JPH0525220A - アルキリデンノルボルネン系重合体およびその製造方法 - Google Patents
アルキリデンノルボルネン系重合体およびその製造方法Info
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- JPH0525220A JPH0525220A JP3329642A JP32964291A JPH0525220A JP H0525220 A JPH0525220 A JP H0525220A JP 3329642 A JP3329642 A JP 3329642A JP 32964291 A JP32964291 A JP 32964291A JP H0525220 A JPH0525220 A JP H0525220A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G6/00—Condensation polymers of aldehydes or ketones only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F32/00—Homopolymers and copolymers of cyclic compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system
- C08F32/08—Homopolymers and copolymers of cyclic compounds having no unsaturated aliphatic radicals in a side chain, and having one or more carbon-to-carbon double bonds in a carbocyclic ring system having two condensed rings
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- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐光性、透明性、耐湿性に優れた、有用で新
規な光学用高分子材料を得る。 【構成】 【化１】 （式中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ2は水素
原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。）で表さ
れるアルキリデンノルボルネン類、または化１で表され
るアルキリデンノルボルネン類並びにカチオン重合する
コモノマーの混合物をカチオン系重合触媒の存在下に重
合してアルキリデンノルボルネン系重合体を得る。
規な光学用高分子材料を得る。 【構成】 【化１】 （式中、Ｒ1は炭素数１〜５のアルキル基を、Ｒ2は水素
原子または炭素数１〜５のアルキル基を示す。）で表さ
れるアルキリデンノルボルネン類、または化１で表され
るアルキリデンノルボルネン類並びにカチオン重合する
コモノマーの混合物をカチオン系重合触媒の存在下に重
合してアルキリデンノルボルネン系重合体を得る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性、耐光性、透明
性および耐湿性に優れた、光学材料として有用な新規な
アルキリデンノルボルネン系重合体およびその製造方法
に関する。
性および耐湿性に優れた、光学材料として有用な新規な
アルキリデンノルボルネン系重合体およびその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、光学用高分子材料としてポリメタ
クリル酸メチルやポリカーボネートなどが使用されてき
たが、前者は吸水性が大きく、耐熱性も充分でなく、ま
た後者は射出成形品の複屈折が大きいなどの問題を抱え
ており、ますます高度化する光学用高分子材料に対する
要求に応えることが困難になってきている。
クリル酸メチルやポリカーボネートなどが使用されてき
たが、前者は吸水性が大きく、耐熱性も充分でなく、ま
た後者は射出成形品の複屈折が大きいなどの問題を抱え
ており、ますます高度化する光学用高分子材料に対する
要求に応えることが困難になってきている。
【０００３】これらの欠点を改良した高分子材料とし
て、多環ノルボルネン系モノマーを用いた重合体が開発
されている。例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重
合体の水素添加物やノルボルネン系モノマーとエチレン
との付加型コポリマーのような熱可塑性飽和ノルボルネ
ン系ポリマーが、光ディスク基板材料として優れた特徴
を有することが、特開昭６０−２６０２４号、特開昭６
４−２４８２６号、特開昭６０−１６８７０８号、特開
昭６１−１１５９１２号、特開昭６１−１２０８１６号
などに開示されている。
て、多環ノルボルネン系モノマーを用いた重合体が開発
されている。例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重
合体の水素添加物やノルボルネン系モノマーとエチレン
との付加型コポリマーのような熱可塑性飽和ノルボルネ
ン系ポリマーが、光ディスク基板材料として優れた特徴
を有することが、特開昭６０−２６０２４号、特開昭６
４−２４８２６号、特開昭６０−１６８７０８号、特開
昭６１−１１５９１２号、特開昭６１−１２０８１６号
などに開示されている。
【０００４】しかしながら、これらの従来技術では、光
学材料に要求される耐熱性を確保するため、ノルボルネ
ン系モノマーとしてテトラシクロドデセン類のごとき多
環モノマーを使用しなければならないが、多環モノマー
類は製造が必ずしも容易ではない。通常、多環モノマー
類はノルボルネン類とジシクロペンタジエンとを加熱下
に付加反応させて合成するが、シクロペンタジエンの多
量体などの副生成物を多く含むため蒸留により精製分離
する必要があり、その精製分離が困難である。そのた
め、多環モノマー、特にテトラシクロドデセン誘導体は
非常に高価であり、工業的に有利ではない。また、入手
可能なモノマーの種類も限定されている。
学材料に要求される耐熱性を確保するため、ノルボルネ
ン系モノマーとしてテトラシクロドデセン類のごとき多
環モノマーを使用しなければならないが、多環モノマー
類は製造が必ずしも容易ではない。通常、多環モノマー
類はノルボルネン類とジシクロペンタジエンとを加熱下
に付加反応させて合成するが、シクロペンタジエンの多
量体などの副生成物を多く含むため蒸留により精製分離
する必要があり、その精製分離が困難である。そのた
め、多環モノマー、特にテトラシクロドデセン誘導体は
非常に高価であり、工業的に有利ではない。また、入手
可能なモノマーの種類も限定されている。
【０００５】一方、２環ノルボルネン類のなかで、メチ
リデン基を有する５−メチリデンノルボルネンがトラン
ス−アニュラー型重合して飽和線状ポリマーを与えるこ
とが、ラ・シミカ・エ・ル・インダストリア、第４５
巻、１５２９頁（１９６３年）、またはマクロモレキュ
ラー・ケミストリー、ラピッド・コミュニケーション、
第１巻、４６７頁（１９８０年）に記載されている。し
