JPH05239214A - アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法 - Google Patents
アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法Info
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- JPH05239214A JPH05239214A JP4073537A JP7353792A JPH05239214A JP H05239214 A JPH05239214 A JP H05239214A JP 4073537 A JP4073537 A JP 4073537A JP 7353792 A JP7353792 A JP 7353792A JP H05239214 A JPH05239214 A JP H05239214A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 分子量，粘度，熱転移点，アルコキシ基含有
量などの制御が容易である、アルコキシ基含有シリコー
ンレジンの製造方法を提供する。 【構成】 (Ａ)(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2で示されるシロキ
サン単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ａ)，
(２)前記(ａ)と式Ｒ2Ｒ3ＳｉＯで示されるシロキサン単
位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の混合
物，(３)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯで示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)，(４)前記(ａ)と(ｃ)の混合物，(５)前記(ｂ)と
(ｃ)の混合物、(６)前記(ａ)と(ｂ)と(ｃ)の混合物から
なる群から選ばれるオルガノポリシロキサン（混合物）
に、無水条件下で(Ｂ)式 Ｒ4 aＳｉ（ＯＲ5）4- aで示さ
れるアルコキシシランまたはその部分加水分解物を加
え、塩基性触媒存在下で加熱して、反応させる、アルコ
キシ基含有シリコーンレジンの製造方法。
量などの制御が容易である、アルコキシ基含有シリコー
ンレジンの製造方法を提供する。 【構成】 (Ａ)(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2で示されるシロキ
サン単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ａ)，
(２)前記(ａ)と式Ｒ2Ｒ3ＳｉＯで示されるシロキサン単
位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の混合
物，(３)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯで示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
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(ｃ)の混合物、(６)前記(ａ)と(ｂ)と(ｃ)の混合物から
なる群から選ばれるオルガノポリシロキサン（混合物）
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れるアルコキシシランまたはその部分加水分解物を加
え、塩基性触媒存在下で加熱して、反応させる、アルコ
キシ基含有シリコーンレジンの製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はアルコキシ基を含有する
シリコーンレジンの製造方法に関し、詳しくは、分子
量，粘度，熱転移点，アルコキシ基含有量などの制御が
容易である、アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造
方法に関するものである。
シリコーンレジンの製造方法に関し、詳しくは、分子
量，粘度，熱転移点，アルコキシ基含有量などの制御が
容易である、アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造
方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術と解決すべき課題】アルコキシ基を含有す
るシリコーンレジンは知られており、電気絶縁材，耐熱
塗料，保護コーティング材，有機ポリマーとの共重合体
の原料として広く使用されている。従来、かかるシリコ
ーンレジンは、アルコキシ基を含有するオルガノシラン
を加水分解することにより製造されていた［米国特許第
3,389,114号公報参照］。しかし、この方法には３つの
大きな問題点があった。第１は、この製造方法において
はアルコキシ基が加水分解し、縮合反応が進行するの
で、分子量が常に増大する反応である。そのため、分子
量の正確なコントロールが非常に難しいという欠点があ
った。第２に、製造されたシリコーンレジンの分子量分
布が広くなるため、軟化点などの熱的変化に対する応答
が鈍くなるという欠点があった。第３には、すべての原
料をアルコキシシランに依存しており、安価なクロロシ
ランや環状シロキサンなどを使用できないという経済的
な問題点があった。 また、クロロシランを水とアルコ
ールの中で加水分解縮合反応させることにより、アルコ
キシ基含有シリコーンレジンを得る合成方法が知られて
いる（特開昭５０−７７５００号公報参照）が、この方
法によれば上記第３の問題点は解決されるが上記の第１
の欠点および第２の欠点は解決されないという問題点が
あった。
るシリコーンレジンは知られており、電気絶縁材，耐熱
塗料，保護コーティング材，有機ポリマーとの共重合体
の原料として広く使用されている。従来、かかるシリコ
ーンレジンは、アルコキシ基を含有するオルガノシラン
を加水分解することにより製造されていた［米国特許第
3,389,114号公報参照］。しかし、この方法には３つの
大きな問題点があった。第１は、この製造方法において
はアルコキシ基が加水分解し、縮合反応が進行するの
で、分子量が常に増大する反応である。そのため、分子
量の正確なコントロールが非常に難しいという欠点があ
った。第２に、製造されたシリコーンレジンの分子量分
布が広くなるため、軟化点などの熱的変化に対する応答
が鈍くなるという欠点があった。第３には、すべての原
料をアルコキシシランに依存しており、安価なクロロシ
ランや環状シロキサンなどを使用できないという経済的
な問題点があった。 また、クロロシランを水とアルコ
ールの中で加水分解縮合反応させることにより、アルコ
キシ基含有シリコーンレジンを得る合成方法が知られて
いる（特開昭５０−７７５００号公報参照）が、この方
法によれば上記第３の問題点は解決されるが上記の第１
の欠点および第２の欠点は解決されないという問題点が
あった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは上記問題
点を解決すべく検討した結果本発明に到達した。本発明
の目的は分子量，粘度，熱転移点，アルコキシ基含有量
の制御が容易である、アルコキシ基含有シリコーンレジ
ンの製造方法を提供することにある。
点を解決すべく検討した結果本発明に到達した。本発明
の目的は分子量，粘度，熱転移点，アルコキシ基含有量
の制御が容易である、アルコキシ基含有シリコーンレジ
ンの製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段およびその作用】本発明
は、(Ａ)(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水
素基または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示さ
れるシロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキ
サン(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ
2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または
１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキ
サン単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の
混合物，(３)式Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じ
である。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3Ｓｉ
Ｏ（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)の混合物，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と
