JPH05242672A - 半導体ダイナミックメモリ - Google Patents
半導体ダイナミックメモリInfo
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- JPH05242672A JPH05242672A JP4018006A JP1800692A JPH05242672A JP H05242672 A JPH05242672 A JP H05242672A JP 4018006 A JP4018006 A JP 4018006A JP 1800692 A JP1800692 A JP 1800692A JP H05242672 A JPH05242672 A JP H05242672A
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- G11—INFORMATION STORAGE
- G11C—STATIC STORES
- G11C11/00—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
- G11C11/21—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
- G11C11/34—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
- G11C11/40—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors
- G11C11/401—Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices using transistors forming cells needing refreshing or charge regeneration, i.e. dynamic cells
- G11C11/4063—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing
- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/409—Read-write [R-W] circuits
- G11C11/4091—Sense or sense/refresh amplifiers, or associated sense circuitry, e.g. for coupled bit-line precharging, equalising or isolating
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- G11C—STATIC STORES
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- G11C11/407—Auxiliary circuits, e.g. for addressing, decoding, driving, writing, sensing or timing for memory cells of the field-effect type
- G11C11/4074—Power supply or voltage generation circuits, e.g. bias voltage generators, substrate voltage generators, back-up power, power control circuits
Abstract
(57)【要約】
【目的】メモリセルの読出し信号の電圧を大きくする。
【構成】センス増幅器SA1の第1の入出力端S1とビ
ット線BL11との間に接続制御信号TG1によりオ
ン,オフするトランジスタT4を設ける。センス増幅器
SA1の第2の入出力端とビット線BL12との間に接
続性信号TG2によりオン,オフするトランジスタT5
を設ける。メモリセル(MC11)のデータ読出しの
際、トランジスタ(T5)により、ビット線(BL1
2)をセンス増幅器SA1及びプレート線PLから切離
す。
ット線BL11との間に接続制御信号TG1によりオ
ン,オフするトランジスタT4を設ける。センス増幅器
SA1の第2の入出力端とビット線BL12との間に接
続性信号TG2によりオン,オフするトランジスタT5
を設ける。メモリセル(MC11)のデータ読出しの
際、トランジスタ(T5)により、ビット線(BL1
2)をセンス増幅器SA1及びプレート線PLから切離
す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体ダイナミックメモ
リに関する。
リに関する。
【0002】
【従来の技術】従来の半導体ダイナミックメモリには、
メモリセルのコンデンサの一方の端子を全て共通のプレ
ート線に接続する構成のものがある。この場合、データ
読出し時にこの共通のプレート線の電圧が変動するため
に、メモリセルから読出される信号量が減少するという
問題があった。
メモリセルのコンデンサの一方の端子を全て共通のプレ
ート線に接続する構成のものがある。この場合、データ
読出し時にこの共通のプレート線の電圧が変動するため
に、メモリセルから読出される信号量が減少するという
問題があった。
【0003】この点を改善したものとして、図10に示
すように、第1及び第2のビット線BL11,BL12
と、この第1及び第2のビット線BL11,BL12と
絶縁交差する複数のワード線WL11〜WL1n,WL
21〜WL2nと、ソース,ドレインの一方を第1のビ
ット線BL11と接続し対応するワード線(WL11〜