かし、モノマーとして使用される５−メチリデンノルボ
ルネンは前記テトラシクロドデセン類よりもさらに入手
が困難であり、重合反応においてゲル状物も生成し易い
といった欠点があった。また、ラ・シミカ・エ・ル・イ
ンダストリア、第４５巻、１５２９頁（１９６３年）に
記載されたポリマーは結晶性であり、光学的等方性に欠
けるため、光学材料として用いることはできなかった。
リデン基を有する５−メチリデンノルボルネンがトラン
ス−アニュラー型重合して飽和線状ポリマーを与えるこ
とが、ラ・シミカ・エ・ル・インダストリア、第４５
巻、１５２９頁（１９６３年）、またはマクロモレキュ
ラー・ケミストリー、ラピッド・コミュニケーション、
第１巻、４６７頁（１９８０年）に記載されている。し
かし、モノマーとして使用される５−メチリデンノルボ
ルネンは前記テトラシクロドデセン類よりもさらに入手
が困難であり、重合反応においてゲル状物も生成し易い
といった欠点があった。また、ラ・シミカ・エ・ル・イ
ンダストリア、第４５巻、１５２９頁（１９６３年）に
記載されたポリマーは結晶性であり、光学的等方性に欠
けるため、光学材料として用いることはできなかった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、より安
価に入手可能なノルボルネン系モノマーを用いた光学用
高分子の開発を目的として鋭意研究の結果、特定のアル
キリデンノルボルネン類をモノマー成分として使用し、
特定のカチオン系重合触媒により重合して得られるポリ
マー中にはゲル状化物を含まず、透明性、耐熱性、耐光
性、耐湿性に優れていることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
価に入手可能なノルボルネン系モノマーを用いた光学用
高分子の開発を目的として鋭意研究の結果、特定のアル
キリデンノルボルネン類をモノマー成分として使用し、
特定のカチオン系重合触媒により重合して得られるポリ
マー中にはゲル状化物を含まず、透明性、耐熱性、耐光
性、耐湿性に優れていることを見いだし、本発明を完成
するに至った。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、化３〔式中、
Ｒ1はアルキル基を、Ｒ2は水素原子あるいはアルキル基
を示す〕で表される構造単位を主鎖の主成分として含有
する新規なアルキリデンノルボルネン系重合体、および
アルキリデンノルボルネン類をカチオン系重合触媒の存
在下に重合する前記ルキリデンノルボルネン系重合体の
製造方法を提供する。
Ｒ1はアルキル基を、Ｒ2は水素原子あるいはアルキル基
を示す〕で表される構造単位を主鎖の主成分として含有
する新規なアルキリデンノルボルネン系重合体、および
アルキリデンノルボルネン類をカチオン系重合触媒の存
在下に重合する前記ルキリデンノルボルネン系重合体の
製造方法を提供する。
【０００８】
【化３】
【０００９】本発明で用いられるアルキリデンノルボル
ネン類は化４〔式中、Ｒ1はアルキル基を、Ｒ2は水素原
子あるいはアルキル基を示す〕で表されるものであり、
具体例として、５−エチリデンノルボルネン、５−プロ
ピリデンノルボルネン、５−ｉ−プロピリデンノルボル
ネン、５−ｉ−ブチリデンノルボルネンなどが挙げられ
る。これらの単量体はブタジエン、イソプレン、１，３
−ペンタジエン、３−メチル−１，３−ペンタジエンな
どのジエン類とジシクロペンタジエンの反応によって得
られるアルケニルノルボルネン誘導体を異性化すること
により容易に得られる。これらの単量体は単独、あるい
は２種以上の混合物としても用いることができる。
ネン類は化４〔式中、Ｒ1はアルキル基を、Ｒ2は水素原
子あるいはアルキル基を示す〕で表されるものであり、
具体例として、５−エチリデンノルボルネン、５−プロ
ピリデンノルボルネン、５−ｉ−プロピリデンノルボル
ネン、５−ｉ−ブチリデンノルボルネンなどが挙げられ
る。これらの単量体はブタジエン、イソプレン、１，３
−ペンタジエン、３−メチル−１，３−ペンタジエンな
どのジエン類とジシクロペンタジエンの反応によって得
られるアルケニルノルボルネン誘導体を異性化すること
により容易に得られる。これらの単量体は単独、あるい
は２種以上の混合物としても用いることができる。
【００１０】
【化４】
【００１１】重合を行うにあたっては、得られる重合体
の成形加工性、柔軟性、機械的強度などの特性を改善す
るために、アルキリデンノルボルネン類以外にも、カチ
オン重合性単量体をアルキリデンノルボルネン類と混合
して重合することも可能である。混合して用いることが
できるカチオン重合性単量体としては、具体例として、
プロピレン、イソブテン、２−メチル−１−ブテン、２
−メチル−１−ペンテンなどモノオレフィン、ブタジエ
ン、イソプレン、１，３−ペンタジエンなどジオレフィ
ン、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン
などビニル芳香族、エチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド、トリメチレンオキサイド、ジオキサン、トリ
オキサン、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキサ
イド、エピクロルヒドリン、グリシジルフェニルエーテ
ル、フラン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類
などが挙げられる。
の成形加工性、柔軟性、機械的強度などの特性を改善す
るために、アルキリデンノルボルネン類以外にも、カチ
オン重合性単量体をアルキリデンノルボルネン類と混合
して重合することも可能である。混合して用いることが
できるカチオン重合性単量体としては、具体例として、
プロピレン、イソブテン、２−メチル−１−ブテン、２
−メチル−１−ペンテンなどモノオレフィン、ブタジエ
ン、イソプレン、１，３−ペンタジエンなどジオレフィ
ン、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン
などビニル芳香族、エチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイド、トリメチレンオキサイド、ジオキサン、トリ
オキサン、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキサ
イド、エピクロルヒドリン、グリシジルフェニルエーテ
ル、フラン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類
などが挙げられる。
【００１２】本発明のアルキリデンノルボルネン系重合
体中の化３で表される構造単位の含有割合は、通常、５
０重量％以上、好ましくは６０重量％以上、さらに好ま
しくは７０重量％以上である。本発明のアルキリデンノ
ルボルネン系重合体中の化３で表される構造単位の含有
割合が小さくなるにつれて重合体のガラス転移温度は低
下する。
体中の化３で表される構造単位の含有割合は、通常、５
０重量％以上、好ましくは６０重量％以上、さらに好ま
しくは７０重量％以上である。本発明のアルキリデンノ
ルボルネン系重合体中の化３で表される構造単位の含有
