JPH05248954A - 改良されたマルチチャンネル検出分散形分光測定装置 - Google Patents
改良されたマルチチャンネル検出分散形分光測定装置Info
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Abstract
学的寸法によって制限されることがないマルチチャンネ
ル検出分散形分光測定装置。 【構成】 入口(Fe)、入射ビーム(ON)を受光し
てそのビームのスペクトル的に分散された像であって、
選択されたスペクトルバンド(BZ)に制限された像を
発生する光学的フィルター手段(MF)、上記スペクト
ル像を受光するマルチチャンネル検出モジュール(D
M)、プロセッサー手段(UT)を含み、光学的フィル
ター手段(MF)は、偏向器段(DF)を備え、光学的
偏向器手段には、中心周波数およびバンド幅によってス
ペクトルを規定するための制御手段(AJ1)及びスペ
クトル像を検出モジュール上に変位させるための制御手
段(AJ2)が付随している。電子制御ユニット(UC
E)は、第1および第2の制御手段(AJ1,AJ
2)、プロセッサー手段(UT)を制御するために設け
られている。
Description
方式の分散形分光測定法に関する。
け吸収、発光、拡散、蛍光、ラマンなどの分光測定法に
適用可能である。
光測定装置は、古くから知られている。一般に、このタ
イプの装置は、分析すべき電磁放射ビームによって照射
される入射スリット、上記ビームの分散されたスペクト
ル像であって、選択されたスペクトルバンドに制限され
たスペクトル像を射出する出射スリットを有する分散
段、上記出射スリットを介して上記スペクトル像を受光
するシングルチャンネル検出モジュール、およびシング
ルチャンネル検出モジュールによって受光された信号を
解析するためのプロセッサー手段を含む。
ールは、フォトセル、光電子増倍管、またはサーモパイ
ルなどの光電検出器要素からなる。
成分の一つが出射スリットを通り、その結果シングルチ
ャンネル検出モジュールによって検出される。従って、
分散要素を変位(displace)させて他のスペクトル成分
を各々出射スリットに通す必要がある。
送デバイスなどの集積された検出器要素が入手可能であ
り、それらはイメージ増倍システムと有利に結合するこ
とができるので、シングルチャンネル検出法は多くの場
合マルチチャンネル検出法によって取って代わられてい
る。というのも、マルチチャンネル検出法は、分散され
たスペクトル像をマルチチャンネル検出モジュール上に
直接、すなわち出射スリットを通すことなく、投影する
ことができ、そのため装置の相対的配置を変更すること
なしに電磁放射の複数のスペクトル成分を同時に検出す
ることができるからである。
磁放射のスペクトルを得るための信号取得は、その電磁
放射の分散されたスペクトル像がマルチチャンネル検出
モジュールに対して静止している時に行われ、そのため
にスペクトル幅が検出モジュールの幾何学的寸法に制限
され、装置のスペクトル分解能が検出器要素のスペクト
ル分解能に制限される。
素に結合されている時、連続するスペクトルは常に同一
の発光蛍光体を用いて観察される。その結果、上記蛍光
体の速度によって装置の時間的分解能が決定される。
って拡散された光に起因する干渉光のレベルはシングル
チャンネル検出装置におけるよりも高い。シングルチャ
ンネル検出法の場合、このレベルは、一般に非常に狭く
設定される(たとえば、差し渡し数十ミクロン)入射ス
リットおよび出射スリットの面積に比例する。マルチチ
ャンネル検出法の場合、分散段からの分散されたスペク
トル像が検出器モジュール上に直接投影されるとすれば
(マルチチャンネル検出法では出射スリットを用いな
い)、干渉光のレベルは検出モジュールの面積(数平方
センチメートル程度)に比例する。
わけ検出モジュールそれ自体に起因する雑音、外乱によ
って引き起こされた雑音、および干渉光の連続的なバッ
クグラウンドによってあるいは干渉スペクトルバンドに
よって照射されている検出モジュールによって発生され
た光子雑音のために、不満足なものである。
ル検出法による分散形分光測定装置を提供し、それは、
分析すべき電磁放射ビームの入口、入射ビームを受光し
てそのビームの分散されたスペクトル像であって、選択