WL1n)のレベルに応じてオン,オフする選択用のト
ランジスタTs、及び一端をこの選択用のトランジスタ
Tsのソース,ドレインの他方と接続するコンテンサC
sをそれぞれ備えた複数の第1のメモリセルMC11〜
MC1nと、ソース,ドレインの一方と第2のビット線
BL12と接続し対応するワード線(WL21〜WL2
n)のレベルに応じてオン,オフする選択用のトランジ
スタTs、及び一端をこの選択用のトランジスタTsの
ソース,ドレインの他方と接続するコンデンサCsをそ
れぞれ備えた複数の第2のメモリセルMC21〜MC2
nと、各第1及び第2のメモリセルMC11〜MC1
n,MC21〜MC2nのコンデンサCsの他端と接続
するプレート線PLと、トランジスタT1〜T3を備え
第1及び第2のビット線BL11,BL12及びプレー
ト線PLをそれぞれ所定のタイミングで電源電圧VCC
の1/2のレベルにプリチャージするプリチャージ回路
1と、第1及び第2の入出力端を第1及び第2のビット
線BL11,BL12にそれぞれ対応して接続し活性化
信号SEにより活性化し第1及び第2の入出力端間に伝
達された信号を増幅するセンス増幅器SA1と、このセ
ンス増幅器SA1の第2の入出力端とプレート線PLと
の間に接続され接続制御信号TG3によりオン,オフす
るトランジスタT6、及びセンス増幅器SA1の第1の
入出力端とプレート線PLとの間に接続され接続制御信
号TG4によりオン,オフするトランジスタT6、及び
センス増幅器SA1の第1の入出力端とプレート線PL
との間に接続され接続制御信号TG4によりオン,オフ
するトランジスタT7を備えた接続制御回路2dとを有
する構成のものがある。
すように、第1及び第2のビット線BL11,BL12
と、この第1及び第2のビット線BL11,BL12と
絶縁交差する複数のワード線WL11〜WL1n,WL
21〜WL2nと、ソース,ドレインの一方を第1のビ
ット線BL11と接続し対応するワード線(WL11〜
WL1n)のレベルに応じてオン,オフする選択用のト
ランジスタTs、及び一端をこの選択用のトランジスタ
Tsのソース,ドレインの他方と接続するコンテンサC
sをそれぞれ備えた複数の第1のメモリセルMC11〜
MC1nと、ソース,ドレインの一方と第2のビット線
BL12と接続し対応するワード線(WL21〜WL2
n)のレベルに応じてオン,オフする選択用のトランジ
スタTs、及び一端をこの選択用のトランジスタTsの
ソース,ドレインの他方と接続するコンデンサCsをそ
れぞれ備えた複数の第2のメモリセルMC21〜MC2
nと、各第1及び第2のメモリセルMC11〜MC1
n,MC21〜MC2nのコンデンサCsの他端と接続
するプレート線PLと、トランジスタT1〜T3を備え
第1及び第2のビット線BL11,BL12及びプレー
ト線PLをそれぞれ所定のタイミングで電源電圧VCC
の1/2のレベルにプリチャージするプリチャージ回路
1と、第1及び第2の入出力端を第1及び第2のビット
線BL11,BL12にそれぞれ対応して接続し活性化
信号SEにより活性化し第1及び第2の入出力端間に伝
達された信号を増幅するセンス増幅器SA1と、このセ
ンス増幅器SA1の第2の入出力端とプレート線PLと
の間に接続され接続制御信号TG3によりオン,オフす
るトランジスタT6、及びセンス増幅器SA1の第1の
入出力端とプレート線PLとの間に接続され接続制御信
号TG4によりオン,オフするトランジスタT6、及び
センス増幅器SA1の第1の入出力端とプレート線PL
との間に接続され接続制御信号TG4によりオン,オフ
するトランジスタT7を備えた接続制御回路2dとを有
する構成のものがある。
【0004】この例の各部信号のタイミング図を図11
に示す。
に示す。
【0005】この例では、センス増幅器SA1ごとにプ
レート線PLが分割され、かつセンス増幅器SA1の第
1及び第2の入出力端にビット線BL11,BL12が
直接接続されている。また、センス増幅器SA1が活性
化してビット線BL11,BL12間の信号が増幅さ
れ、ビット線BL11,BL12の一方は接地電位(0
V)に、他方は電源電圧VCCまで増幅される。この電
源電圧VCCの高レベルをメモリセルMC11〜MC1
n,MC21〜MC2nに書戻すために、接続制御信号
TG3,TG4及びワード線WL11〜WL1n,WL
21〜WL2nの高レベルは、電源電圧VCCよりもメ
モリセルのトランジスタTsのしきい値電圧VTHだけ
高い電圧にする必要があった。
レート線PLが分割され、かつセンス増幅器SA1の第
1及び第2の入出力端にビット線BL11,BL12が
直接接続されている。また、センス増幅器SA1が活性
化してビット線BL11,BL12間の信号が増幅さ
れ、ビット線BL11,BL12の一方は接地電位(0
V)に、他方は電源電圧VCCまで増幅される。この電
源電圧VCCの高レベルをメモリセルMC11〜MC1
n,MC21〜MC2nに書戻すために、接続制御信号
TG3,TG4及びワード線WL11〜WL1n,WL
21〜WL2nの高レベルは、電源電圧VCCよりもメ
モリセルのトランジスタTsのしきい値電圧VTHだけ
高い電圧にする必要があった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】この従来の半導体ダイ
ナミックメモリでは、センス増幅器SA1ごとにプレー
ト線PLが分割されているものの、センス増幅器SA1
の第1及び第2の入出力端にはビット線BL11,BL
12が接続されたままとなっているので、プレート線P
Lによる影響は少なくなるものの、ビット線BL11,
BL12に接続する付加容量が大きいため、やはりメモ
リセルからの信号レベルが低減するという問題点があっ
た。また、メモリセルに電源電圧VCCの高レベルのデ