割合が小さくなるにつれて重合体のガラス転移温度は低
下する。
【００１３】本発明で使用するカチオン系重合触媒とし
ては、一般に用いられているものであればよく、ルイス
酸として、ＡｌＣｌ3、ＡｌＢｒ3、ＢＣｌ3、ＢＦ3、Ｔ
ｉＣｌ4、ＴｉＢｒ4、ＦｅＣｌ3、ＦｅＣｌ2、ＳｎＣｌ
2、ＳｎＣｌ4などのハロゲン化金属などが、プロトン酸
としては、ＨＣｌ、ＨＦ、ＨＢｒなどの水素酸や、Ｈ2
ＳＯ4、Ｈ3ＢＯ3、ＨＣｌＯ4、ＣＨ3ＣＯＯＨなどのオ
キソ酸などが挙げられる。特にルイス酸が好ましく、な
かでもホウ素、チタンのハロゲン化物、特に塩化物が好
ましい。
ては、一般に用いられているものであればよく、ルイス
酸として、ＡｌＣｌ3、ＡｌＢｒ3、ＢＣｌ3、ＢＦ3、Ｔ
ｉＣｌ4、ＴｉＢｒ4、ＦｅＣｌ3、ＦｅＣｌ2、ＳｎＣｌ
2、ＳｎＣｌ4などのハロゲン化金属などが、プロトン酸
としては、ＨＣｌ、ＨＦ、ＨＢｒなどの水素酸や、Ｈ2
ＳＯ4、Ｈ3ＢＯ3、ＨＣｌＯ4、ＣＨ3ＣＯＯＨなどのオ
キソ酸などが挙げられる。特にルイス酸が好ましく、な
かでもホウ素、チタンのハロゲン化物、特に塩化物が好
ましい。
【００１４】カチオン系重合触媒としてルイス酸および
プロトン酸から選ばれた少なくとも一種からなる触媒を
用いる場合、その使用量は、重合性単量体組成物に対
し、モル比で０．０００００１〜１倍、好ましくは０．
００００１〜０．５倍の範囲である。
プロトン酸から選ばれた少なくとも一種からなる触媒を
用いる場合、その使用量は、重合性単量体組成物に対
し、モル比で０．０００００１〜１倍、好ましくは０．
００００１〜０．５倍の範囲である。
【００１５】特にルイス酸を用いる場合は、オレフィン
のリビングカチオン重合において、いわゆるケネディ触
媒として知られている開始剤化合物との併用の形で使用
することが好ましい。
のリビングカチオン重合において、いわゆるケネディ触
媒として知られている開始剤化合物との併用の形で使用
することが好ましい。
【００１６】使用する開始剤化合物は、化５〔Ｒ1は脂
肪族炭化水素基あるいは芳香族炭化水素基、またはこれ
らの置換体、Ｒ2、Ｒ3は低級炭化水素基または芳香族炭
化水素基、Ｘはヒドロキシル基、アルコキシル基、アシ
ロキシル基、またはハロゲン、ｎは自然数を表す〕で表
される化合物であり、具体的には、tert−ブタノール、
２，４，４−トリメチル−２−メトキシペンタン、２−
フェニル−２−プロパノール、２−メトキシ−２−フェ
ニルプロパン、２，５−ジメチル−ジヒドロキシヘキサ
ン、２，５−２，５−ジメチル−２，５−ジアセトキシ
ヘキセン、２，５−ジメチル−２，５−ジクロロヘキシ
ン、２，４，４，６−テトラメチル−２，６−ジヒドロ
キシヘプタン、１，３−ビス（２−アセトキシ−２−プ
ロピル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メトキシ−２−
プロピル）ベンゼン、１，３，４−トリス（２−ブロモ
−２−プロピル）ベンゼン、１，３，５−トリス（２−
メトキシ−２−プロピル）ベンゼンなどが挙げられる。
肪族炭化水素基あるいは芳香族炭化水素基、またはこれ
らの置換体、Ｒ2、Ｒ3は低級炭化水素基または芳香族炭
化水素基、Ｘはヒドロキシル基、アルコキシル基、アシ
ロキシル基、またはハロゲン、ｎは自然数を表す〕で表
される化合物であり、具体的には、tert−ブタノール、
２，４，４−トリメチル−２−メトキシペンタン、２−
フェニル−２−プロパノール、２−メトキシ−２−フェ
ニルプロパン、２，５−ジメチル−ジヒドロキシヘキサ
ン、２，５−２，５−ジメチル−２，５−ジアセトキシ
ヘキセン、２，５−ジメチル−２，５−ジクロロヘキシ
ン、２，４，４，６−テトラメチル−２，６−ジヒドロ
キシヘプタン、１，３−ビス（２−アセトキシ−２−プ
ロピル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メトキシ−２−
プロピル）ベンゼン、１，３，４−トリス（２−ブロモ
−２−プロピル）ベンゼン、１，３，５−トリス（２−
メトキシ−２−プロピル）ベンゼンなどが挙げられる。
【００１７】
【化５】
【００１８】いわゆるケネディ触媒として用いる場合、
特にハロゲン化チタン、中でもＴｉＣｌ4を用いる場合
には、電子供与性化合物を共存させることがさらに好ま
しい。本発明で用いる電子供与性化合物は、化６
〔Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は水素、脂肪族炭化水素基、または芳
香族炭化水素基を、ＷはＮ、ＮＯ、Ｐ、ＰＯ、またはＰ
Ｓを表し、芳香族炭化水素基は窒素、酸素、硫黄等のい
わゆるヘテロ原子を含む複素環であってもよく、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3は環状構造を形成していてもよい〕、化７〔Ｒ
1、Ｒ2、Ｒ3は水素、脂肪族炭化水素基、または芳香族
炭化水素基を、ＹはＣＯ、またはＳＯ2を表し、芳香族
炭化水素基は窒素、酸素、硫黄等のいわゆるヘテロ原子
を含む複素環であってもよく、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は環状構
造を形成していてもよい〕、化８〔Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は水
素、脂肪族炭化水素基、または芳香族炭化水素基を、Ｚ
はＯ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ
2を表し、芳香族炭化水素基は窒素、酸素、硫黄等のい
わゆるヘテロ原子を含む複素環であってもよく、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3は環状構造を形成していてもよい〕、または化
９〔Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素、脂肪族炭化水素基、ま
たは芳香族炭化水素基を表し、芳香族炭化水素基は窒
素、酸素、硫黄等のいわゆるヘテロ原子を含む複素環で
あってもよく、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は環状構造を形成し
ていてもよい〕で表される化合物である。
特にハロゲン化チタン、中でもＴｉＣｌ4を用いる場合
には、電子供与性化合物を共存させることがさらに好ま
しい。本発明で用いる電子供与性化合物は、化６
〔Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は水素、脂肪族炭化水素基、または芳
香族炭化水素基を、ＷはＮ、ＮＯ、Ｐ、ＰＯ、またはＰ
Ｓを表し、芳香族炭化水素基は窒素、酸素、硫黄等のい
わゆるヘテロ原子を含む複素環であってもよく、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3は環状構造を形成していてもよい〕、化７〔Ｒ
1、Ｒ2、Ｒ3は水素、脂肪族炭化水素基、または芳香族
炭化水素基を、ＹはＣＯ、またはＳＯ2を表し、芳香族
炭化水素基は窒素、酸素、硫黄等のいわゆるヘテロ原子
を含む複素環であってもよく、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は環状構
