JPH05251422A - ウェットエッチング装置 - Google Patents

ウェットエッチング装置

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Publication number
JPH05251422A
JPH05251422A JP5057092A JP5057092A JPH05251422A JP H05251422 A JPH05251422 A JP H05251422A JP 5057092 A JP5057092 A JP 5057092A JP 5057092 A JP5057092 A JP 5057092A JP H05251422 A JPH05251422 A JP H05251422A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
shower
liquid
valve
wet etching
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5057092A
Other languages
English (en)
Inventor
Morimitsu Tanaka
盛光 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP5057092A priority Critical patent/JPH05251422A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェットエッチング装置において、シャワー
槽内の液の排液時間短縮とシャワー能力向上による純水
置換能力を向上させる。 【構成】 排液槽4内の空気をロータリーポンプ9で排
気することである。ロータリーポンプ9にて排液槽4内
を排気することで槽内を負圧状態にし、シャワー槽1の
排液を自然流下とシャワー槽1と排液槽4の圧力差によ
る吸引力で排液し、排液時間を短縮する。又、シャワー
槽1を密閉しロータリーポンプ9にて槽内を排気しなが
らシャワー給水することにより、シャワー能力が向上す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置に関
し、特にウェハー上の酸化膜、ポリシリ、窒化膜、アル
ミを薬液にてエッチングするウェットエッチング装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来のウェットエッチング装置のシャワ
ー槽の構成を図2に示す。シャワー槽1内にはシャワー
ノズル3が備えられており、シャワー槽1内の排液は、
バルブ5の開閉にて行い、自然流下方式であった。その
ため、シャワー槽1内の液の排液時間は、バルブ5の径
によって決まっていた。
【0003】又、従来のウェットエッチング装置では、
シャワー槽1の純水シャワーの噴出圧力は、シャワーノ
ズル3にかかる装置の純水用力の圧力により決定づけら
れていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この従来のウェットエ
ッチング装置のシャワー槽では、シャワー槽内の液の排
液方法が自然流下式であり、液の排液時間が排液ダクト
の径で決定されるため、排液に一定の時間が掛かり、薬
液で処理されたウェハーの純水置換が遅れるという問題
があった。また、シャワー槽のシャワーの噴出圧力が装
置の純水用力の圧力で決定されるため、用力以上の噴出
力を得られないという問題があった。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明のウェットエッチ
ング装置は、シャワー槽上部に槽内密閉用のフタと、シ
ャワー槽下部に排液槽を設け、密閉されたシャワー槽内
の空気と排液槽内の空気を排気するロータリーポンプを
備えている。
【0006】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
【0007】図1は、本発明の実施例のシャワー槽と排
液槽近傍の断面図である。シャワー槽1の上部にシャワ
ー槽カバー2、シャワー槽1の内部にシャワーノズル
3、シャワー槽1の下部に排液槽4、シャワー槽1と排
液槽4の間にバルブ5、排液槽4の下部にバルブ6を設
置する。又、シャワー槽1の上部に排気管10、排液槽
4の上部に排気管11、そして排気管10と排気管11
の間に排気管12、排気管12の先にロータリーポンプ
9、排気管10と排気管12の間にバルブ7、排気管1
1と排気管12の間にバルブ8を設置する。
【0008】バルブ5,バルブ6,バルブ7を閉じ、バ
ルブ8を開き、ロータリーポンプ9にて排液槽4中の空
気を真空度1Paまで吸引する。シャワー槽1中の純水の
排液時には、バルブ8を閉じ、バルブ5を開き、排液槽
4にシャワー槽1の純水を排液する。排液後、バルブ5
を閉じ、バルブ6を開き、排液槽4中の液を排液する。
【0009】シャワー槽1への給水時には、シャワー槽
カバー2を閉じシャワー槽1を密閉状態にし、シャワー
ノズル3より給水を行う。給水と同時にバルブ7を開
き、ロータリーポンプ9にてシャワー槽1内の空気を真
空度1Paまで吸引する。
【0010】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、排液槽
内の空気をロータリーポンプにて真空度1Paまで吸引す
ることにより、排液時間が自然流下だけの場合の半分で
行えるため、純水置換が迅速に出来るという効果を有す
る。又、シャワー槽を密閉し槽内の空気をロータリーポ
ンプにより真空度1Paまで吸引することにより、純水用
力の圧力が1.0kg/cm2の時、シャワー槽内のシャワー
圧は1.0kg/cm2以上得られるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のウェットエッチング装置のシャワー槽
の一実施例の断面図である。
【図2】従来のウェットエッチング装置のシャワー槽の
断面図である。
【符号の説明】
1 シャワー槽 2 シャワー槽カバー 3 シャワーノズル 4 排液槽 5 バルブ 6 バルブ 7 バルブ 8 バルブ 9 ロータリーポンプ 10 排気管 11 排気管 12 排気管

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シャワー槽を有するウェットエッチング
    装置において、前記シャワー槽上部に槽内密閉用のフタ
    が備えられ、かつ前記シャワー槽下部に排液槽が備えら
    れて、前記シャワー槽と前記排液槽とを負圧にするロー
    タリーポンプを備えていることを特徴とするウェットエ
    ッチング装置。
JP5057092A 1992-03-09 1992-03-09 ウェットエッチング装置 Withdrawn JPH05251422A (ja)

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JP5057092A JPH05251422A (ja) 1992-03-09 1992-03-09 ウェットエッチング装置

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JP5057092A JPH05251422A (ja) 1992-03-09 1992-03-09 ウェットエッチング装置

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Publication Number Publication Date
JPH05251422A true JPH05251422A (ja) 1993-09-28

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ID=12862665

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JP (1) JPH05251422A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5970698A (en) * 1996-11-14 1999-10-26 Howa Machinery, Ltd. Rotary spinning ring structure

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5970698A (en) * 1996-11-14 1999-10-26 Howa Machinery, Ltd. Rotary spinning ring structure

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Legal Events

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A300 Withdrawal of application because of no request for examination

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Effective date: 19990518