ータの書込み、書戻すためには、接続制御信号TG3,
TG4やワード線WL11〜WL1n,WL21〜WL
2nの高レベルを電源電圧VCCよりもメモリセルのト
ランジスタTsのしきい値電圧分だけ高くしなければな
らず昇圧回路が必要になるという問題点があった。
ナミックメモリでは、センス増幅器SA1ごとにプレー
ト線PLが分割されているものの、センス増幅器SA1
の第1及び第2の入出力端にはビット線BL11,BL
12が接続されたままとなっているので、プレート線P
Lによる影響は少なくなるものの、ビット線BL11,
BL12に接続する付加容量が大きいため、やはりメモ
リセルからの信号レベルが低減するという問題点があっ
た。また、メモリセルに電源電圧VCCの高レベルのデ
ータの書込み、書戻すためには、接続制御信号TG3,
TG4やワード線WL11〜WL1n,WL21〜WL
2nの高レベルを電源電圧VCCよりもメモリセルのト
ランジスタTsのしきい値電圧分だけ高くしなければな
らず昇圧回路が必要になるという問題点があった。
【0007】本発明の目的は、メモリセルの読出し信号
レベルを大きくすることができ、かつ接続制御信号及び
ワード線の高レベルを電源電圧より高くしなくて済み、
そのための昇圧回路が不要となる半導体ダイナミックメ
モリを提供することにある。
レベルを大きくすることができ、かつ接続制御信号及び
ワード線の高レベルを電源電圧より高くしなくて済み、
そのための昇圧回路が不要となる半導体ダイナミックメ
モリを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体ダイナミ
ックメモリは、第1及び第2のビット線と、この第1及
び第2のビット線と絶縁交差する複数のワード線と、ソ
ース,ドレインの一方を前記第1のビット線と接続し対
応する前記ワート線のレベルに応じてオン,オフする選
択用のトランジスタ、及び一端をこの選択用のトランジ
スタのソース,ドレインの他方と接続するコンデンサを
それぞれ備えた複数の第1のメモリセルと、ソース,ド
レインの一方を前記第2のビット線と接続し対応するワ
ード線のレベルに応じてオン,オフする選択用のトラン
ジスタ、及び一端をこの選択用のトランジスタのソー
ス,ドレインの他方と接続するコンデンサをそれぞれ備
えた複数の第2のメモリセルと、前記各第1及び第2の
メモリセルのコンデンサの他端と接続するプレート線
と、前記第1,第2のビット線及びプレート線をそれぞ
れ所定のタイミングで所定のレベルにプリチャージする
プリチャージ回路と、活性化信号により活性化し第1及
び第2の入出力端間に伝達された信号を増幅するセンス
増幅器と、このセンス増幅器の第1の入出力端と前記第
1のビット線との間に接続され第1の接続制御信号によ
りオン,オフする第1のトランジスタ、前記センス増幅
器の第2の入出力端と前記第2のビット線との間に接続
され第2の接続制御信号によりオン,オフする第2のト
ランジスタ、前記センス増幅器の第2の入出力端と前記
プレート線との間に接続され第3の接続制御信号により
オン,オフする第3のトランジスタ、及び前記センス増
幅器の第1の入出力端と前記プレート線との間に接続さ
れ第4の接続制御信号によりオン,オフする第4のトラ
ンジスタを備えた接続制御回路とを有している。
ックメモリは、第1及び第2のビット線と、この第1及
び第2のビット線と絶縁交差する複数のワード線と、ソ
ース,ドレインの一方を前記第1のビット線と接続し対
応する前記ワート線のレベルに応じてオン,オフする選
択用のトランジスタ、及び一端をこの選択用のトランジ
スタのソース,ドレインの他方と接続するコンデンサを
それぞれ備えた複数の第1のメモリセルと、ソース,ド
レインの一方を前記第2のビット線と接続し対応するワ
ード線のレベルに応じてオン,オフする選択用のトラン
ジスタ、及び一端をこの選択用のトランジスタのソー
ス,ドレインの他方と接続するコンデンサをそれぞれ備
えた複数の第2のメモリセルと、前記各第1及び第2の
メモリセルのコンデンサの他端と接続するプレート線
と、前記第1,第2のビット線及びプレート線をそれぞ
れ所定のタイミングで所定のレベルにプリチャージする
プリチャージ回路と、活性化信号により活性化し第1及
び第2の入出力端間に伝達された信号を増幅するセンス
増幅器と、このセンス増幅器の第1の入出力端と前記第
1のビット線との間に接続され第1の接続制御信号によ
りオン,オフする第1のトランジスタ、前記センス増幅
器の第2の入出力端と前記第2のビット線との間に接続
され第2の接続制御信号によりオン,オフする第2のト
ランジスタ、前記センス増幅器の第2の入出力端と前記
プレート線との間に接続され第3の接続制御信号により
オン,オフする第3のトランジスタ、及び前記センス増
幅器の第1の入出力端と前記プレート線との間に接続さ
れ第4の接続制御信号によりオン,オフする第4のトラ
ンジスタを備えた接続制御回路とを有している。
【0009】また、プレート線が第1及び第2のプレー
ト線に分割され、第1のメモリセルのコンテンサの他端
が前記第1のプレート線に接続され、第2のメモリセル
のコンデンサの他端が前記第2のプレート線に接続さ
れ、接続制御回路の第3のトランジスタがセンス増幅器
の第2の入出力端と前記第1のプレート線との間に接続
され、第4のトランジスタがセンス増幅器の第1の入出
力端と前記第2のプレート線との間に接続された構成を
有している。
ト線に分割され、第1のメモリセルのコンテンサの他端
が前記第1のプレート線に接続され、第2のメモリセル
のコンデンサの他端が前記第2のプレート線に接続さ
れ、接続制御回路の第3のトランジスタがセンス増幅器
の第2の入出力端と前記第1のプレート線との間に接続
され、第4のトランジスタがセンス増幅器の第1の入出