造を形成していてもよい〕、化８〔Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は水
素、脂肪族炭化水素基、または芳香族炭化水素基を、Ｚ
はＯ、ＣＯ、ＣＯＯ、ＯＣＯＯ、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ
2を表し、芳香族炭化水素基は窒素、酸素、硫黄等のい
わゆるヘテロ原子を含む複素環であってもよく、Ｒ1、
Ｒ2、Ｒ3は環状構造を形成していてもよい〕、または化
９〔Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は水素、脂肪族炭化水素基、ま
たは芳香族炭化水素基を表し、芳香族炭化水素基は窒
素、酸素、硫黄等のいわゆるヘテロ原子を含む複素環で
あってもよく、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は環状構造を形成し
ていてもよい〕で表される化合物である。
【００１９】
【化６】
【００２０】
【化７】
【００２１】
【化８】
【００２２】
【化９】
【００２３】化６で表される電子供与性化合物の具体例
としてはジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジ
ン、チアゾール、グアニジン、N−メチルモルホリンオ
キシド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフ
ェートなどが、化７で表される電子供与性化合物の具体
例としてはアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリド
ン、マレイミド、ベンゼンスルホンアミド、サッカリン
などが、化８で表される電子供与性化合物の具体例とし
てはジエチルエーテル、フェネトール、テトラヒドロフ
ラン、ピラン、ジオキサン、テトラヒドロチオフェン、
ベンズアルデヒド、酢酸、安息香酸、無水コハク酸、ア
セトン、アセトニトリル、酢酸エチルなどが、化９で表
される電子供与性化合物の具体例としては、テトラメチ
ルウレア、ジシクロジシクロヘキシルウレア、N,N−ジ
メチルイミダゾリジノンなどが挙げられる。これらの化
合物の中でも、特にトリエチルアミン、ピリジンなどの
三級アミンまたは芳香族アミン、トリフェニルホスフィ
ン、トリフェニルホスフェートなどリン化合物、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドな
どカルボン酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フランなどエーテル、ジメチルスホキシドなどのスルホ
キシド、アセトンなどのケトン、酢酸エチルなどのエス
テルが好ましい。
としてはジエチルアミン、トリエチルアミン、ピリジ
ン、チアゾール、グアニジン、N−メチルモルホリンオ
キシド、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフ
ェートなどが、化７で表される電子供与性化合物の具体
例としてはアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリド
ン、マレイミド、ベンゼンスルホンアミド、サッカリン
などが、化８で表される電子供与性化合物の具体例とし
てはジエチルエーテル、フェネトール、テトラヒドロフ
ラン、ピラン、ジオキサン、テトラヒドロチオフェン、
ベンズアルデヒド、酢酸、安息香酸、無水コハク酸、ア
セトン、アセトニトリル、酢酸エチルなどが、化９で表
される電子供与性化合物の具体例としては、テトラメチ
ルウレア、ジシクロジシクロヘキシルウレア、N,N−ジ
メチルイミダゾリジノンなどが挙げられる。これらの化
合物の中でも、特にトリエチルアミン、ピリジンなどの
三級アミンまたは芳香族アミン、トリフェニルホスフィ
ン、トリフェニルホスフェートなどリン化合物、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドな
どカルボン酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フランなどエーテル、ジメチルスホキシドなどのスルホ
キシド、アセトンなどのケトン、酢酸エチルなどのエス
テルが好ましい。
【００２４】開始剤化合物の使用量は、ルイス酸に対
し、開始剤化合物の官能基（化５においてＸで表された
ヒドロキシル基、アルコキシル基、アルコキシル基、ま
たはハロゲン）のモル濃度で０．０１〜１倍、電子供与
性化合物の使用量は、開始剤化合物の官能基のモル濃度
で０．０１〜１００倍である。
し、開始剤化合物の官能基（化５においてＸで表された
ヒドロキシル基、アルコキシル基、アルコキシル基、ま
たはハロゲン）のモル濃度で０．０１〜１倍、電子供与
性化合物の使用量は、開始剤化合物の官能基のモル濃度
で０．０１〜１００倍である。
【００２５】重合は溶剤を使用しなくとも可能である
が、通常、塩化メチル、塩化メチレン、１，２−ジクロ
ロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２
−トリクロエタン、１，１，２−トリクロロエチレンな
どのハロゲン化炭化水素系溶剤、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、デカリン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素系
溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶
剤などを使用することが好ましい。
が、通常、塩化メチル、塩化メチレン、１，２−ジクロ
ロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，１，２
−トリクロエタン、１，１，２−トリクロロエチレンな
どのハロゲン化炭化水素系溶剤、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、オクタン、シクロペンタン、シクロヘキサ
ン、デカリン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素系
溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶
剤などを使用することが好ましい。
【００２６】重合は、通常、−１５０℃〜１００℃、好
ましくは−１００℃〜５０℃の範囲で行う。
ましくは−１００℃〜５０℃の範囲で行う。
【００２７】本発明のアルキリデンノルボルネン系重合
体は、オレフィン性結合をほとんど含まず、非結晶質で
光学的等方性を有し透明であり、同じモノマーの開環重
合体と比して高いガラス転移温度を有している。例え
ば、化３で表される構造単位のみからなる重合体の場合
はガラス転移温度が１５０℃以上のものが容易に得ら
れ、適当なコモノマーを使用することによりガラス転移
温度を調節することが可能であるが、ガラス転移温度が
１００℃以上、特に１２０℃以上にすることが好まし
い。また、分子量範囲は、デカリン中、５０℃で測定し