されたスペクトルバンドに制限されたスペクトル像を発
生するのに好適な光学的フィルター手段、上記スペクト
ル像を受光する複数の検出器要素からなるマルチチャン
ネル検出器モジュール、および上記検出器要素によって
検出された信号を解析するためのプロセッサー手段を含
む。
ルター手段は少なくとも一つの偏向器段を備え、光学的
フィルター手段には、上記スペクトルバンドの中心周波
数およびバンド幅を定める第1の制御手段およびマルチ
チャンネル検出モジュール上でスペクトル像を変位させ
るのに好適な第2の制御手段が付随し、さらに、各々上
記選択されたスペクトルバンド、スペクトル像の変位、
およびプロセッサー手段を共同制御(joint control )
することを含む複数の動作モードにおいて、選択された
所定の検出器要素の組を使用するために、第1および第
2の制御手段並びにプロセッサー手段を制御するのに適
当な電子制御手段が設けられている。
御ユニットは、所定の検出器要素の組の上に選択された
倍率のスペクトル像を得るためにあらかじめ定められた
規則に従うように、選択されたスペクトルバンド、スペ
クトル像の変位(displacement)、およびプロセッサー
手段の共同制御パラメータを適合(adapt )させる。
拡大により、検出モジュールの幾何学的寸法によって制
限されずに分析すべき電磁放射のスペクトル幅を定める
ことが可能になる。
スペクトル分解能が検出器要素の幾何学的寸法によって
制限されることはもはやなくなる。
ジュール上を変位することによって連続するスペクトル
が異なる蛍光体上で観察される限り、装置の時間的分解
能はもはやイメージ増倍管の発光蛍光体の速度に左右さ
れることはない。
起因する干渉光のレベルは、狭通過帯域光学的フィルタ
ー手段によって減少される。
たスペクトル像によって励起された検出器要素の選択的
な電子読み取りによって改善される。
たスペクトルバンド、スペクトル像の変位、およびプロ
セッサー手段の共同制御パラメータを連続的に適合させ
ることによって、所定の検出器要素の組の上のスペクト
ル像の選択された倍率を連続的に変更することを可能に
する。
択されたスペクトルバンド、スペクトル像の変位、およ
びプロセッサー手段の共同制御パラメータをシーケンシ
ャルに適合させることにより、所定の検出器要素の組の
上のスペクトル像の選択された倍率を連続的に変更する
ことを可能にする。
像の選択された倍率は、所定の検出器要素の組の上の上
記スペクトル像の分散を拡大する。
ル像の選択された倍率は、所定の検出器要素の組の上の
上記像の分散を縮小させる。
リズムによって構成される群から選択された少なくとも
一つの分散光学要素を有する。
鏡、球面鏡および非球面鏡、ホログラフィックシステ
ム、スリット、並びに干渉計によって構成される群から
選択された少なくとも一つの光学要素を有する。
場合には検出器要素に対するシャッター手段と結合した
検出器要素増倍システム、スリット走査カメラ、および
光学的拡大系によって構成される群から選択された少な
くとも一つのオプトエレクトロニクス要素を有する。
収容されている。
電磁放射ビームの分散方向に平行に一列に配置されたN
個の検出器要素からなり、所定の検出器要素の組の上の
スペクトル像の選択された拡大は電磁放射ビームの上記
分散方向に平行である。
射ビームの分散方向に平行な方向にm行および上記ビー
ムの分散方向に垂直な方向にp列として配置されたN個
の検出器要素からなり、選択された所定の検出器要素の
組を構成するm’の所定の行およびp’の所定の列上の
スペクトル像の選択された拡大は上記m’の所定の行上
では電磁放射ビームの分散方向に平行であり、上記p’
の所定の列上では放射ビームの分散方向に垂直である。
制御ユニットによって制御されるのに適した次数分離手
段(order separation means)を含む。
の詳細な説明および添付図面に照らして明らかになる。
うマルチチャンネル検出分散形分光測定装置を示す。
電磁放射ビームONに対する入口E、入射ビームONを
受け入れ、そのビームの分散されたスペクトル像であっ
て、選択されたスペクトルバンドBZに制限されている
スペクトル像ISを発生するのに好適な光学的フィルタ
リング手段MF、上記スペクトル像ISを受光する複数