前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)
と前記オルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリ
シロキサン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガ
ノポリシロキサンもしくはオルガノポリシロキサン混合
物に、無水条件下で(Ｂ)式 Ｒ4 aＳｉ（ＯＲ5）4- a（式
中、Ｒ4は１価炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水
素基、Ｒ5は炭素数６以内のアルキル基であり、ａは０
〜３である。）で示されるアルコキシシランまたはその
部分加水分解物を加え、塩基性触媒存在下で加熱して、
前記(Ａ)成分と(Ｂ)成分を再平衡化反応させることを特
徴とする、アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方
法に関する。
は、(Ａ)(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水
素基または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示さ
れるシロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキ
サン(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ
2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または
１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキ
サン単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の
混合物，(３)式Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じ
である。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3Ｓｉ
Ｏ（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)の混合物，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と
前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)
と前記オルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリ
シロキサン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガ
ノポリシロキサンもしくはオルガノポリシロキサン混合
物に、無水条件下で(Ｂ)式 Ｒ4 aＳｉ（ＯＲ5）4- a（式
中、Ｒ4は１価炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水
素基、Ｒ5は炭素数６以内のアルキル基であり、ａは０
〜３である。）で示されるアルコキシシランまたはその
部分加水分解物を加え、塩基性触媒存在下で加熱して、
前記(Ａ)成分と(Ｂ)成分を再平衡化反応させることを特
徴とする、アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方
法に関する。
【０００５】これを説明すると本発明に使用される(Ａ)
成分のオルガノポリシロキサンもしくはオルガノポリシ
ロキサン混合物は始発原料であり、次のような６種類の
オルガノポリシロキサンからなる群から選ばれる。即
ち、(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水素基
または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ2Ｒ3
ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または１価
ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキサン
単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の混合
物，(３)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じであ
る。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ
（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示されるシ
ロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)の混合物，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と
前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)
と前記オルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリ
シロキサン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガ
ノポリシロキサンである。
成分のオルガノポリシロキサンもしくはオルガノポリシ
ロキサン混合物は始発原料であり、次のような６種類の
オルガノポリシロキサンからなる群から選ばれる。即
ち、(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水素基
または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ2Ｒ3
ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または１価
ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキサン
単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の混合
物，(３)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じであ
る。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ
（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示されるシ
ロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)の混合物，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と
前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)
と前記オルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリ
シロキサン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガ
ノポリシロキサンである。
【０００６】ここで、オルガノポリシロキサン(ａ)は、
式 Ｒ1ＳｉＯ3/2で示されるシロキサン単位から構成さ
れるオルガノポリシロキサンであり、式中、Ｒ1は１価
炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水素基である。１
価炭化水素基としては、メチル基，エチル基などのアル
キル基；ビニル基，アリル基などのアルケニル基；フェ
ニル基，ナフチル基などのアリール基などが例示され
る。１価ハロゲン化炭化水素基としては３,３,３−トリ
フルオロプロピル基，ノナフルオロブチルエチル基など
のフッ素置換炭化水素基が例示される。このようなオル
ガノポリシロキサン(ａ)は対応するクロロシラン類また
はアルコキシシラン類を加水分解することによって製造
することができ、籠状，ラダー状などの明確な構造を有
することもあるが、構造が必ずしも明確でないことも多
い。このような方法で得られたオルガノポリシロキサン
は一般にシラノール基，アルコキシ基を含むことが多
い。
式 Ｒ1ＳｉＯ3/2で示されるシロキサン単位から構成さ
れるオルガノポリシロキサンであり、式中、Ｒ1は１価
炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水素基である。１
価炭化水素基としては、メチル基，エチル基などのアル
キル基；ビニル基，アリル基などのアルケニル基；フェ
ニル基，ナフチル基などのアリール基などが例示され
る。１価ハロゲン化炭化水素基としては３,３,３−トリ
フルオロプロピル基，ノナフルオロブチルエチル基など
のフッ素置換炭化水素基が例示される。このようなオル