た極限粘度が０．１〜２０ｄｌ／ｇ、好ましくは０．２
〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．４〜５ｄｌ／ｇ
である。極性粘度が小さくなると成形品の機械的強度が
小さくなり、極性粘度が大きくなると溶融粘度が高く、
成形性が不良となる。また、本発明の重合体は、実質的
にゲルを含まず、適当な溶剤に溶解可能である。例え
ば、５０℃のデカリンに完全に溶解する。さらに、本発
明の重合体は炭化水素系のモノマーを重合しているの
で、耐湿性に優れており、２５℃の水中に２４時間浸漬
した後の吸水率は０．２％以下、好ましくは０．１％以
下である。
体は、オレフィン性結合をほとんど含まず、非結晶質で
光学的等方性を有し透明であり、同じモノマーの開環重
合体と比して高いガラス転移温度を有している。例え
ば、化３で表される構造単位のみからなる重合体の場合
はガラス転移温度が１５０℃以上のものが容易に得ら
れ、適当なコモノマーを使用することによりガラス転移
温度を調節することが可能であるが、ガラス転移温度が
１００℃以上、特に１２０℃以上にすることが好まし
い。また、分子量範囲は、デカリン中、５０℃で測定し
た極限粘度が０．１〜２０ｄｌ／ｇ、好ましくは０．２
〜１０ｄｌ／ｇ、さらに好ましくは０．４〜５ｄｌ／ｇ
である。極性粘度が小さくなると成形品の機械的強度が
小さくなり、極性粘度が大きくなると溶融粘度が高く、
成形性が不良となる。また、本発明の重合体は、実質的
にゲルを含まず、適当な溶剤に溶解可能である。例え
ば、５０℃のデカリンに完全に溶解する。さらに、本発
明の重合体は炭化水素系のモノマーを重合しているの
で、耐湿性に優れており、２５℃の水中に２４時間浸漬
した後の吸水率は０．２％以下、好ましくは０．１％以
下である。
【００２８】本発明のアルキリデンノルボルネン系重合
体は、周知の方法によって成形加工することができる。
また、成形加工にあたっては、成形性、物性などを改良
する目的で各種添加剤、例えば、繊維状および粒子状の
充填剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防
止剤、滑剤、難燃剤、顔料、染料、アンチブロッキング
剤、異種重合体、オリゴマーなどを添加してもよい。
体は、周知の方法によって成形加工することができる。
また、成形加工にあたっては、成形性、物性などを改良
する目的で各種添加剤、例えば、繊維状および粒子状の
充填剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防
止剤、滑剤、難燃剤、顔料、染料、アンチブロッキング
剤、異種重合体、オリゴマーなどを添加してもよい。
【００２９】本発明のアルキリデンノルボルネン系重合
体は非結晶質であり、ガラス転移温度が高く、耐熱性、
耐光性、耐湿性、透明性などに優れており、光学材料を
始めとして各種成形品として広範な分野において有用で
ある。例えば、光ディスク、光学レンズ、光カード、光
ファイバー、液晶表示素子基板などの光学材料、プリン
ト基板、高周波回路基板、絶縁材料などの電気用途、医
療用途、化学用材料、フィルム、シート、各種機器部品
およびハウジングなどの構造材料、建材などの種々の分
野で利用できる。
体は非結晶質であり、ガラス転移温度が高く、耐熱性、
耐光性、耐湿性、透明性などに優れており、光学材料を
始めとして各種成形品として広範な分野において有用で
ある。例えば、光ディスク、光学レンズ、光カード、光
ファイバー、液晶表示素子基板などの光学材料、プリン
ト基板、高周波回路基板、絶縁材料などの電気用途、医
療用途、化学用材料、フィルム、シート、各種機器部品
およびハウジングなどの構造材料、建材などの種々の分
野で利用できる。
【００３０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。なお、実施例中、部は、特に断りのない限
り重量基準である。
に説明する。なお、実施例中、部は、特に断りのない限
り重量基準である。
【００３１】実施例１
窒素置換した反応器に、塩化メチレン９００部、５−エ
チリデンノルボルネン１００部を仕込んだ。−50℃に保
ちながら、２−メトキシ−２−フェニルプロパン０．５
部、続いてＴｉＣｌ4３．８部を添加し、−５０℃で２
時間反応させた。反応溶液を室温のメタノール５０００
部中に注ぎ、ポリマーを凝固させた。沈澱を濾別、減圧
乾燥し、非結晶質のポリマー６３部を得た。
チリデンノルボルネン１００部を仕込んだ。−50℃に保
ちながら、２−メトキシ−２−フェニルプロパン０．５
部、続いてＴｉＣｌ4３．８部を添加し、−５０℃で２
時間反応させた。反応溶液を室温のメタノール５０００
部中に注ぎ、ポリマーを凝固させた。沈澱を濾別、減圧
乾燥し、非結晶質のポリマー６３部を得た。
【００３２】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５７ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１６３℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、トランスアニュラー
型重合に基づく８５０ｃｍ- 1に強い吸収帯が観察された
（ラ・シミカ・エ・ル・インダストリア、第４５巻、１
５２９頁（１９６３年）参照）。重クロロホロム中での
プロトンＮＭＲスペクトルによる解析の結果、０．４〜
２．６ｐｐｍに全プロトン中の９８．９％の飽和炭化水
素のプロトンが観察された。４．８〜５．６ｐｐｍにオ
レフィン性プロトンが僅かに認められたが、その割合
は、全プロトンに対して、１．１％であり、不飽和基を
有する成分は僅かであった。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５７ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１６３℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、トランスアニュラー
型重合に基づく８５０ｃｍ- 1に強い吸収帯が観察された
（ラ・シミカ・エ・ル・インダストリア、第４５巻、１
５２９頁（１９６３年）参照）。重クロロホロム中での
プロトンＮＭＲスペクトルによる解析の結果、０．４〜
２．６ｐｐｍに全プロトン中の９８．９％の飽和炭化水
素のプロトンが観察された。４．８〜５．６ｐｐｍにオ
レフィン性プロトンが僅かに認められたが、その割合
は、全プロトンに対して、１．１％であり、不飽和基を
有する成分は僅かであった。
【００３３】このポリマーを２１０℃で圧縮成形し、５
ｃｍ角、厚さ２ｍｍの試験片を作成した。成形した板は
強靭で、無色透明であった。８３０ｎｍにおける光透過
率は、９０％と良好であった。２５℃の水中に２４時間
浸漬した後の吸水率は０．０１％以下であった。
ｃｍ角、厚さ２ｍｍの試験片を作成した。成形した板は
強靭で、無色透明であった。８３０ｎｍにおける光透過
率は、９０％と良好であった。２５℃の水中に２４時間
浸漬した後の吸水率は０．０１％以下であった。
【００３４】実施例２
５−エチリデンノルボルネンの代わりに、５−エチリデ
ンノルボルネン９０部およびスチレン１０部を使用する