力端と前記第2のプレート線との間に接続された構成を
有している。
【0010】また、メモリセルに対しデータを書込む
際、高レベルのデータを書込むときは第1(又は第2)
のプレート線を接地電位としかつ第1(又は第2)のビ
ット線を電源電圧の1/2の電圧とし、低レベルのデー
タを書込むときは前記第1(又は第2)のビット線を接
地電位としかつ前記第1(又は第2)のプレート線を前
記電源電圧の1/2の電圧とする構成を有している。
際、高レベルのデータを書込むときは第1(又は第2)
のプレート線を接地電位としかつ第1(又は第2)のビ
ット線を電源電圧の1/2の電圧とし、低レベルのデー
タを書込むときは前記第1(又は第2)のビット線を接
地電位としかつ前記第1(又は第2)のプレート線を前
記電源電圧の1/2の電圧とする構成を有している。
【0011】
【作用】本発明においては、第1及び第2のビット線の
うち、メモリセルのデータを読出すとき、選択メモリセ
ルの読出し信号が伝達されない方のビット線をプレート
線及びセンス増幅器から切り離す構成としているので、
プレート線に接続する容量が小さくなり、センス増幅器
に入力されるプレート線とビット線との間のメモリセル
の読出し信号レベルを大きくすることができる。
うち、メモリセルのデータを読出すとき、選択メモリセ
ルの読出し信号が伝達されない方のビット線をプレート
線及びセンス増幅器から切り離す構成としているので、
プレート線に接続する容量が小さくなり、センス増幅器
に入力されるプレート線とビット線との間のメモリセル
の読出し信号レベルを大きくすることができる。
【0012】また、メモリセルへのデータ書込み,書戻
しの際、プレート線及びビット線のレベルを、片方を接
地電位とし他方を電源電圧の1/2のレベルとしたの
で、接続制御信号及びワード線のレベルも電源電圧以下
で済み、従来のような昇圧回路は不要となる。
しの際、プレート線及びビット線のレベルを、片方を接
地電位とし他方を電源電圧の1/2のレベルとしたの
で、接続制御信号及びワード線のレベルも電源電圧以下
で済み、従来のような昇圧回路は不要となる。
【0013】
【実施例】次に本発明の実施例について図面を参照して
説明する。
説明する。
【0014】図1は本発明の第1の実施例を示す回路図
である。
である。
【0015】この実施例が図10に示された従来の半導
体ダイナミックメモリと相違する点は、センス増幅器S
A1の第1の入出力端S1と第1のビット線BL11と
の間に接続制御信号TG1によりオン,オフするトラン
ジスタT4と、センス増幅器SA1の第2の入出力端S
2と第2のビット線BL12との間に接続制御信号TG
2によりオン,オフするトランジスタT5とを設け、接
続制御回路2を、これらトランジスタT4,T5と既設
のトランジスタT6,T7とを含んだ構成とした点にあ
る。
体ダイナミックメモリと相違する点は、センス増幅器S
A1の第1の入出力端S1と第1のビット線BL11と
の間に接続制御信号TG1によりオン,オフするトラン
ジスタT4と、センス増幅器SA1の第2の入出力端S
2と第2のビット線BL12との間に接続制御信号TG
2によりオン,オフするトランジスタT5とを設け、接
続制御回路2を、これらトランジスタT4,T5と既設
のトランジスタT6,T7とを含んだ構成とした点にあ
る。
【0016】図2はこの実施例の動作を説明するための
各部信号のタイミング図である。
各部信号のタイミング図である。
【0017】この実施例においては、ビット線BL1
1,BL15のうち、メモリセルのデータを読出すと
き、選択メモリセル(MC11とする)の読出し信号を
伝達するビット線(BL11)とは異なるビット線(B
L12)を、トランジスタ(T5)によってプレート線
PL及びセンス増幅器SA1の入出力端(S2)から切
離すので、プレート線PLに接続する容量を少なくする
ことができ、従ってプレート線PLとビット線(BL1
1)との間のメモリセル(MC11)の読出し信号のレ
ベルを大きくすることができる。
1,BL15のうち、メモリセルのデータを読出すと
き、選択メモリセル(MC11とする)の読出し信号を
伝達するビット線(BL11)とは異なるビット線(B
L12)を、トランジスタ(T5)によってプレート線
PL及びセンス増幅器SA1の入出力端(S2)から切
離すので、プレート線PLに接続する容量を少なくする
ことができ、従ってプレート線PLとビット線(BL1
1)との間のメモリセル(MC11)の読出し信号のレ
ベルを大きくすることができる。
【0018】この点について更に具体的に説明する。
今、プレート線PLとビット線BL11との間に発生す
るメモリセルMC11の読出し信号の電圧をVr、プレ
ート線PL,ビット線BL11,及びメモリセルMC1
1のコンデンサCsの容量値をそれぞれCp,Cb,C
s、コンデンサCsの読出し前の電圧をVsとすると、 Vr=(Cp+Cb)・Cs・Vs/〔(Cb+Cs)
・Cp+Cb・Cs〕 となる。これにより、 dVr/dCp=−Cb2 ・Cs・Vs/〔(Cb+C
s)・Cp+Cb・Cs〕2 >0 となるので、Cpを小さくするとVrが大きくなること
が分る。従来例ではCpが実質的にはCp+Cbであっ
たが、この実施例では実質的にCpだけとなるので、こ
の実施例による読出し信号の電圧の方が大きいことが分
る。
今、プレート線PLとビット線BL11との間に発生す
るメモリセルMC11の読出し信号の電圧をVr、プレ
ート線PL,ビット線BL11,及びメモリセルMC1
1のコンデンサCsの容量値をそれぞれCp,Cb,C
s、コンデンサCsの読出し前の電圧をVsとすると、 Vr=(Cp+Cb)・Cs・Vs/〔(Cb+Cs)