ガノポリシロキサン(ａ)は対応するクロロシラン類また
はアルコキシシラン類を加水分解することによって製造
することができ、籠状，ラダー状などの明確な構造を有
することもあるが、構造が必ずしも明確でないことも多
い。このような方法で得られたオルガノポリシロキサン
は一般にシラノール基，アルコキシ基を含むことが多
い。
【０００７】オルガノポリシロキサン(ｂ)は、式 Ｒ2Ｒ
3ＳｉＯで示されるシロキサン単位から構成されるオル
ガノポリシロキサンであり、Ｒ2とＲ3は前述したＲ1と
同様の１価炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水素基
である。このオルガノポリシロキサンは環状または線状
構造をとっているのが一般的であり、線状構造の場合に
は末端にシラノール基とかアルコキシ基などの加水分解
性基を含むのが一般的である。
3ＳｉＯで示されるシロキサン単位から構成されるオル
ガノポリシロキサンであり、Ｒ2とＲ3は前述したＲ1と
同様の１価炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水素基
である。このオルガノポリシロキサンは環状または線状
構造をとっているのが一般的であり、線状構造の場合に
は末端にシラノール基とかアルコキシ基などの加水分解
性基を含むのが一般的である。
【０００８】オルガノポリシロキサン(ｃ)は、式Ｒ1Ｓ
ｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じである。）で示される
シロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3は
前記と同じである。）で示されるシロキサン単位から構
成されるオルガノポリシロキサンである。このようなオ
ルガノポリシロキサンは、例えば、クロロシランやアル
コキシシランを加水分解することにより製造することが
できる。この方法で得られたオルガノポリシロキサン
(ｃ)はシラノール基またはアルコキシ基などの加水分解
性基を含むことが多いので、加水分解後のオルガノポリ
シロキサンを酸性触媒や塩基性触媒存在下で加熱処理し
てシラノール基を少なくしておいてもよい。また、オル
ガノポリシロキサン(ｃ)は上記オルガノポリシロキサン
(ａ)とオルガノポリシロキサン(ｂ)を再平衡化反応させ
共重合することによっても製造できる。
ｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じである。）で示される
シロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3は
前記と同じである。）で示されるシロキサン単位から構
成されるオルガノポリシロキサンである。このようなオ
ルガノポリシロキサンは、例えば、クロロシランやアル
コキシシランを加水分解することにより製造することが
できる。この方法で得られたオルガノポリシロキサン
(ｃ)はシラノール基またはアルコキシ基などの加水分解
性基を含むことが多いので、加水分解後のオルガノポリ
シロキサンを酸性触媒や塩基性触媒存在下で加熱処理し
てシラノール基を少なくしておいてもよい。また、オル
ガノポリシロキサン(ｃ)は上記オルガノポリシロキサン
(ａ)とオルガノポリシロキサン(ｂ)を再平衡化反応させ
共重合することによっても製造できる。
【０００９】本発明の製造方法においては、始発原料で
ある(Ａ)成分は、上記のようなオルガノポリシロキサン
の内、(１)オルガノポリシロキサン(ａ)、(２)オルガノ
ポリシロキサン(ａ)とオルガノポリシロキサン(ｂ)から
なる混合物、(３)オルガノポリシロキサン(ｃ)が一般的
であり、好ましく使用される。しかし、場合によっては
始発原料とて、(４)オルガノポリシロキサン(ａ)とオル
ガノポリシロキサン(ｃ)の混合物、(５)オルガノポリシ
ロキサン(ｂ)とオルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，
(６)オルガノポリシロキサン(ａ)とオルガノポリシロキ
サン(ｂ)とオルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物が使用
される。また、この(Ａ)成分のオルガノポリシロキサン
は、式 ＳｉＯ4/2で示される４官能性のシロキサン単位
からなるシロキサンまたはポリシロキサンを含有してい
てもよい。この場合は、最終的に得られるアルコキシ基
含有オルガノポリシロキサン中に４官能性のポリシロキ
サン単位が含有される。
ある(Ａ)成分は、上記のようなオルガノポリシロキサン
の内、(１)オルガノポリシロキサン(ａ)、(２)オルガノ
ポリシロキサン(ａ)とオルガノポリシロキサン(ｂ)から
なる混合物、(３)オルガノポリシロキサン(ｃ)が一般的
であり、好ましく使用される。しかし、場合によっては
始発原料とて、(４)オルガノポリシロキサン(ａ)とオル
ガノポリシロキサン(ｃ)の混合物、(５)オルガノポリシ
ロキサン(ｂ)とオルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，
(６)オルガノポリシロキサン(ａ)とオルガノポリシロキ
サン(ｂ)とオルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物が使用
される。また、この(Ａ)成分のオルガノポリシロキサン
は、式 ＳｉＯ4/2で示される４官能性のシロキサン単位
からなるシロキサンまたはポリシロキサンを含有してい
てもよい。この場合は、最終的に得られるアルコキシ基
含有オルガノポリシロキサン中に４官能性のポリシロキ
サン単位が含有される。
【００１０】本発明に使用される(Ａ)成分のオルガノポ
リシロキサンもしくはオルガノポリシロキサン混合物
は、一般に、シラノール基や、アルコキシ基などの加水
分解性基を含んでいることが多い。このような加水分解
性基を含有していると最終的に得られるアルコキシ基含
有シリコーンレジンのアルコキシ基の含有量を正確に管
理することが困難になることがある。したがって、本発
明おいては(Ａ)成分中のアルコキシ基の量を予め正確に
測定し把握しておくか、(Ａ)成分に含まれるシラノール
基とアルコキシ基の加水分解性基を予め除去しておくこ
とが好ましい。具体的には本発明の方法において、アル
コキシシランまたはその部分加水分解物を加える前に、
(Ａ)成分を加熱して、生成した水を反応系外に有機溶媒
と共に溜去させ、この(Ａ)成分に含まれるシラノール基
とアルコキシ基を除去する方法が好ましい。
リシロキサンもしくはオルガノポリシロキサン混合物
は、一般に、シラノール基や、アルコキシ基などの加水
分解性基を含んでいることが多い。このような加水分解
性基を含有していると最終的に得られるアルコキシ基含
有シリコーンレジンのアルコキシ基の含有量を正確に管
理することが困難になることがある。したがって、本発
明おいては(Ａ)成分中のアルコキシ基の量を予め正確に
測定し把握しておくか、(Ａ)成分に含まれるシラノール
基とアルコキシ基の加水分解性基を予め除去しておくこ
とが好ましい。具体的には本発明の方法において、アル
コキシシランまたはその部分加水分解物を加える前に、
(Ａ)成分を加熱して、生成した水を反応系外に有機溶媒
と共に溜去させ、この(Ａ)成分に含まれるシラノール基
とアルコキシ基を除去する方法が好ましい。
【００１１】本発明の製造では、(Ａ)成分に(Ｂ)成分を
加える段階で、(Ａ)成分は無水状態である必要がある。
さもないと、製造されるシリコーンレジン中のアルコキ
シ基の含有量が正確に管理できなくなるからである。含
水量の管理は再平衡化反応の際にアルコキシ基が加水分
解するのを防止するのが目的である。したがって、許容
できる含水量はアルコキシ基量の目標精度に応じて決定
すればよい。通常は、(Ａ)成分のオルガノポリシロキサ
ンに水と共沸する有機溶媒を加え、共沸脱水を行なえば
十分である。
加える段階で、(Ａ)成分は無水状態である必要がある。
さもないと、製造されるシリコーンレジン中のアルコキ
シ基の含有量が正確に管理できなくなるからである。含
水量の管理は再平衡化反応の際にアルコキシ基が加水分
解するのを防止するのが目的である。したがって、許容
できる含水量はアルコキシ基量の目標精度に応じて決定
すればよい。通常は、(Ａ)成分のオルガノポリシロキサ
ンに水と共沸する有機溶媒を加え、共沸脱水を行なえば
十分である。
【００１２】本発明に使用される(Ｂ)成分のアルコキシ
シランまたはその部分加水分解物は、シリコーンレジン
にアルコキシ基を導入するための成分である。この(Ｂ)
成分は、一般式Ｒ4 aＳｉ（ＯＲ5）4-a（式中、Ｒ4は前
述したＲ1と同様な１価炭化水素基または１価ハロゲン
化炭化水素基であり、Ｒ5はメチル基，エチル基，プロ
ピル基，ブチル基のような炭素数６以内のアルキル基で
ある。ａは０〜３であり、１または２が好ましい。）で
示されるオルガノアルコキシシランまたはその部分加水
分解物である。具体的にはフェニルトリメトキシシラ
ン，フェニルトリエトキシシラン，メチルトリメトキシ
シラン，ジメチルジメトキシシラン，ジフェニルジメト
キシシラン，メチルビニルジメトキシシラン，メチルフ
ェニルジエトキシシランおよびこれらのアルコキシシラ