以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー７２
部を得た。
ンノルボルネン９０部およびスチレン１０部を使用する
以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー７２
部を得た。
【００３５】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．６１ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１５５℃の
一点であった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1
にトランスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観
察された。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペク
トルによる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭
化水素のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基
プロトンが９５：５の面積比で観察された。また、オレ
フィン性プロトンはほとんど認められなかった。ガラス
転移温度が一点であったことから、この組成物はホモポ
リマーのブレンド物ではなく、５−エチリデンノルボル
ネンとスチレンのコポリマーであることが示され、飽和
炭化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比から
コポリマー中のスチレンに由来する構造単位と化３で表
される構造単位の比率は約１１：８９であることが示さ
れた。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．６１ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１５５℃の
一点であった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1
にトランスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観
察された。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペク
トルによる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭
化水素のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基
プロトンが９５：５の面積比で観察された。また、オレ
フィン性プロトンはほとんど認められなかった。ガラス
転移温度が一点であったことから、この組成物はホモポ
リマーのブレンド物ではなく、５−エチリデンノルボル
ネンとスチレンのコポリマーであることが示され、飽和
炭化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比から
コポリマー中のスチレンに由来する構造単位と化３で表
される構造単位の比率は約１１：８９であることが示さ
れた。
【００３６】実施例１と同様にして厚さ２mmの試験片を
作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。８
３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であった。
２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．０１
％以下であった。
作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。８
３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であった。
２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．０１
％以下であった。
【００３７】実施例３
５−エチリデンノルボルネンの代わりに、５−エチリデ
ンノルボルネン５０部およびスチレン５０部を使用する
以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー６９
部を得た。
ンノルボルネン５０部およびスチレン５０部を使用する
以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー６９
部を得た。
【００３８】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５９ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１３２℃の
一点であった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1
にトランスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観
察された。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペク
トルによる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭
化水素のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基
プロトンが８４：１６の面積比で観察された。また、オ
レフィン性プロトンはほとんど認められなかった。ガラ
ス転移温度が一点であったことから、この組成物はホモ
ポリマーのブレンド物ではなく、５−エチリデンノルボ
ルネンとスチレンのコポリマーであることが示され、飽
和炭化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比か
らコポリマー中のスチレンに由来する構造単位と化３で
表される構造単位の比率は約３４：６６であることが示
された。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５９ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１３２℃の
一点であった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1
にトランスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観
察された。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペク
トルによる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭
化水素のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基
プロトンが８４：１６の面積比で観察された。また、オ
