JPH0524111B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0524111B2 JPH0524111B2 JP59007968A JP796884A JPH0524111B2 JP H0524111 B2 JPH0524111 B2 JP H0524111B2 JP 59007968 A JP59007968 A JP 59007968A JP 796884 A JP796884 A JP 796884A JP H0524111 B2 JPH0524111 B2 JP H0524111B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- oxide ceramic
- silicon nitride
- ceramic structure
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP796884A JPS60151290A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 非酸化物系セラミツク構造体の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP796884A JPS60151290A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 非酸化物系セラミツク構造体の表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60151290A JPS60151290A (ja) | 1985-08-09 |
| JPH0524111B2 true JPH0524111B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1993-04-06 |
Family
ID=11680258
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP796884A Granted JPS60151290A (ja) | 1984-01-19 | 1984-01-19 | 非酸化物系セラミツク構造体の表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60151290A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61106473A (ja) * | 1984-10-26 | 1986-05-24 | 工業技術院長 | セラミツクスの製造法 |
| JPS62148373A (ja) * | 1985-12-23 | 1987-07-02 | 工業技術院長 | 窒化ケイ素系焼結体の熱処理方法 |
| JPS6355180A (ja) * | 1986-08-22 | 1988-03-09 | 株式会社東芝 | 窒化ケイ素系セラミックス部品の製造方法 |
| JPH0723270B2 (ja) * | 1992-10-30 | 1995-03-15 | 株式会社東芝 | 窒化ケイ素系セラミックス部品 |
| JP4515562B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2010-08-04 | 株式会社東芝 | セラミックス回路基板の製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5825000B2 (ja) * | 1975-09-26 | 1983-05-24 | 松下電器産業株式会社 | スピ−カ |
| JPS598676A (ja) * | 1982-07-02 | 1984-01-17 | 大同特殊鋼株式会社 | セラミツクスの表面処理方法 |
-
1984
- 1984-01-19 JP JP796884A patent/JPS60151290A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60151290A (ja) | 1985-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6141133B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
| EP0846667A2 (en) | Ceramic parts and a producing process thereof | |
| JPH0524111B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
| JPH0881258A (ja) | アルミナセラミックス焼結体 | |
| JPH0371388B2 (enrdf_load_stackoverflow) | ||
| JP2001261355A (ja) | ガラス基板端面の強度向上方法およびフラットパネルディスプレイ用ガラス基板 | |
| EP0392725A3 (en) | Method for fabricating integrated circuits with silicide | |
| JPH11147769A (ja) | 窒化珪素セラミック材及びその製造方法 | |
| RU2052422C1 (ru) | Способ получения керамического материала | |
| JP3467723B2 (ja) | 炭化珪素焼結体部材の製造方法 | |
| JPS6278177A (ja) | 炭化珪素焼結体加工品の強度回復方法 | |
| EP1748968A2 (en) | Heat treating silicon carbide articles | |
| JPS6278176A (ja) | 炭化珪素焼結体加工品の強度回復方法 | |
| JPH05201783A (ja) | セラミック焼結体の表面加工方法 | |
| JP3262696B2 (ja) | ガラス状カーボン被膜を有するシリカガラス部材 | |
| JP3307030B2 (ja) | 半導体装置用Siウェーハの低温表面酸化方法 | |
| JP2001080963A (ja) | SiC燒結体 | |
| JPH1022228A (ja) | 半導体熱処理用治具 | |
| SU1216252A1 (ru) | Состав дл удалени окалины с поверхности никел | |
| JP3215625B2 (ja) | 窒化珪素質焼結体の製造方法 | |
| RU2105381C1 (ru) | Способ обработки пластин кремния | |
| JPH02164773A (ja) | 窒化珪素質焼結体の製造方法 | |
| JPH06170432A (ja) | ステンレス鋼板の脱スケール法 | |
| JPH05200720A (ja) | セラミック焼結体及びその表面加工方法 | |
| JPS598676A (ja) | セラミツクスの表面処理方法 |