ンが部分加水分解された構造のシロキサンまたはポリシ
ロキサンが挙げられる。(Ｂ)成分の添加量は、目的とす
るアルコキシ基含有シリコーンレジンの組成によって決
められるべきものであり一概に規定することはできない
が、通常、全シロキサン単位に占める(Ｂ)成分のシロキ
サン単位のモル数が ０.１モル％〜５０モル％の範囲内
になるような量である。
シランまたはその部分加水分解物は、シリコーンレジン
にアルコキシ基を導入するための成分である。この(Ｂ)
成分は、一般式Ｒ4 aＳｉ（ＯＲ5）4-a（式中、Ｒ4は前
述したＲ1と同様な１価炭化水素基または１価ハロゲン
化炭化水素基であり、Ｒ5はメチル基，エチル基，プロ
ピル基，ブチル基のような炭素数６以内のアルキル基で
ある。ａは０〜３であり、１または２が好ましい。）で
示されるオルガノアルコキシシランまたはその部分加水
分解物である。具体的にはフェニルトリメトキシシラ
ン，フェニルトリエトキシシラン，メチルトリメトキシ
シラン，ジメチルジメトキシシラン，ジフェニルジメト
キシシラン，メチルビニルジメトキシシラン，メチルフ
ェニルジエトキシシランおよびこれらのアルコキシシラ
ンが部分加水分解された構造のシロキサンまたはポリシ
ロキサンが挙げられる。(Ｂ)成分の添加量は、目的とす
るアルコキシ基含有シリコーンレジンの組成によって決
められるべきものであり一概に規定することはできない
が、通常、全シロキサン単位に占める(Ｂ)成分のシロキ
サン単位のモル数が ０.１モル％〜５０モル％の範囲内
になるような量である。
【００１３】本発明の製造方法は上記のような(Ａ)成分
に(Ｂ)成分を加え、塩基性触媒の存在下に加熱して再平
衡化反応させるのであるが、ここで使用する塩基性触媒
は、式Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ単位（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じ
である。）からなるシロキサンが再配列し得るものから
選ぶ必要がある。この再配列反応を進行させるために
は、アルカリ金属触媒が好ましい。ここでアルカリ金属
元素としては、活性の高さと反応速度の点からカリウ
ム、セシウムが望ましく、水酸化物，アルコラート，シ
ラノレートなどの化合物として用いるのがより好まし
い。具体的には、水酸化カリウム，水酸化セシウム，カ
リウムメトキシド，カリウム−ｔ−ブトキシド，カリウ
ムシラノレートなどが例示される。これらの塩基性触媒
は、固形物をそのまま加えても、また、少量の水や少量
の(Ａ)成分に溶解してから加えてもよい。このような塩
基性触媒の添加量は(Ａ)成分に対して１０ppm〜１００
００ppmの範囲内であることが望ましく、１００ppm〜５
０００ppmの範囲内であることがより好ましい。
に(Ｂ)成分を加え、塩基性触媒の存在下に加熱して再平
衡化反応させるのであるが、ここで使用する塩基性触媒
は、式Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ単位（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じ
である。）からなるシロキサンが再配列し得るものから
選ぶ必要がある。この再配列反応を進行させるために
は、アルカリ金属触媒が好ましい。ここでアルカリ金属
元素としては、活性の高さと反応速度の点からカリウ
ム、セシウムが望ましく、水酸化物，アルコラート，シ
ラノレートなどの化合物として用いるのがより好まし
い。具体的には、水酸化カリウム，水酸化セシウム，カ
リウムメトキシド，カリウム−ｔ−ブトキシド，カリウ
ムシラノレートなどが例示される。これらの塩基性触媒
は、固形物をそのまま加えても、また、少量の水や少量
の(Ａ)成分に溶解してから加えてもよい。このような塩
基性触媒の添加量は(Ａ)成分に対して１０ppm〜１００
００ppmの範囲内であることが望ましく、１００ppm〜５
０００ppmの範囲内であることがより好ましい。
【００１４】本発明の製造方法は、再平衡化反応中にレ
ジンが析出することを防止し、かつ反応系の粘度を低く
抑えるために適当な有機溶媒の存在下で製造することが
好ましい。使用する有機溶媒は製造されるシリコーンレ
ジンの種類によって変るが、トルエン，キシレンなどの
芳香族系溶媒、アセトン，メチルイソブチルケトンなど
のケトン系溶媒、オクタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒
などから選択されたものがよい。
ジンが析出することを防止し、かつ反応系の粘度を低く
抑えるために適当な有機溶媒の存在下で製造することが
好ましい。使用する有機溶媒は製造されるシリコーンレ
ジンの種類によって変るが、トルエン，キシレンなどの
芳香族系溶媒、アセトン，メチルイソブチルケトンなど
のケトン系溶媒、オクタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒
などから選択されたものがよい。
【００１５】以上述べた(Ａ)成分、(Ｂ)成分，塩基性触
媒および必要に応じて使用する有機溶媒の添加順序に特
に制限はなく、必要に応じて適宜変えることができる。
例えば、(Ａ)成分のオルガノポリシロキサン中の水分や
シラノール基を除去する場合には、(Ａ)成分と有機溶媒
の中に塩基性触媒を加え、加熱して有機溶媒と共に水を
共沸脱水し、その後に(Ｂ)成分のアルコキシシランを加
えるのがよい。(Ａ)成分中にアルコキシ基などの加水分
解性基が含まれる場合には、オルガノポリシロキサンと
有機溶媒の中に塩基性触媒を加え、水を加えて加水分解
性基を分解した後、有機溶媒と共に水を共沸脱水し、そ
の後にアルコキシシランを加えるのがよい。(Ａ)成分が
シラノール基や水分を含まない場合には(Ａ)成分、(Ｂ)
成分、有機溶媒、塩基性触媒の順序で添加して再平衡化
反応させることが好ましい。
媒および必要に応じて使用する有機溶媒の添加順序に特
に制限はなく、必要に応じて適宜変えることができる。
例えば、(Ａ)成分のオルガノポリシロキサン中の水分や
シラノール基を除去する場合には、(Ａ)成分と有機溶媒
の中に塩基性触媒を加え、加熱して有機溶媒と共に水を
共沸脱水し、その後に(Ｂ)成分のアルコキシシランを加
えるのがよい。(Ａ)成分中にアルコキシ基などの加水分
解性基が含まれる場合には、オルガノポリシロキサンと
有機溶媒の中に塩基性触媒を加え、水を加えて加水分解
性基を分解した後、有機溶媒と共に水を共沸脱水し、そ
の後にアルコキシシランを加えるのがよい。(Ａ)成分が
シラノール基や水分を含まない場合には(Ａ)成分、(Ｂ)
成分、有機溶媒、塩基性触媒の順序で添加して再平衡化
反応させることが好ましい。
【００１６】本発明の製造方法においては、再平衡化反
応は加熱することによって行われる。再平衡化反応とは
シロキサン結合の切断と再結合がランダムに起こり、そ
の結果、反応系中に存在するオルガノポリシロキサンと
シランは互いに再分配される反応である。本発明の方法
においてはケイ素−アルコキシ基の結合もシロキサン結
合と共に再平衡化する。この再平衡化反応の温度は８０
〜２００℃で行なうのが好ましい。これは、温度が低す
ぎると再平衡化反応が十分に進行せず、逆に温度が高す
ぎるとケイ素に結合した有機基の分解が起こることがあ
るためである。特に好ましい再平衡化反応の温度は１０
０〜１５０℃である。有機溶媒を使用する場合には、沸
点がこの範囲にあるものを選択することによって、有機
溶媒の還流温度で容易に再平衡化反応を進めることがで
きる。注意すべき点は、再平衡化反応の過程は無水条件
下で行なうことである。再平衡化反応中に水分が反応系
に侵入するとアルコキシ基が加水分解されて最終的に得
られるシリコーンレジン中のアルコキシ基含有量が減少
し、最悪の場合には再平衡化反応中にゲル化したりレジ
ンが沈澱する。
応は加熱することによって行われる。再平衡化反応とは
シロキサン結合の切断と再結合がランダムに起こり、そ
の結果、反応系中に存在するオルガノポリシロキサンと
シランは互いに再分配される反応である。本発明の方法
においてはケイ素−アルコキシ基の結合もシロキサン結
合と共に再平衡化する。この再平衡化反応の温度は８０
〜２００℃で行なうのが好ましい。これは、温度が低す
ぎると再平衡化反応が十分に進行せず、逆に温度が高す
ぎるとケイ素に結合した有機基の分解が起こることがあ
るためである。特に好ましい再平衡化反応の温度は１０
０〜１５０℃である。有機溶媒を使用する場合には、沸
点がこの範囲にあるものを選択することによって、有機
溶媒の還流温度で容易に再平衡化反応を進めることがで
きる。注意すべき点は、再平衡化反応の過程は無水条件
下で行なうことである。再平衡化反応中に水分が反応系
に侵入するとアルコキシ基が加水分解されて最終的に得
られるシリコーンレジン中のアルコキシ基含有量が減少
し、最悪の場合には再平衡化反応中にゲル化したりレジ
ンが沈澱する。
【００１７】再平衡化反応の進行は、アルコキシシラン
の還流状態の変化、有機溶媒を使用した場合にはその還
流状態などで観察できることもあるが、外観の変化は観
察されないことが多い。したがって、この反応の進行
は、反応液を少量抜き出して中和してから、シリコーン