の検出器要素ELからなるマルチチャンネル検出モジュ
ールDM、および上記検出器要素ELによって検出され
た信号を解析するためのプロセッサー手段UTを含む。
ルター手段MFは少なくとも一つの偏向器段DFを備え
ている。
クトルバンドの中心周波数およびバンド幅を規定するた
めの第1の制御手段AJ1、およびマルチチャンネル検
出モジュールDM上にスペクトル像ISを変位させるの
に適した第2の制御手段AJ2が付随している。
2の制御手段AJ1およびAJ2並びにプロセッサー手
段UTを種々の異なる動作モードにて制御するのに好適
に設けられている。各動作モードは、上記選択されたス
ペクトルバンド、スペクトル像の変位、およびプロセッ
サー手段の共同制御を含み、それによって選択された所
定の組の検出器要素を使用する。
ってスペクトルバンドを規定する光学的フィルタリング
手段MFは選択された寸法のスペクトル窓を分離する光
学マスクに対応し、また、選択された所定の検出器要素
の組をこのようにして規定された光学マスクに対応する
ようにして使用することは、選択された検出器要素の組
のみを考慮に入れる電子マスクを備えることと等価であ
ることを見出だした。
電子制御ユニットUCEは、選択されたスペクトルバン
ド(すなわち、光学マスク)、スペクトル像の変位、お
よびプロセッサー手段UT(すなわち、電子マスク)の
共同制御のパラメータを、所定の検出器要素ELの組の
上に選択された倍率の分散されたスペクトル像を発生さ
せるためにあらかじめ定められた規則に従うように適合
させることができることを見出だした。
分散されたスペクトル像のこの選択された拡大は、マル
チチャンネル検出分光測定装置の効率を、特に感度およ
び検出器要素によって検出された信号の読みだし速度に
関して改善する。
ンド、スペクトル像の変位、およびプロセッサー手段の
共同制御のパラメータを連続的に適合させることが可能
であり、それによって所定の検出器要素の組の上の分散
されたスペクトル像の倍率を連続的に変化させることが
可能である。
ルバンド、スペクトル像の変位、およびプロセッサー手
段の共同制御のパラメータをシーケンシャルに適合させ
ることも可能であり、それによって所定の検出器要素の
組の上の分散されたスペクトル像の倍率をシーケンシャ
ルに変化させることが可能である。
ャルに適合させることにより、スペクトルの所定の部分
をその各スペクトル像を本発明によって異なる倍率にし
つつ選択し、これらのスペクトル像を検出器モジュール
上に端と端を合わせて配置することが可能である。この
ようなシーケンシャルな適合は、多数のスペクトル線を
有する複雑なスペクトルを分析するのに特に適してい
る。
されたスペクトルバンドに対応する光学マスクの線図で
ある図2を参照する。
Amoおよび(Y軸方向OYに)高さBmoを有する平
行四辺形Ao中に描かれている。
Xに平行で、Y軸OYに垂直である。光学マスクMoに
よって規定されるスペクトル窓は、(X軸方向OXに)
幅Afoおよび(Y軸方向OYに)高さBfoを有す
る。
制御手段AJ1はスペクトル窓の寸法AfoおよびBf
o、すなわちスペクトルバンドを調整する。
foによって画成された領域の外側は電磁放射に対して
不透明であるが、上記マスク内は電磁放射に対して透明
であることに注意しなければならない。
出モジュールDMの前には、たとえば、イメージ増倍管
(図示せず)が置かれており、イメージ増倍管中ではス
ペクトル像を受光したフォトカソードから放出された電
子が加速され、2次放出によって増幅を行うマイクロチ
ャンネルプレートに向けられる。2次電子のビームは加
速され、検出器要素に光学的に結合されている蛍光スク
リーンに衝突する。
は光ファイバー束FOによってマルチチャンネル検出モ
ジュールの検出器要素ELに結合されていてよい。
は、電子制御ユニットUCEによって制御されるプロセ
ッサー手段UTが続き、検出モジュールによって受光さ
れた信号の関数として複数の電磁放射スペクトルSが確
立される。
モジュールの検出器要素によって発生された信号を、ス
ペクトルのライブラリーを入れるのに適した参照メモリ
(図示せず)から発生される参照信号の関数として処理
するのに適した測定手段(図示せず)を含んでいてよ
い。
く、分析すべき電磁放射ビームの分散方向に平行な方向