・Cp+Cb・Cs〕 となる。これにより、 dVr/dCp=−Cb2 ・Cs・Vs/〔(Cb+C
s)・Cp+Cb・Cs〕2 >0 となるので、Cpを小さくするとVrが大きくなること
が分る。従来例ではCpが実質的にはCp+Cbであっ
たが、この実施例では実質的にCpだけとなるので、こ
の実施例による読出し信号の電圧の方が大きいことが分
る。
【0019】図3は本発明の第2の実施例を示す回路図
である。
である。
【0020】この実施例は、第1の実施例におけるプレ
ート線PLを、第1及び第2のプレート線PL11,P
L12に分割し、第1のメモリセルMC11〜MC1n
のコンデンサCsの他端を第1のプレート線PL11に
接続し、第2のメモリセルMC21〜MC2nのコンデ
ンサCsの他端を第2のプレート線PL12に接続し、
接続制御回路2aのトランジスタT6を、センス増幅器
SA1の第2の入出力端S2と第1のプレート線PL1
1との間に接続し、トランジスタT7をセンス増幅器S
A1の第1の入出力端S1と第2のプレート線PL12
との間に接続したものである。
ート線PLを、第1及び第2のプレート線PL11,P
L12に分割し、第1のメモリセルMC11〜MC1n
のコンデンサCsの他端を第1のプレート線PL11に
接続し、第2のメモリセルMC21〜MC2nのコンデ
ンサCsの他端を第2のプレート線PL12に接続し、
接続制御回路2aのトランジスタT6を、センス増幅器
SA1の第2の入出力端S2と第1のプレート線PL1
1との間に接続し、トランジスタT7をセンス増幅器S
A1の第1の入出力端S1と第2のプレート線PL12
との間に接続したものである。
【0021】図4にこの実施例の各部信号のタイミング
図を示す。
図を示す。
【0022】この実施例においては、各プレート線PL
11,PL12に接続されるメモリセルの数は第1の実
施例の半分となるので、これらプレート線PL11,P
L12に接続する容量も第1の実施例のプレート線PL
より小さくなり、読出し信号のレベルを更に大きくする
ことができる。
11,PL12に接続されるメモリセルの数は第1の実
施例の半分となるので、これらプレート線PL11,P
L12に接続する容量も第1の実施例のプレート線PL
より小さくなり、読出し信号のレベルを更に大きくする
ことができる。
【0023】図5はこの実施例のビット線に垂直な面に
おける配線層付近の断面図である。
おける配線層付近の断面図である。
【0024】通常、ビット線BL11,BL12等とプ
レート線PL11,PL12等とは、図5に示すよう
に、別の層に配線される。
レート線PL11,PL12等とは、図5に示すよう
に、別の層に配線される。
【0025】隣接するビット線間及び隣接するプレート
線間にはそれぞれ線間容量Ccが存在するため、メモリ
セルのデータを読出すとき、Ccを介してBL11とB
L21からBL12へノイズが加わり、PL11とPL
21からPL12へノイズが加わる。このため、BL1
2とPL11とPL12とが全てつながった状態でデー
タを読出す図10の従来方式では、ノイズで読出し信号
の電圧が小さくなる。しかし、BL12とPL1とを切
離す本実施例の方式では、このノイズの影響を受けない
ため、より大きな信号電圧が得られる。また、PL12
とPL12とはシールド線として働くので、さらにノイ
ズを低減できる。
線間にはそれぞれ線間容量Ccが存在するため、メモリ
セルのデータを読出すとき、Ccを介してBL11とB
L21からBL12へノイズが加わり、PL11とPL
21からPL12へノイズが加わる。このため、BL1
2とPL11とPL12とが全てつながった状態でデー
タを読出す図10の従来方式では、ノイズで読出し信号
の電圧が小さくなる。しかし、BL12とPL1とを切
離す本実施例の方式では、このノイズの影響を受けない
ため、より大きな信号電圧が得られる。また、PL12
とPL12とはシールド線として働くので、さらにノイ
ズを低減できる。
【0026】図6は本発明の第3の実施例を示す回路図
である。
である。
【0027】この実施例は、第1のビット線BL11及
びプレート線PL11に対してセンス増幅器SA14
を、第2のビット線BL12及びプレート線PL12に
対してセンス増幅器SA2をそれぞれ設け、第1のメモ
リセル(例えばMC11)と第2のメモリセル(MC2
1)とでワード線(WL11)を共用するようにしたも
のである。
びプレート線PL11に対してセンス増幅器SA14
を、第2のビット線BL12及びプレート線PL12に
対してセンス増幅器SA2をそれぞれ設け、第1のメモ
リセル(例えばMC11)と第2のメモリセル(MC2
1)とでワード線(WL11)を共用するようにしたも
のである。
【0028】それぞれのビット線BL11,BL12に
それぞれセンス増幅器を設けることにより、第1及び第
2のメモリセルから同時にデータを読出すことができる
ので、このようにワード線を共用することができ、ワー
ド線の本数を半分にすることができる。
それぞれセンス増幅器を設けることにより、第1及び第
2のメモリセルから同時にデータを読出すことができる
ので、このようにワード線を共用することができ、ワー
ド線の本数を半分にすることができる。
【0029】この実施例の各部信号のタイミング図を図
7に示す。
7に示す。
【0030】図8は本発明の第4の実施例を説明するた
めの各部信号のタイミング図、図9はこの第4の実施例
のセンス増幅回路部分の回路図である。
めの各部信号のタイミング図、図9はこの第4の実施例
のセンス増幅回路部分の回路図である。
【0031】図1,図3,図6に示された実施例及び図
10に示された従来例においては、プレート線PL,P
L11,PL12が電源電圧VCCの1/2の電圧にプ
リチャージされた状態で、ビット線BL11,BL12