レジンの特性を測定することによって追跡するのが最も
確実である。測定する特性としては分子量測定が最も望
ましいが、常温で液状のシリコーンレジンならば粘度を
測定することにより、熱可塑性シリコーンレジンならば
軟化点やガラス転移点などの測定によってもこの反応を
追跡することができる。それ以上加熱還流を続けても特
性値が変化しなくなれば、その時点を終点とするのが一
般的である。
の還流状態の変化、有機溶媒を使用した場合にはその還
流状態などで観察できることもあるが、外観の変化は観
察されないことが多い。したがって、この反応の進行
は、反応液を少量抜き出して中和してから、シリコーン
レジンの特性を測定することによって追跡するのが最も
確実である。測定する特性としては分子量測定が最も望
ましいが、常温で液状のシリコーンレジンならば粘度を
測定することにより、熱可塑性シリコーンレジンならば
軟化点やガラス転移点などの測定によってもこの反応を
追跡することができる。それ以上加熱還流を続けても特
性値が変化しなくなれば、その時点を終点とするのが一
般的である。
【００１８】本発明のアルコキシ基含有シリコーンレジ
ンの製造方法は、上述した方法で終点を見出して完了し
てもよい。しかし、本発明には特徴として、終点を過ぎ
た後、シリコーンレジンの最も重要な特性のひとつであ
る分子量の微調整が、溶液中の固形分濃度によって可能
なことである。すなわち、有機溶媒を追加すると分子量
が低下し、逆に有機溶媒を反応系から留去すると分子量
が増大する。この操作を終点を過ぎた後の仕上げステッ
プとして行なうことが推奨される。この操作によって、
反応生成物を反応器から取り出す前に目的の分子量に完
全に調整することができる。この操作を行なっても、ア
ルコキシ基含有量は変化しない点が本発明による製造方
法の特徴の一つである。
ンの製造方法は、上述した方法で終点を見出して完了し
てもよい。しかし、本発明には特徴として、終点を過ぎ
た後、シリコーンレジンの最も重要な特性のひとつであ
る分子量の微調整が、溶液中の固形分濃度によって可能
なことである。すなわち、有機溶媒を追加すると分子量
が低下し、逆に有機溶媒を反応系から留去すると分子量
が増大する。この操作を終点を過ぎた後の仕上げステッ
プとして行なうことが推奨される。この操作によって、
反応生成物を反応器から取り出す前に目的の分子量に完
全に調整することができる。この操作を行なっても、ア
ルコキシ基含有量は変化しない点が本発明による製造方
法の特徴の一つである。
【００１９】再平衡化反応終了したら、塩基性触媒を中
和する。中和は炭酸ガス、カルボン酸などの弱酸、トリ
メチルクロロシランなどのクロロシラン類など、従来知
られているほとんどの物質で行なうことができる。中和
で生成した塩は濾過、水洗などの方法によって除去する
ことが好ましい。かくして製造されたアルコキシ基含有
シリコーンレジンは、例えば、電気絶縁材，耐熱塗料，
保護コーティング材，有機樹脂の物理特性改質剤等各種
用途に使用される。
和する。中和は炭酸ガス、カルボン酸などの弱酸、トリ
メチルクロロシランなどのクロロシラン類など、従来知
られているほとんどの物質で行なうことができる。中和
で生成した塩は濾過、水洗などの方法によって除去する
ことが好ましい。かくして製造されたアルコキシ基含有
シリコーンレジンは、例えば、電気絶縁材，耐熱塗料，
保護コーティング材，有機樹脂の物理特性改質剤等各種
用途に使用される。
【００２０】
【実施例】つぎに本発明を実施例にて説明する。尚、実
施例中、粘度は２５℃における値である。また、Ｍｎは
数平均分子量を示し、Ｍｗは重量平均分子量を示す。％
は重量パーセントを示す。
施例中、粘度は２５℃における値である。また、Ｍｎは
数平均分子量を示し、Ｍｗは重量平均分子量を示す。％
は重量パーセントを示す。
【００２１】
【参考例１】 フェニルトリクロロシラン加水分解物の合成 ３００ｇのフェニルトリクロロシランを２００ｇのトル
エンに溶解させ、これを、２５０ｇの水と４００ｇのト
ルエンを入れた反応容器の中に１０℃の温度条件下で滴
下した。滴下終了後、６時間加熱還流し、その後、トル
エン相を分離した。このトルエン溶液を３００ｇの水で
中性になるまで繰り返し洗浄した。その後、減圧下８０
℃でトルエンを留去することによって、１７７.７ｇの
白色の固体を得た（以下、この白色固体を試料Ａと呼
ぶ）。
エンに溶解させ、これを、２５０ｇの水と４００ｇのト
ルエンを入れた反応容器の中に１０℃の温度条件下で滴
下した。滴下終了後、６時間加熱還流し、その後、トル
エン相を分離した。このトルエン溶液を３００ｇの水で
中性になるまで繰り返し洗浄した。その後、減圧下８０
℃でトルエンを留去することによって、１７７.７ｇの
白色の固体を得た（以下、この白色固体を試料Ａと呼
ぶ）。
【００２２】
【参考例２】 モノフェニル-ジメチルシロキサン共重合体の合成 ３３６.７ｇのフェニルトリクロロシランと５８.１ｇの
ジメチルジクロロシランを１２６ｇのトルエンに溶解さ
せた。次いで、これを、１００ｇの水と４００ｇのトル
エンおよび１４０ｇのイソプロパノールを入れた反応容
器の中に１０℃の温度条件下で滴下した。滴下終了後、
１時間加熱還流し、その後、トルエン相を分離した。こ
のトルエン溶液を３００ｇの水で中性になるまで繰り返
し洗浄することにより、固形分５０重量％のシロキサン
共重合体トルエン溶液４５２ｇを得た（以下、この白色
固体を試料Ｂと呼ぶ）。次に、試料Ｂに０.２ｇの水酸
化カリウムを加えて加熱し、トルエンと共沸させ水を分
離した。水の流出が止まってからさらに５時間トルエン
還流状態で加熱を続けた後冷却した。酢酸で中和した後
３００ｇの水で３回水洗し、トルエンを加熱・減圧する
ことにより留去して２１５ｇのシリコーン共重合体を得
た（以下、この白色固体を試料Ｃと呼ぶ）。29Ｓｉ−Ｎ
ＭＲによって試料Ｃにはシラノール基が存在しないこと
が確認された。
ジメチルジクロロシランを１２６ｇのトルエンに溶解さ
せた。次いで、これを、１００ｇの水と４００ｇのトル
エンおよび１４０ｇのイソプロパノールを入れた反応容
器の中に１０℃の温度条件下で滴下した。滴下終了後、
１時間加熱還流し、その後、トルエン相を分離した。こ
のトルエン溶液を３００ｇの水で中性になるまで繰り返
し洗浄することにより、固形分５０重量％のシロキサン
共重合体トルエン溶液４５２ｇを得た（以下、この白色
固体を試料Ｂと呼ぶ）。次に、試料Ｂに０.２ｇの水酸
化カリウムを加えて加熱し、トルエンと共沸させ水を分
離した。水の流出が止まってからさらに５時間トルエン
還流状態で加熱を続けた後冷却した。酢酸で中和した後
３００ｇの水で３回水洗し、トルエンを加熱・減圧する
ことにより留去して２１５ｇのシリコーン共重合体を得
た（以下、この白色固体を試料Ｃと呼ぶ）。29Ｓｉ−Ｎ
ＭＲによって試料Ｃにはシラノール基が存在しないこと
が確認された。
【００２３】
【参考例３】 モノフェニル-ジメチル-４官能シロキサン共重合体の合
成 ３１７.３ｇのフェニルトリクロロシランと３８.７ｇの
ジメチルジクロロシラン、および３４.０ｇのテトラク
ロロシランを１２６ｇのトルエンに溶解させた。次い
で、これを、１００ｇの水と４００ｇのトルエンおよび
１４０ｇのイソプロパノールを入れた反応容器中に１０
℃の温度条件下で滴下した。滴下終了後、１時間加熱還
流し、その後、トルエン相を分離した。このトルエン溶
液を３００ｇの水で中性になるまで繰り返し洗浄するこ
とにより、固形分５０重量％のシロキサン共重合体トル
エン溶液４３８ｇを得た（以下、この白色固体を試料Ｄ
と呼ぶ）。
成 ３１７.３ｇのフェニルトリクロロシランと３８.７ｇの
ジメチルジクロロシラン、および３４.０ｇのテトラク
ロロシランを１２６ｇのトルエンに溶解させた。次い
で、これを、１００ｇの水と４００ｇのトルエンおよび
１４０ｇのイソプロパノールを入れた反応容器中に１０
℃の温度条件下で滴下した。滴下終了後、１時間加熱還
流し、その後、トルエン相を分離した。このトルエン溶
液を３００ｇの水で中性になるまで繰り返し洗浄するこ
とにより、固形分５０重量％のシロキサン共重合体トル
エン溶液４３８ｇを得た（以下、この白色固体を試料Ｄ
と呼ぶ）。
【００２４】
【実施例１】反応容器に１０６.９ｇの参考例１で得ら
れた試料Ａと１１８.９ｇのトルエンを入れ、さらに
０.２ｇの水酸化セシウムを添加した。留出する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、
冷却した。さらに １２.０ｇのジメチルジメトキシシラ
ンを添加し、固形分濃度を５０％程に調整した上で再び
加熱還流を行なった。２時間毎にサンプリングして中和
の後、ＧＰＣによって分子量分布を測定した。１０時間
後、分子量分布が一定になったことを確認してから冷却
した。反応混合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシラン
で中和した後、これを濾過して塩を除去した。次いで、
トルエンを真空下で加熱留去することによって、１１
０.５ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリコ
ーンレジンはＭｎ＝１８１０、Ｍｗ＝３４７０、ガラス
転移点７８℃、軟化点１０１℃、メトキシ基含有量５.