に一列に配置されたN個の検出器要素からなっていてよ
い。そのような1次元検出器を用いる場合、所定の検出
器要素の上の分散されたスペクトル像の拡大は電磁放射
ビームの上記分散方向に平行である。
され、図2を参照して述べられた光学マスクに対応する
電子マスクを示す図3を参照する。
ームの分散DSに平行に延びるm行、および上記ビーム
の分散に垂直に延びるp列として配置されたN個の検出
器要素ELからなる(図示の場合、mおよびpはいずれ
も9である)。
Belを有する。2次元検出モジュールは、高さBdm
および幅Admを有する。
feを有する選択された所定の検出器要素の組J1(図
3の斜線部)を使用する電子マスクは、図2を参照して
述べられた光学マスクMoに対応するように関連づけら
れている。
慮に入れることができることに注意すべきである。
合されて選択された所定の組の検出器要素を使用する。
対して、分散されたスペクトル像の拡大は検出器要素の
所定の組J1のm’行(図示の場合、m’は5である)
にわたって電磁放射ビームの上記分散に平行に行われ、
検出器要素の所定の組J1のp’列(図示の場合、p’
は5である)にわたって上記分散に垂直に行われる。
の装置の一例を示している図4を参照する。
ONを入射スリットFe上に集束させる。
11およびM13の間に配置された分散格子Reからな
る分散段DIに入射する。有利には、ミラーM12が格
子Reの裏面に固着される。
されたスペクトル像を、ミラーM15を介して偏向器段
DFへ伝達される電磁放射のスペクトルバンドのバンド
幅を選択する調整可能な幅を有する中間スリットFi上
にフォーカスする。
M16およびM18の間に配置された分散格子Rsから
なる。有利には、ミラーM17が格子Rsの裏面に固着
される。
トFiは、光学的に互いに共役である。
チャンネル検出器モジュールの検出器要素の面積に関係
する所定の条件を満たし、装置のスペクトル分解能を規
定する。
手段AJ12は、選択されたスペクトルバンドを決定す
るために中間スリットFiの幅及びその位置、すなわち
図2を参照して述べられた光学マスクMoの寸法を調整
する。
制御手段AJ11は格子Reを制御された速度V1で変
位させ、選択されたスペクトル像が偏向器段に入射でき
るようにする。
に、制御手段AJ2は格子Rsを制御された速度V2で
変位させ、検出モジュールに対してスペクトル像を変位
させる。
ュールの平面内で測定されたスペクトル像の変位速度で
あることに注意すべきである。
の制御下に、プロセッサー手段UTは所定の組J1を制
御された速度V3で変位させる。
は、スペクトルバンド(光学マスク)、分散されたスペ
クトル像の変位、およびプロセッサー手段(電子マス
ク)の共同制御パラメータ(たとえば、V1,V2,お
よびV3)を、所定の検出器要素の組J1の上に選択さ
れた倍率の分散されたスペクトル像を得るためにあらか
じめ定められた規則に従うように適合させる。
合した光学的フィルター手段MFとともに用いるのに好
適であるということに注意すべきである。
れたスペクトル像の倍率が所定の規則に従って変化する
様子を示す図5を参照する。
V3はゼロ、すなわちスペクトル分散DSが発生する方
向に垂直な方向への偏向はないものとする。電子マスク
の速度V3は、光学マスクの速度V1に等しい。
は電子マスクの幅Afeに等しく、従って光学マスクお
よび電子マスクは同一の寸法および同一の変位速度を有
する(V1=V3)。
びV2で変位される。分散されたスペクトル像の倍率G
はX軸OXに沿ってプロットされ、変位速度の比V1/
V2はY軸OYに沿ってプロットされている。
クトル像の倍率Gは式D=1+V1/V2で表される直
線Dに従って変化することを見出だした。
て、倍率Gは1より大きな値を有する(R1)、すなわ
ち分散されたスペクトル像は組J1上で拡大される。
時、倍率Gは0から1の範囲の値を有する(R2)、す
なわち分散されたスペクトル像は組J1上で縮小され
る。
時、倍率Gは0からー1の範囲の値を有する(R3)、
すなわち分散は縮小されると同時に反転される。
はー1より小さな値を有する(R4)、すなわち分散さ
れたスペクトル像は組J1上で拡大される。
rs)および光学的表面中での拡散、さらには検出器の使
