
を用いた以外は実施例1に準じて不透明石英ガラスを製
造した。このガラスから所定の大きさに試料を切りだし
実施例1に準じて化学分析、泡径分布測定、透過率・反
射率、及び、高温粘性測定を行いその結果を、表3、図
3、図4及び図5に示す。
化珪素を用い、珪石粉に対する発泡材の窒化珪素の混合
濃度を0.2重量%として実施例1に準じて不透明石英
ガラスを製造した。
2.19g/cm3であるのに比して2.08g/cm3
であった。また、泡は均一に分散していた。得られたガ
ラスのアルカリ成分の分布は、ナトリウム5.0pp
m、カリウム7.5ppm、リチュウム3.8ppmで
あった。
は均一な白色不透明であり、ガラス厚3mmにて、0.
2〜5μmの光を全く透過せず、全反射率も40%以上
であり赤外線の遮断に優れており、また、密度が高く、
耐熱性にもすぐれ、さらに、アルカリ不純物濃度が低い
ことが明らかになる。
過率。
反射率。
温粘性。
Claims (5)
- 【請求項1】 珪酸質原料粉に窒化珪素微粉末を添加
し、酸水素炎で溶融してなる不透明石英ガラスにおい
て、泡の径分布が20〜180μmであることを特徴と
する不透明石英ガラス。 - 【請求項2】 密度が1.8g/cm3以上であること
を特徴とする請求項1記載の不透明石英ガラス。 - 【請求項3】 波長1μmの反射率が40%以上あるこ
と特徴とする請求項1記載の不透明石英ガラス。 - 【請求項4】 1280℃における粘性が3.31×1
011ポイズ以上であることを特徴とする請求項1記載の
不透明石英ガラス。 - 【請求項5】 アルカリ金属不純物の総量が1.5pp
m以下であることを特徴とする請求項1記載の不透明石
英ガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08811592A JP3156732B2 (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 不透明石英ガラス |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP08811592A JP3156732B2 (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 不透明石英ガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05254882A true JPH05254882A (ja) | 1993-10-05 |
JP3156732B2 JP3156732B2 (ja) | 2001-04-16 |
Family
ID=13933896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP08811592A Expired - Fee Related JP3156732B2 (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 不透明石英ガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3156732B2 (ja) |
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- 1992-03-12 JP JP08811592A patent/JP3156732B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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