１％（計算値５.２％）であった。
れた試料Ａと１１８.９ｇのトルエンを入れ、さらに
０.２ｇの水酸化セシウムを添加した。留出する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、
冷却した。さらに １２.０ｇのジメチルジメトキシシラ
ンを添加し、固形分濃度を５０％程に調整した上で再び
加熱還流を行なった。２時間毎にサンプリングして中和
の後、ＧＰＣによって分子量分布を測定した。１０時間
後、分子量分布が一定になったことを確認してから冷却
した。反応混合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシラン
で中和した後、これを濾過して塩を除去した。次いで、
トルエンを真空下で加熱留去することによって、１１
０.５ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリコ
ーンレジンはＭｎ＝１８１０、Ｍｗ＝３４７０、ガラス
転移点７８℃、軟化点１０１℃、メトキシ基含有量５.
１％（計算値５.２％）であった。
【００２５】
【実施例２】反応容器に１００.６ｇの参考例１で得ら
れた試料Ａと１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに
０.２ｇの水酸化セシウムを添加した。留出する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、
冷却した。さらに １６.３ｇのオクタメチルシクロシロ
キサンと１９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを添
加し、固形分濃度を５０％程に調整した上で再び加熱還
流を行なった。２時間毎にサンプリングして中和の後、
ＧＰＣによって分子量分布を測定した。１４時間後、分
子量分布が一定になったことを確認してから冷却した。
反応混合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシランで中和
した後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエ
ンを真空下で加熱留去することによって、１２９.６ｇ
の無色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジ
ンは Ｍｎ＝１５５０、Ｍｗ＝２８３０、ガラス転移点
４４℃、軟化点６４℃、メトキシ基含有量６.６％（計
算値６.７％）であった。
れた試料Ａと１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに
０.２ｇの水酸化セシウムを添加した。留出する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、
冷却した。さらに １６.３ｇのオクタメチルシクロシロ
キサンと１９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを添
加し、固形分濃度を５０％程に調整した上で再び加熱還
流を行なった。２時間毎にサンプリングして中和の後、
ＧＰＣによって分子量分布を測定した。１４時間後、分
子量分布が一定になったことを確認してから冷却した。
反応混合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシランで中和
した後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエ
ンを真空下で加熱留去することによって、１２９.６ｇ
の無色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジ
ンは Ｍｎ＝１５５０、Ｍｗ＝２８３０、ガラス転移点
４４℃、軟化点６４℃、メトキシ基含有量６.６％（計
算値６.７％）であった。
【００２６】
【実施例３】反応容器に１１６.９ｇの参考例２で得ら
れた試料Ｂと１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに
０.２ｇの水酸化カリウムを添加した。留出する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後冷
却した。次いで、これに１９.８ｇのフェニルトリメト
キシシランを添加し、固形分濃度を５０％程に調整した
上で再び加熱還流を行なった。２時間毎にサンプリング
して中和の後、ＧＰＣによって分子量分布を測定した。
１４時間後、分子量分布が一定になったことを確認して
から冷却した。０.２ｇのトリメチルクロロシランで中
和した後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トル
エンを真空下で加熱留去することによって、１３２.０
ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレ
ジンはＭｎ＝１５６０、Ｍｗ＝２８４０、ガラス転移点
４４℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量６.６％（計
算値６.７％）であり、実施例２で得たシリコーンレジ
ンとよく一致していた。
れた試料Ｂと１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに
０.２ｇの水酸化カリウムを添加した。留出する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後冷
却した。次いで、これに１９.８ｇのフェニルトリメト
キシシランを添加し、固形分濃度を５０％程に調整した
上で再び加熱還流を行なった。２時間毎にサンプリング
して中和の後、ＧＰＣによって分子量分布を測定した。
１４時間後、分子量分布が一定になったことを確認して
から冷却した。０.２ｇのトリメチルクロロシランで中
和した後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トル
エンを真空下で加熱留去することによって、１３２.０
ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレ
ジンはＭｎ＝１５６０、Ｍｗ＝２８４０、ガラス転移点
４４℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量６.６％（計
算値６.７％）であり、実施例２で得たシリコーンレジ
ンとよく一致していた。
【００２７】
【実施例４】反応容器に１２.９ｇの参考例１で得られ
た試料Ａと１４９.６ｇのトルエンを入れ、さらに ０.
２ｇの水酸化カリウムを添加した。留出する水を除去し
ながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、冷却
した。さらに １１６.９ｇの参考例２で得られた試料Ｂ
と１９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを添加し、
固形分濃度を５０％程に調整した上で再び加熱還流を行
なった。２時間毎にサンプリングして中和の後、ＧＰＣ
によって分子量分布を測定した。１４時間後、分子量分
布が一定になったことを確認してから冷却した。反応混
合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシランで中和した
後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエンを
真空下で加熱留去することによって、１４２.１ｇの無
色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジンは
Ｍｎ＝１７４０、Ｍｗ＝３３１０、ガラス転移点５７
℃、軟化点７８℃、メトキシ基含有量６.０％（計算値
６.１％）であった。
た試料Ａと１４９.６ｇのトルエンを入れ、さらに ０.