の一方を電源電圧VCCに、他方を接地電位にしてメモ
リセルに対する書込み,書戻しが行われる。従って接続
制御信号TG1〜TG4及びワード線WL11〜WL1
n,WL21〜WL2nの高レベルは、電源電圧VCC
よりもメモリセルのトランジスタTsのしきい値電圧V
THだけ高い電圧とする必要があった。
10に示された従来例においては、プレート線PL,P
L11,PL12が電源電圧VCCの1/2の電圧にプ
リチャージされた状態で、ビット線BL11,BL12
の一方を電源電圧VCCに、他方を接地電位にしてメモ
リセルに対する書込み,書戻しが行われる。従って接続
制御信号TG1〜TG4及びワード線WL11〜WL1
n,WL21〜WL2nの高レベルは、電源電圧VCC
よりもメモリセルのトランジスタTsのしきい値電圧V
THだけ高い電圧とする必要があった。
【0032】これに対してこの実施例では、メモリセル
にデータを書込む際(書戻す際も含む)、高レベルのデ
ータを書込むときは第1(又は第2)のプレート線PL
11(PL12)を接地電位としかつ第1(又は第2)
のビット線BL11(BL12)を電源電圧VCCの1
/2の電圧とし、低レベルのデータを書込むときは第1
(又は第2)のビット線BL11(BL12)を接地電
位としかつ第1(又は第2)のプレート線PL11(P
L12)を電源電圧VCCの1/2の電圧とする構成と
なっている。従って、接続制御信号TG1〜TG4及び
ワード線WL11〜WL1n,WL21〜WL2nの高
レベルは電源電圧VCCの1/2の電圧よりもメモリセ
ルのトランジスタTsのしきい値電圧VTHだけ高い電
圧とすればよい。すなわち、電源電圧VCCより高くす
る必要がなく、昇圧回路が不要となる。
にデータを書込む際(書戻す際も含む)、高レベルのデ
ータを書込むときは第1(又は第2)のプレート線PL
11(PL12)を接地電位としかつ第1(又は第2)
のビット線BL11(BL12)を電源電圧VCCの1
/2の電圧とし、低レベルのデータを書込むときは第1
(又は第2)のビット線BL11(BL12)を接地電
位としかつ第1(又は第2)のプレート線PL11(P
L12)を電源電圧VCCの1/2の電圧とする構成と
なっている。従って、接続制御信号TG1〜TG4及び
ワード線WL11〜WL1n,WL21〜WL2nの高
レベルは電源電圧VCCの1/2の電圧よりもメモリセ
ルのトランジスタTsのしきい値電圧VTHだけ高い電
圧とすればよい。すなわち、電源電圧VCCより高くす
る必要がなく、昇圧回路が不要となる。
【0033】図8による実施例では接続制御信号TG1
〜TG4及びワード線WL11〜WL1n,WL21〜
WL2nの電圧でビット線の振幅を制限しているが、図
9に示すように、センス増幅器SA1の電源電圧をVC
C/2とすることで振幅を制限する。これにより、ビッ
ト線の電圧を正確にVCC/2とできる。この場合、接
続制御信号及びワード線の高レベルの電圧はVCC/2
+VTH以上VCC以下ならばいくらでも良い。
〜TG4及びワード線WL11〜WL1n,WL21〜
WL2nの電圧でビット線の振幅を制限しているが、図
9に示すように、センス増幅器SA1の電源電圧をVC
C/2とすることで振幅を制限する。これにより、ビッ
ト線の電圧を正確にVCC/2とできる。この場合、接
続制御信号及びワード線の高レベルの電圧はVCC/2
+VTH以上VCC以下ならばいくらでも良い。
【0034】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、メモリセ
ルのデータを読出すとき選択メモリセルの読出し信号が
伝達されない方のビット線をプレート線及びセンス増幅
器から切離す構成とすることにより、プレート線に接続
する容量を小さくできるので、センス増幅器に入力され
るメモリセルの読出し信号のレベルを大きくすることが
でき、また、メモリセルへのデータの書込み、書戻しの
際、プレート線及びビット線のレベルを、片方を接地電
位に他方を電源電圧の1/2の電圧とすることにより、
接続制御信号及びワード線の高レベルを電源電圧より高
くしなくて済み、昇圧回路が不要になるという効果があ
る。
ルのデータを読出すとき選択メモリセルの読出し信号が
伝達されない方のビット線をプレート線及びセンス増幅
器から切離す構成とすることにより、プレート線に接続
する容量を小さくできるので、センス増幅器に入力され
るメモリセルの読出し信号のレベルを大きくすることが
でき、また、メモリセルへのデータの書込み、書戻しの
際、プレート線及びビット線のレベルを、片方を接地電
位に他方を電源電圧の1/2の電圧とすることにより、
接続制御信号及びワード線の高レベルを電源電圧より高
くしなくて済み、昇圧回路が不要になるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例の回路図である。
【図2】図1に示された実施例の動作を説明するための
各部信号のタイミング図である。
各部信号のタイミング図である。
【図3】本発明の第2の実施例の回路図である。
【図4】図3に示された実施例の動作を説明するための
各部信号のタイミング図である。
各部信号のタイミング図である。
【図5】図3に示された実施例の効果を説明するための
配線層付近の断面図である。
配線層付近の断面図である。
【図6】本発明の第3の実施例の回路図である。
【図7】図6に示された実施例の動作を説明するための
各部信号のタイミング図である。
各部信号のタイミング図である。
【図8】本発明の第4の実施例を説明するための各部信
号のタイミング図である。
号のタイミング図である。
【図9】本発明の第4の実施例のセンス増幅回路部分の
回路図である。
回路図である。