レフィン性プロトンはほとんど認められなかった。ガラ
ス転移温度が一点であったことから、この組成物はホモ
ポリマーのブレンド物ではなく、５−エチリデンノルボ
ルネンとスチレンのコポリマーであることが示され、飽
和炭化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比か
らコポリマー中のスチレンに由来する構造単位と化３で
表される構造単位の比率は約３４：６６であることが示
された。
【００３９】実施例１と同様にして厚さ２ｍｍの試験片
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
【００４０】実施例４
５−エチリデンノルボルネンの代わりに、５−エチリデ
ンノルボルネン９５部およびシクロヘキセンオキサイド
５部を使用する以外は実施例１と同様にして、非結晶質
のポリマー４８部を得た。
ンノルボルネン９５部およびシクロヘキセンオキサイド
５部を使用する以外は実施例１と同様にして、非結晶質
のポリマー４８部を得た。
【００４１】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．４５ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１４８℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペクトルに
よる解析の結果、０．４〜３．０ｐｐｍに全プロトン中
の９９．３％の飽和炭化水素のプロトンが観察された。
また、４．８〜５．６ｐｐｍにオレフィン性プロトンが
僅かに認められたが、その割合は、全プロトンに対し
て、０．７％であり、不飽和基を有する成分は僅かであ
った。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．４５ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１４８℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペクトルに
よる解析の結果、０．４〜３．０ｐｐｍに全プロトン中
の９９．３％の飽和炭化水素のプロトンが観察された。
また、４．８〜５．６ｐｐｍにオレフィン性プロトンが
僅かに認められたが、その割合は、全プロトンに対し
て、０．７％であり、不飽和基を有する成分は僅かであ
った。
【００４２】実施例１と同様にして厚さ２ｍｍの試験片
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
１％以下であった。
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
１％以下であった。
【００４３】実施例５
５−エチリデンノルボルネンの代わりに、５−エチリデ
ンノルボルネン９０部およびα−メチルスチレン１０部
を使用する以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポ
リマー９５部を得た。
ンノルボルネン９０部およびα−メチルスチレン１０部
を使用する以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポ
リマー９５部を得た。
【００４４】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５９ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１６０℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペクトルに
よる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭化水素
のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基プロト
ンが９６：４の面積比で観察された。オレフィン性プロ
トンはほとんど認められなかった。ガラス転移温度が一
点であったことから、この組成物はホモポリマーのブレ
ンド物ではなく、５−エチリデンノルボルネンとα−メ
チルスチレンのコポリマーであることが示され、飽和炭
化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比から、
コポリマー中のα−スチレンに由来する構造と化３で表
される構造単位の比率は約１２：８８であることが示さ
れた。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５９ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１６０℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペクトルに
よる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭化水素
のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基プロト
ンが９６：４の面積比で観察された。オレフィン性プロ
トンはほとんど認められなかった。ガラス転移温度が一
点であったことから、この組成物はホモポリマーのブレ
ンド物ではなく、５−エチリデンノルボルネンとα−メ
チルスチレンのコポリマーであることが示され、飽和炭
化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比から、
コポリマー中のα−スチレンに由来する構造と化３で表
される構造単位の比率は約１２：８８であることが示さ
れた。
【００４５】実施例１と同様にして厚さ２ｍｍの試験片
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
【００４６】実施例６
５−エチリデンノルボルネンの代わりに、５−エチリデ
ンノルボルネン７５部およびα−メチルスチレン２５部
を使用する以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポ
リマー９３部を得た。
ンノルボルネン７５部およびα−メチルスチレン２５部
を使用する以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポ
リマー９３部を得た。
【００４７】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５６ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１６０℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペクトルに
よる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭化水素
のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基プロト
ンが９０：１０の面積比で観察された。オレフィン性プ
ロトンはほとんど認められなかった。ガラス転移温度が