２ｇの水酸化カリウムを添加した。留出する水を除去し
ながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、冷却
した。さらに １１６.９ｇの参考例２で得られた試料Ｂ
と１９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを添加し、
固形分濃度を５０％程に調整した上で再び加熱還流を行
なった。２時間毎にサンプリングして中和の後、ＧＰＣ
によって分子量分布を測定した。１４時間後、分子量分
布が一定になったことを確認してから冷却した。反応混
合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシランで中和した
後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエンを
真空下で加熱留去することによって、１４２.１ｇの無
色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジンは
Ｍｎ＝１７４０、Ｍｗ＝３３１０、ガラス転移点５７
℃、軟化点７８℃、メトキシ基含有量６.０％（計算値
６.１％）であった。
【００２８】
【実施例５】反応容器に１１６.９ｇの参考例２で得ら
れた試料Ｃと７.４ｇのオクタメチルシクロテトラシロ
キサンと１４４.１ｇのトルエンと１９.８ｇのフェニル
トリメトキシシランを入れ、さらに ０.２ｇの水酸化セ
シウムを添加した。加熱還流を行ない、２時間毎にサン
プリングして中和の後、ＧＰＣによって分子量分布を測
定した。８時間後、分子量分布が一定になったことを確
認してから冷却した。０.２ｇのトリメチルクロロシラ
ンで中和した後、これを濾過して塩を除去した。次い
で、トルエンを真空下で加熱留去することによって、１
３５.４ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリ
コーンレジンは Ｍｎ＝１４８０、Ｍｗ＝８７５０、ガ
ラス転移点３３℃、軟化点５１℃、メトキシ基含有量
６.４％（計算値６.５％）であった。
れた試料Ｃと７.４ｇのオクタメチルシクロテトラシロ
キサンと１４４.１ｇのトルエンと１９.８ｇのフェニル
トリメトキシシランを入れ、さらに ０.２ｇの水酸化セ
シウムを添加した。加熱還流を行ない、２時間毎にサン
プリングして中和の後、ＧＰＣによって分子量分布を測
定した。８時間後、分子量分布が一定になったことを確
認してから冷却した。０.２ｇのトリメチルクロロシラ
ンで中和した後、これを濾過して塩を除去した。次い
で、トルエンを真空下で加熱留去することによって、１
３５.４ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリ
コーンレジンは Ｍｎ＝１４８０、Ｍｗ＝８７５０、ガ
ラス転移点３３℃、軟化点５１℃、メトキシ基含有量
６.４％（計算値６.５％）であった。
【００２９】
【実施例６】反応容器に１００.６ｇの参考例１で得ら
れた試料Ａと２７３.４ｇのトルエンを入れ、さらに
０.４ｇの水酸化セシウムを添加した。留去する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、
冷却した。さらに１１６.９ｇの参考例２で得られた試
料Ｃと１６.３ｇのオクタメチルシクロテトラシロキサ
ンと１９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを添加
し、固形分濃度を５０％程に調整した上で再び加熱還流
を行った。２時間毎にサンプリングして中和の後、ＧＰ
Ｃによって分子量分布を測定した。１４時間後、分子量
分布が一定になったことを確認してから冷却した。反応
混合物を ０.４ｇのトリメチルクロロシランで中和した
後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエンを
真空下で加熱留去することによって、２６３.８ｇの無
色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジンは
Ｍｎ＝１５５０、Ｍｗ＝２８３０、ガラス転移点４５
℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量６.６％（計算値
６.７％）であり、実施例２で得たシリコーンレジンと
よく一致していた。
れた試料Ａと２７３.４ｇのトルエンを入れ、さらに
０.４ｇの水酸化セシウムを添加した。留去する水を除
去しながら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後、
冷却した。さらに１１６.９ｇの参考例２で得られた試
料Ｃと１６.３ｇのオクタメチルシクロテトラシロキサ
ンと１９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを添加
し、固形分濃度を５０％程に調整した上で再び加熱還流
を行った。２時間毎にサンプリングして中和の後、ＧＰ
Ｃによって分子量分布を測定した。１４時間後、分子量
分布が一定になったことを確認してから冷却した。反応
混合物を ０.４ｇのトリメチルクロロシランで中和した
後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエンを
真空下で加熱留去することによって、２６３.８ｇの無
色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジンは
Ｍｎ＝１５５０、Ｍｗ＝２８３０、ガラス転移点４５
℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量６.６％（計算値
６.７％）であり、実施例２で得たシリコーンレジンと
よく一致していた。
【００３０】
【実施例７】反応容器に１００.６ｇの参考例１で得ら
れた試料Ａ、１６.３ｇのオクタメチルシクロテトラシ
ロキサン、１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに０.２
ｇの水酸化セシウムを添加した。留出する水を除去しな
がら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後冷却し
た。さらに １９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを
添加し、固形分濃度を５０％に調整した上で再び加熱還
流を行なった。２時間毎にサンプリングして中和の後、
ＧＰＣによって分子量分布を測定した。８時間後、分子
量分布が一定になったことを確認してから冷却した。反
応混合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシランで中和し
た後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエン
を真空下で加熱留去することによって、１３１.８ｇの
無色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジン
はＭｎ＝１５４０、Ｍｗ＝２８１０、ガラス転移点４５
℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量６.６％（計算値
６.７％）であり、実施例２で得たシリコーンレジンと
よく一致していた。
れた試料Ａ、１６.３ｇのオクタメチルシクロテトラシ
ロキサン、１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに０.２
ｇの水酸化セシウムを添加した。留出する水を除去しな
がら加熱還流を行ない、水の留出が止まった後冷却し
た。さらに １９.８ｇのフェニルトリメトキシシランを
添加し、固形分濃度を５０％に調整した上で再び加熱還
流を行なった。２時間毎にサンプリングして中和の後、
ＧＰＣによって分子量分布を測定した。８時間後、分子
量分布が一定になったことを確認してから冷却した。反
応混合物を ０.２ｇのトリメチルクロロシランで中和し
た後、これを濾過して塩を除去した。次いで、トルエン
を真空下で加熱留去することによって、１３１.８ｇの
無色のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジン
はＭｎ＝１５４０、Ｍｗ＝２８１０、ガラス転移点４５
℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量６.６％（計算値
６.７％）であり、実施例２で得たシリコーンレジンと
よく一致していた。
【００３１】
【実施例８】反応容器に１１６.９ｇの参考例３で得ら
れた試料Ｃと１９.８ｇのフェニルトリメトキシシラン
に１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに０.２ｇの水酸
化セシウムを添加した。加熱還流を行ない、２時間毎に
サンプリングして中和の後、ＧＰＣによって分子量分布
を測定した。６時間後、分子量分布が一定になったこと
を確認してから冷却した。０.２ｇのトリメチルクロロ
シランで中和した後、これを濾過して塩を除去した。次
いで、トルエンを真空下で加熱留去することによって、
１３０.８ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシ
リコーンレジンはＭｎ＝１５８０、Ｍｗ＝２８６０、ガ
ラス転移点４６℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量
６.６％（計算値６.７％）であり、実施例２で得たシリ
コーンレジンとよく一致していた。
れた試料Ｃと１９.８ｇのフェニルトリメトキシシラン
に１３６.７ｇのトルエンを入れ、さらに０.２ｇの水酸
化セシウムを添加した。加熱還流を行ない、２時間毎に
サンプリングして中和の後、ＧＰＣによって分子量分布
を測定した。６時間後、分子量分布が一定になったこと
を確認してから冷却した。０.２ｇのトリメチルクロロ
シランで中和した後、これを濾過して塩を除去した。次
いで、トルエンを真空下で加熱留去することによって、
１３０.８ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシ
リコーンレジンはＭｎ＝１５８０、Ｍｗ＝２８６０、ガ
ラス転移点４６℃、軟化点６５℃、メトキシ基含有量
６.６％（計算値６.７％）であり、実施例２で得たシリ
コーンレジンとよく一致していた。
【００３２】
【実施例９】実施例７において、オクタメチルシクロテ
トラシロキサンの代りに、１８.９ｇの１,３,５,７−テ
トラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンを用い
た以外は実施例７と同様にして、８時間の加熱還流で１
３２.３ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリ
コーンレジンはＭｎ＝１５９０、Ｍｗ＝２８６０、ガラ
ス転移点４２℃、軟化点６０℃、メトキシ基含有量６.