用されていない領域に起因する固有または誘導ノイズお
よび連続的バックグラウンドおよび光学系中の干渉的拡
散に起因する干渉光のレベルおよび干渉像に対応するバ
ンドを減少させる。
の検出要素の離散的構造に起因する欠点を除去する。
の装置の一例を示している図6を参照する。
し、ただ分散格子型の偏向器段がミラーM25を有する
タイプの偏向器段DFによって置き換えられている点に
おいてのみ相違する。
手段AJ2は、ミラーM25を制御された速度V2で変
位させて検出モジュールDMに対してスペクトル像を変
位させる。
時は、最終的な分解能は偏向器段中での分散の恩恵を受
けることがなく、従って分散段それ自身の回折およびス
リット幅によって制限されることに注意しなければなら
ない。
れたスペクトル像の倍率が所定の規則に従って変化する
様子を示す図7を参照する。
Xに沿ってプロットされ、変位速度の比V1/V2はY
軸OYに沿ってプロットされている。
クトル像の倍率Gの変化は式D=2V1/V2で表され
る直線Dに従うことを見出だした。
大きい時、倍率Gは1より大きな値を有する(R1)、
すなわち分散されたスペクトル像は組J1上で拡大され
る。比V1/V2が0から0.5の範囲にある時、倍率
Gの値は0から1の範囲にある(R2)、すなわち分散
されたスペクトル像は組J1上で縮小される。
る時、倍率Gの値は0からー1の範囲にある(R3)、
すなわち分散は縮小されると同時に反転される。
率Gの値はー1より小さい(R4)、すなわち分散され
たスペクトル像は組J1上で拡大される。
段を有する本発明の装置の一例を示す図8を参照する。
成要素を有し、ただ分散格子型の偏向器段またはミラー
型の偏向器段がオプトエレクトロニクス型の偏向器段D
Fによって置き換えられている点においてのみ相違す
る。
前には、分散段DIによって発生された分散されたスペ
クトル像をミラーM13を介して直接受像するフォトカ
ソードPCを含む偏向器段DFが配置されている。
てマイクロチャンネルプレート(図示せず)に向けて偏
向され、そこで2次放出によって増幅が行われる。2次
電子ビームは加速されて検出器要素に光学的に結合され
ている蛍光スクリーンに衝突する。
手段AJ2は、電子偏向プレートPDの電位を制御され
た速度V2で変化させ、スペクトル像を検出モジュール
DMに対して変位させる。
出器要素を迅速に停止(shut off)させることが可能で
あり、従って分光測定装置の時間的分解能を改善するこ
とが可能であることに注意すべきである。
れたオプトエレクトロニクス型の時に有利である。とい
うのも、蛍光体の減衰時間に起因する”スミアー”効果
を回避することができるからである。
過窓の幅が検出モジュールDM中の単一の検出器要素E
Lの幅Aelよりずっと広く、かつ偏向器段DFの変位
速度V2が0の時、分散段DIの光学マスクMoによっ
て分離されたスペクトル窓は速度V1で移動し、そのた
め分散されたスペクトル像は所定の検出器要素の組J1
を静止状態で照明するようにして偏向器段に入射するこ
とに注意すべきである。
位に適用される規則が同一ならば、得られるスペクトル
は従来の動作におけるのと同一の分散および同一のスペ
クトル分解能を有するが、干渉光のレベルは光学マスク
Moおよび電子マスクMeの面積に比例して減少してい
る。
ロでない時、光学マスクMoによって分離されたスペク
トル窓がスペクトル中を速度V1で移動している間、分
散されたスペクトル像は検出器モジュールDm上を速度
V2で移動する。そのため、検出器モジュール中の各検
出器要素によって受光された異なる放射が混じりあい、
スペクトルがごちゃまぜになってしまう。
よび偏向器段の光学要素の制御された速度V1およびV
2での連続する直線および/または回転変位を、信号プ
ロセッサー手段UTによって同期された不連続的な変位
で置き換えることにより改善される。
読みだしサイクルで光学的に重複することなく一つずつ
分析され、各検出器の読み出しに対応する信号はプロセ
ッサー手段UTによって別々に記憶される。
得られたすべてのデータを考慮に入れて複合スペクトル
を再生する。
数の点iでサンプリングするとir回の一組の強度測定
がなされるので、この操作はいくつかの改善を生み出
す。
器要素ELの幅Aelより小さければ、多数の点にわた