一点であったことから、この組成物はホモポリマーのブ
レンド物ではなく、５−エチリデンノルボルネンとα−
メチルスチレンのコポリマーであることが示され、飽和
炭化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比か
ら、コポリマー中のα−スチレンに由来する構造と化３
で表される構造単位の比率は約２７：７３であることが
示された。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５６ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１６０℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。重クロロホロム中でのプロトンＮＭＲスペクトルに
よる解析の結果、０．４〜２．７ｐｐｍに飽和炭化水素
のプロトン、６．８〜７．１ｐｐｍにフェニル基プロト
ンが９０：１０の面積比で観察された。オレフィン性プ
ロトンはほとんど認められなかった。ガラス転移温度が
一点であったことから、この組成物はホモポリマーのブ
レンド物ではなく、５−エチリデンノルボルネンとα−
メチルスチレンのコポリマーであることが示され、飽和
炭化水素のプロトンとフェニル基プロトンの面積比か
ら、コポリマー中のα−スチレンに由来する構造と化３
で表される構造単位の比率は約２７：７３であることが
示された。
【００４８】実施例１と同様にして厚さ２ｍｍの試験片
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
【００４９】実施例７
５−エチリデンノルボルネンの代わりに、５−エチリデ
ンノルボルネン９０部およびイソブテン１０部を使用す
る以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー８
０部を得た。
ンノルボルネン９０部およびイソブテン１０部を使用す
る以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー８
０部を得た。
【００５０】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．６２ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１４２℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。オレフィン性プロトンはほとんど認められなかっ
た。ガラス転移温度が一点であったことから、この組成
物はホモポリマーのブレンド物ではなく、５−エチリデ
ンノルボルネンとイソブテンのコポリマーであることが
示された。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．６２ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１４２℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。オレフィン性プロトンはほとんど認められなかっ
た。ガラス転移温度が一点であったことから、この組成
物はホモポリマーのブレンド物ではなく、５−エチリデ
ンノルボルネンとイソブテンのコポリマーであることが
示された。
【００５１】実施例１と同様にして厚さ２ｍｍの試験片
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
【００５２】実施例８
５−エチリデンノルボルネンの代わりに、５−エチリデ
ンノルボルネン７５部およびイソブテン２５部を使用す
る以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー７
５部を得た。
ンノルボルネン７５部およびイソブテン２５部を使用す
る以外は実施例１と同様にして、非結晶質のポリマー７
５部を得た。
【００５３】得られたポリマーはデカリンに完全に溶解
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５８ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１３８℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。オレフィン性プロトンはほとんど認められなかっ
た。ガラス転移温度が一点であったことから、この組成
物はホモポリマーのブレンド物ではなく、５−エチリデ
ンノルボルネンとイソブテンのコポリマーであることが
示された。
し、デカリン中５０℃で測定した極限粘度は０．５８ｄ
ｌ／ｇ、ＤＳＣ分析によるガラス転移温度は１３８℃で
あった。赤外吸収スペクトルには、８５０ｃｍ-1にトラ
ンスアニュラー型重合体に基づく強い吸収帯が観察され
た。オレフィン性プロトンはほとんど認められなかっ
た。ガラス転移温度が一点であったことから、この組成
物はホモポリマーのブレンド物ではなく、５−エチリデ
ンノルボルネンとイソブテンのコポリマーであることが
示された。
【００５４】実施例１と同様にして厚さ２ｍｍの試験片
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
を作成した。成形した板は強靭で、無色透明であった。
８３０ｎｍにおける光透過率は、９０％と良好であっ
た。２５℃の水中に２４時間浸漬した後の吸水率は０．
０１％以下であった。
【００５５】
【発明の効果】これらの結果から、本発明のアルキリデ
ンノルボルネン系重合体が、耐光性、透明性、耐熱性、
耐湿性に優れていることがわかった。
ンノルボルネン系重合体が、耐光性、透明性、耐熱性、
耐湿性に優れていることがわかった。
─────────────────────────────────────────────────────
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(72)発明者 夏梅 伊男
神奈川県川崎市川崎区夜光１−２−１ 日
本ゼオン株式会社研究開発センター内
Claims (2)
- 【請求項１】 化１〔式中、Ｒ1はアルキル基を、Ｒ2は
水素原子あるいはアルキル基を示す。〕で表される構造
単位を主鎖の主成分として含有することを特徴とするア
ルキリデンノルボルネン系重合体。 【化１】 - 【請求項２】 化２〔式中、Ｒ1はアルキル基を、Ｒ2は
水素原子あるいはアルキル基を示す。〕で表されるアル
キリデンノルボルネン類、または化２で表されるアルキ
リデンノルボルネン類及びそれとカチオン重合するコモ
ノマーとの混合物をカチオン系重合触媒の存在下に重合
することを特徴とする請求項１記載のアルキリデンノル
ボルネン系重合体の製造方法。 【化２】
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- 1993-07-16 US US08/092,585 patent/US5399646A/en not_active Expired - Fee Related
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