【図10】従来の半導体ダイナミックメモリの一例を示
す回路図である。
す回路図である。
【図11】図10に示された半導体ダイナミックメモリ
の動作を説明するための各部信号のタイミング図であ
る。
の動作を説明するための各部信号のタイミング図であ
る。
1,1a プリチャージ回路 2,2a〜2d 接続制御回路 10 基板 20 配線層 21 絶縁層 B11,B12,B21,B22 ビット線 Cs コンデンサ MC11〜MC1n,MC21〜MC2n メモリセ
ル SA1,SA2 センス増幅器 T1〜T8,Ts トランジスタ WL11〜WL1n,WL21〜WL2n ワード線
ル SA1,SA2 センス増幅器 T1〜T8,Ts トランジスタ WL11〜WL1n,WL21〜WL2n ワード線
Claims (3)
- 【請求項1】 第1及び第2のビット線と、この第1及
び第2のビット線と絶縁交差する複数のワード線と、ソ
ース,ドレインの一方を前記第1のビット線と接続し対
応する前記ワート線のレベルに応じてオン,オフする選
択用のトランジスタ、及び一端をこの選択用のトランジ
スタのソース,ドレインの他方と接続するコンデンサを
それぞれ備えた複数の第1のメモリセルと、ソース,ド
レインの一方を前記第2のビット線と接続し対応するワ
ード線のレベルに応じてオン,オフする選択用のトラン
ジスタ、及び一端をこの選択用のトランジスタのソー
ス,ドレインの他方と接続するコンデンサをそれぞれ備
えた複数の第2のメモリセルと、前記各第1及び第2の
メモリセルのコンデンサの他端と接続するプレート線
と、前記第1,第2のビット線及びプレート線をそれぞ
れ所定のタイミングで所定のレベルにプリチャージする
プリチャージ回路と、活性化信号により活性化し第1及
び第2の入出力端間に伝達された信号を増幅するセンス
増幅器と、このセンス増幅器の第1の入出力端と前記第
1のビット線との間に接続され第1の接続制御信号によ
りオン,オフする第1のトランジスタ、前記センス増幅
器の第2の入出力端と前記第2のビット線との間に接続
され第2の接続制御信号によりオン,オフする第2のト
ランジスタ、前記センス増幅器の第2の入出力端と前記
プレート線との間に接続され第3の接続制御信号により
オン,オフする第3のトランジスタ、及び前記センス増
幅器の第1の入出力端と前記プレート線との間に接続さ
れ第4の接続制御信号によりオン,オフする第4のトラ
ンジスタを備えた接続制御回路とを有することを特徴と
する半導体ダイナミックメモリ。 - 【請求項2】 プレート線が第1及び第2のプレート線
に分割され、第1のメモリセルのコンテンサの他端が前
記第1のプレート線に接続され、第2のメモリセルのコ
ンデンサの他端が前記第2のプレート線に接続され、接
続制御回路の第3のトランジスタがセンス増幅器の第2
の入出力端と前記第1のプレート線との間に接続され、
第4のトランジスタがセンス増幅器の第1の入出力端と
前記第2のプレート線との間に接続された請求項1記載
の半導体ダイナミックメモリ。 - 【請求項3】 メモリセルに対しデータを書込む際、高
レベルのデータを書込むときは第1(又は第2)のプレ
ート線を接地電位としかつ第1(又は第2)のビット線
を電源電圧の1/2の電圧とし、低レベルのデータを書
込むときは前記第1(又は第2)のビット線を接地電位
としかつ前記第1(又は第2)のプレート線を前記電源
電圧の1/2の電圧とする請求項2記載の半導体ダイナ
ミックメモリ。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4018006A JPH05242672A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 半導体ダイナミックメモリ |
US08/011,734 US5351215A (en) | 1992-02-04 | 1993-02-01 | Dynamic random access memory device having a transfer circuit for coupling a sense amplifier circuit with an accessed cell and a plate line |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4018006A JPH05242672A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 半導体ダイナミックメモリ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05242672A true JPH05242672A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=11959599
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4018006A Withdrawn JPH05242672A (ja) | 1992-02-04 | 1992-02-04 | 半導体ダイナミックメモリ |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5351215A (ja) |