ってスペクトル線プロフィールをサンプリングすること
で検出器の構造が離散的であることによる分解能の低下
を抑制することが可能になる。
係数Ael/qだけ改善される。
器要素の幅Aelと検出モジュールの幅の間にあるなら
ば、スペクトルの異なる部分を反復並置することによる
再生は、第1にスペクトルフィールドを拡大し、第2に
検出モジュールの検出器要素間の小さな感度差を取り除
く。
ド強度に変動を生じさせる光学的口径食効果が減少す
る。
トル像の変位、およびプロセッサー手段(電子マスク)
の共同制御の速度V1,V2,およびV3は、上述のよ
うに、スペクトル分散DSに平行な方向およびスペクト
ル分散DSに垂直な方向の両方向に適合される。
により、分散されたスペクトル像と検出モジュール平面
の間に任意の相対的変位を達成することが可能である。
的な方法でフレームの転送または列の転送を行うことに
より、これら2つの方向OXおよびOYにおける適合と
等価なことの実行を可能にする。
X)がその垂直成分(OY)と異なる時、電子マスクの
変位は不連続であって検出モジュールが停止(shut of
f)する期間と同期される。
位ピッチは、好ましくは光学的スペクトルを近接したス
ペクトル領域に分割することに相当するように選択され
る。スペクトル分散に垂直な軸の方向の変位は、検出器
要素のマトリックスの平行ストリップ上のスペクトル領
域を記憶するのに役立つ。
高さが検出器要素の高さと同程度の時に意図されるであ
ろう。その時、スペクトルは傾いたストリップの形で現
れる。
リットFeおよび中間スリットFiは同一の狭い幅、た
とえば数十ミクロン、を有するように選択される。この
時、光学マスクMoは狭いスペクトル窓を分離し、その
幅はこの場合回折によってのみ制限を受ける。
分散格子を含む)は角速度V1の回転によって変位さ
れ、その結果、光学マスクMoによって分離された窓は
検出モジュールの平面内に分散DSに平行にV1で変位
される。
て変位し、それによってスペクトル像は検出モジュール
上をスペクトル分散方向に平行な速度V1と同一の方向
に速度V2で変位させられる。
ーケンシャルに再生され、検出器平面は各瞬間に光学マ
スクMoによって定められた狭いバンドの幅に対応する
一つの幅の狭い像のみを受像する。
信号取得の間光学要素が固定されている従来の装置の見
かけの分散に比較してして増大する。
の検出器要素上に自在に広げることができるので、本発
明のスペクトル分解能は検出モジュールの離散的構造に
よって制限を受けない。さらに、サンプリングは多数の
点で行われる。
入射スリットおよび中間スリットの関数としてのみ制限
される。
的な固有分解能に近づくことを可能にする。
れるものではなく、特許請求の範囲に包含される全ての
態様に及ぶ。
測定装置の線図である。
を示す線図である。
2の光学マスクに対応する電子マスクの線図である。
測定装置の一例で、格子型偏向器段を有するものを示す
線図である。
倍率の変化の様子を示すグラフである。
散形分光測定装置の線図である。
倍率の変化の様子を示すグラフである。
分光測定装置の線図である。
Claims (13)
- 【請求項1】 分析すべき電磁放射ビーム(ON)の入
口(Fe)と、 入射ビームを受けて上記ビームの分散されたスペクトル
像であって、選択されたスペクトルバンド(BZ)に制
限されているスペクトル像を射出するのに適した光学的
フィルター手段(MF)と、 上記スペクトル像を受光する複数の検出器要素(EL)
を含むマルチチャンネル検出モジュール(DM)と、 上記検出器要素によって検出された信号を解析するため
のプロセッサー手段(UT)とと含む形式のスペクトル
測定装置であって、 光学的フィルター手段(MF)は少なくとも一つの偏向
器段(DF)を備え、 光学的フィルター手段には、上記スペクトルバンドの中
心周波数およびバンド幅を定める第1の制御手段(AJ
1)、およびスペクトル像をマルチチャンネル検出モジ
ュール(DM)上に変位させるのに適した第2の制御手
段(AJ2)とが付随し、 かつ、各々が上記選択されたスペクトルバンド、スペク
トル像の変位、およびプロセッサー手段の共同制御を含
む複数の動作モードにおいて、選択された所定の検出器
要素の組を使用するために、第1および第2の制御手段