JP (1) | JPH05242672A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012256824A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-12-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 記憶装置 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3183699B2 (ja) * | 1992-03-13 | 2001-07-09 | 沖電気工業株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2814862B2 (ja) * | 1992-12-07 | 1998-10-27 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP2836495B2 (ja) * | 1994-08-24 | 1998-12-14 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
US5719813A (en) * | 1995-06-06 | 1998-02-17 | Micron Technology, Inc. | Cell plate referencing for DRAM sensing |
JPH09231783A (ja) * | 1996-02-26 | 1997-09-05 | Sharp Corp | 半導体記憶装置 |
US5923603A (en) * | 1997-08-20 | 1999-07-13 | Micron Technology, Inc. | Equilibrate circuit for dynamic plate sensing memories |
US6301175B1 (en) | 2000-07-26 | 2001-10-09 | Micron Technology, Inc. | Memory device with single-ended sensing and low voltage pre-charge |
US6292417B1 (en) | 2000-07-26 | 2001-09-18 | Micron Technology, Inc. | Memory device with reduced bit line pre-charge voltage |
US7292898B2 (en) | 2000-09-18 | 2007-11-06 | Balboa Instruments, Inc. | Method and apparatus for remotely monitoring and controlling a pool or spa |
US6469941B2 (en) * | 2000-12-29 | 2002-10-22 | Stmicroelectronics, Inc. | Apparatus and method for pumping memory cells in a memory |
KR102070626B1 (ko) * | 2013-06-26 | 2020-01-30 | 삼성전자주식회사 | 반도체 메모리 장치 및 이를 포함하는 메모리 시스템 |
US10229874B1 (en) * | 2018-03-22 | 2019-03-12 | Micron Technology, Inc. | Arrays of memory cells individually comprising a capacitor and a transistor and methods of forming such arrays |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5058073A (en) * | 1988-03-10 | 1991-10-15 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | CMOS RAM having a complementary channel sense amplifier |
JPH0766664B2 (ja) * | 1988-11-28 | 1995-07-19 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ回路 |
KR910009444B1 (ko) * | 1988-12-20 | 1991-11-16 | 삼성전자 주식회사 | 반도체 메모리 장치 |
-
1992
- 1992-02-04 JP JP4018006A patent/JPH05242672A/ja not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-02-01 US US08/011,734 patent/US5351215A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012256824A (ja) * | 2010-10-29 | 2012-12-27 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 記憶装置 |
US9263451B2 (en) | 2010-10-29 | 2016-02-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Storage device including memory cell using transistor having oxide semiconductor and amplifier circuit |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5351215A (en) | 1994-09-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990518 |