(AJ1,AJ2)並びにプロセッサー手段(UT)を
制御するのに適した電子制御ユニット(UCE)が設け
られていることを特徴とするスペクトル測定装置。 - 【請求項2】 各動作モードに対して、電子制御ユニッ
トは、選択されたスペクトルバンド、スペクトル像の変
位、およびプロセッサー手段の共同制御パラメータを、
所定の検出器要素の組の上に選択された倍率のスペクト
ル像を得るためにあらかじめ定められた規則に従うよう
に適合させることを特徴とする請求項1記載の装置。 - 【請求項3】 選択されたスペクトルバンド、スペクト
ル像の変位、およびプロセッサー手段の共同制御パラメ
ータが連続的に適合され、それによって所定の検出器要
素の組の上のスペクトル像の選択された倍率を連続的に
変化させることを可能にすることを特徴とする請求項2
記載の装置。 - 【請求項4】 選択されたスペクトルバンド、スペクト
ル像の変位、およびプロセッサー手段の共同制御パラメ
ータがシーケンシャルに適合され、それによって所定の
検出器要素の組の上のスペクトル像の選択された倍率を
シーケンシャルに変化させることを可能にすることを特
徴とする請求項2記載の装置。 - 【請求項5】 スペクトル像の選択された倍率は、所定
の検出器要素の組の上で上記スペクトル像の分散を拡大
することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に
記載の装置。 - 【請求項6】 スペクトル像の選択された倍率は、所定
の検出器要素の組の上で上記スペクトル像の分散を縮小
することを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に
記載の装置。 - 【請求項7】 偏向器段(DF)は、回折格子およびプ
リズムによって構成される群から選択された少なくとも
一つの分散光学要素を有することを特徴とする請求項1
乃至6のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項8】 偏向器段(DF)は、レンズ、平面鏡、
球面鏡および非球面鏡、ホログラフィックシステム、ス
リット、並びに干渉計によって構成される群から選択さ
れた少なくとも一つの光学要素を有することを特徴とす
る請求項1乃至6のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項9】 偏向器段(DF)は、適当な場合には検
出器要素に対するシャッター手段と結合した検出器要素
増倍システム、スリット走査カメラ、および光学的拡大
系によって構成される群から選択された少なくとも一つ
のオプトエレクトロニクス要素を有することを特徴とす
る請求項1乃至6のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項10】 偏向器段(DF)は、検出器モジュー
ル(DM)中に収容されていることを特徴とする請求項
9記載の装置。 - 【請求項11】 検出モジュール(DM)は、分析すべ
き電磁放射ビームの分散方向に平行に一列に配置された
N個の検出器要素(EL)からなり、かつ所定の検出器
要素の組の上のスペクトル像の選択された拡大は電磁放
射ビームの上記分散方向に平行であることを特徴とする
請求項1乃至10のいずれか1項に記載の装置。 - 【請求項12】 検出モジュール(DM)は、電磁放射
ビームの分散方向に平行な方向にm行および上記ビーム
の分散方向に垂直な方向にp列として配置されたN個の
検出器要素(EL)からなり、かつ選択された所定の検
出器要素の組を構成するm’の所定の行およびp’の所
定の列上のスペクトル像の選択された拡大は上記m’の
所定の行上では放射ビームの分散方向に平行であり、上
記p’の所定の列上では放射ビームの分散方向に垂直で
あることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項
に記載の装置。 - 【請求項13】 光学的フィルター手段は、電子制御ユ
ニット(UCE)によって制御されるのに適した次数分
離手段を含むことを特徴とする請求項1乃至12のいず
れか1項に記載の装置。
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