６％（計算値６.７％）であった。
トラシロキサンの代りに、１８.９ｇの１,３,５,７−テ
トラメチルテトラビニルシクロテトラシロキサンを用い
た以外は実施例７と同様にして、８時間の加熱還流で１
３２.３ｇの無色のシリコーンレジンを得た。このシリ
コーンレジンはＭｎ＝１５９０、Ｍｗ＝２８６０、ガラ
ス転移点４２℃、軟化点６０℃、メトキシ基含有量６.
６％（計算値６.７％）であった。
【００３３】
【実施例１０】実施例７において、加熱還流時の固形分
濃度を４０％、６０％、４０％、６０％と順次変えて５
時間づつ再平衡化反応を行なった。５時間経過後にサン
プリングして各々のレジンの特性を測定した結果、表１
に示すとおりの結果を得た。これらの結果から、固形分
濃度を変えることによってメトキシ基含有量は一定のま
ま、分子量と熱的性質を可逆的に変えられることが確認
できた。
濃度を４０％、６０％、４０％、６０％と順次変えて５
時間づつ再平衡化反応を行なった。５時間経過後にサン
プリングして各々のレジンの特性を測定した結果、表１
に示すとおりの結果を得た。これらの結果から、固形分
濃度を変えることによってメトキシ基含有量は一定のま
ま、分子量と熱的性質を可逆的に変えられることが確認
できた。
【表１】
【００３４】
【実施例１１】実施例７において試料Ａ、オクタメチル
シクロテトラシロキサンの量を各々５１.６ｇ、２９.６
ｇに変え、さらにフェニルトリメトキシシランを２４.
０ｇのジメチルジメトキシシランに変えた以外は実施例
７と同様にして、１０２.０ｇの無色透明な液状シリコ
ーンレジンを得た。このシリコーンレジンはＭｎ＝２４
４０、Ｍｗ＝５２４０、粘度１８９００ｃｐ、メトキシ
基含有量１１.６％（計算値１１.８％）であった。
シクロテトラシロキサンの量を各々５１.６ｇ、２９.６
ｇに変え、さらにフェニルトリメトキシシランを２４.
０ｇのジメチルジメトキシシランに変えた以外は実施例
７と同様にして、１０２.０ｇの無色透明な液状シリコ
ーンレジンを得た。このシリコーンレジンはＭｎ＝２４
４０、Ｍｗ＝５２４０、粘度１８９００ｃｐ、メトキシ
基含有量１１.６％（計算値１１.８％）であった。
【００３５】
【実施例１２】実施例３において試料Ｂを１１３.９ｇ
の試料Ｄに変え、さらにトルエンの量を１３３.７ｇに
変えた他は実施例３と同様にして、１２９.８ｇの無色
のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジンはＭ
ｎ＝３５１０、Ｍｗ＝６８１０、ガラス転移点７４℃、
軟化点９２℃、メトキシ基含有６.９％（計算値７.０
％）であった。
の試料Ｄに変え、さらにトルエンの量を１３３.７ｇに
変えた他は実施例３と同様にして、１２９.８ｇの無色
のシリコーンレジンを得た。このシリコーンレジンはＭ
ｎ＝３５１０、Ｍｗ＝６８１０、ガラス転移点７４℃、
軟化点９２℃、メトキシ基含有６.９％（計算値７.０
％）であった。
【００３６】
【発明の効果】本発明のアルコキシ基含有シリコーンレ
ジンの製造方法は、アルコキシ基含有量と分子量の制御
が容易に行なえるという、特徴を有する。
ジンの製造方法は、アルコキシ基含有量と分子量の制御
が容易に行なえるという、特徴を有する。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年３月２７日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】
【課題を解決するための手段およびその作用】本発明
は、(Ａ)(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水
素基または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示さ
れるシロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキ
サン(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ
2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または
１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキ
サン単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の
混合物，(３)式Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じ
である。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3Ｓｉ
Ｏ（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オル
ガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オルガノポ
リシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の
混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガノポリシ
ロキサンもしくはオルガノポリシロキサン混合物に、無
水条件下で(Ｂ)式 Ｒ4 aＳｉ（ＯＲ5）4-a（式中、Ｒ4は
１価炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水素基、Ｒ5
は炭素数６以内のアルキル基であり、ａは０〜３であ
る。）で示されるアルコキシシランまたはその部分加水
分解物を加え、塩基性触媒存在下で加熱して、前記(Ａ)
成分と(Ｂ)成分を再平衡化反応させることを特徴とす
る、アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法に関
する。
は、(Ａ)(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水
素基または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示さ
れるシロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキ
サン(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ
2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または
１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキ
サン単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の
混合物，(３)式Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じ
である。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3Ｓｉ
Ｏ（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オル
ガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オルガノポ
リシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の
混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガノポリシ
ロキサンもしくはオルガノポリシロキサン混合物に、無
水条件下で(Ｂ)式 Ｒ4 aＳｉ（ＯＲ5）4-a（式中、Ｒ4は
１価炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水素基、Ｒ5
は炭素数６以内のアルキル基であり、ａは０〜３であ
る。）で示されるアルコキシシランまたはその部分加水
分解物を加え、塩基性触媒存在下で加熱して、前記(Ａ)
成分と(Ｂ)成分を再平衡化反応させることを特徴とす
る、アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法に関
する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】これを説明すると本発明に使用される(Ａ)
成分のオルガノポリシロキサンもしくはオルガノポリシ
ロキサン混合物は始発原料であり、次のような６種類の
オルガノポリシロキサンからなる群から選ばれる。即
ち、(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水素基
または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ2Ｒ3
ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または１価
ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキサン
単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の混合
物，(３)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じであ
る。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ
（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示されるシ
ロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オル
ガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オルガノポ
リシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の
混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガノポリシ
ロキサンである。
成分のオルガノポリシロキサンもしくはオルガノポリシ
ロキサン混合物は始発原料であり、次のような６種類の
オルガノポリシロキサンからなる群から選ばれる。即
ち、(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は１価炭化水素基
または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示される
シロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と式Ｒ2Ｒ3
ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化水素基または１価
ハロゲン化炭化水素基である。）で示されるシロキサン
単位から構成されるオルガノポリシロキサン(ｂ)の混合
物，(３)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は前記と同じであ
る。）で示されるシロキサン単位と式 Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ
（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じである。）で示されるシ
ロキサン単位から構成されるオルガノポリシロキサン
(ｃ)，(４)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オル
ガノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(５)前記オルガノポ
リシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の
混合物、(６)前記オルガノポリシロキサン(ａ)と前記オ
ルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オルガノポリシロキサ
ン(ｃ)の混合物からなる群から選ばれるオルガノポリシ
ロキサンである。
Claims (5)
- 【請求項１】 (Ａ)(１)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1は
１価炭化水素基または１価ハロゲン化炭化水素基であ
る。）で示されるシロキサン単位から構成されるオルガ
ノポリシロキサン(ａ)，(２)前記オルガノポリシロキサ
ン(ａ)と式Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3 は１価炭化
水素基または１価ハロゲン化炭化水素基である。）で示
されるシロキサン単位から構成されるオルガノポリシロ
キサン(ｂ)の混合物，(３)式 Ｒ1ＳｉＯ3/2（式中、Ｒ1
は前記と同じである。）で示されるシロキサン単位と式
Ｒ2Ｒ3ＳｉＯ（式中、Ｒ2，Ｒ3は前記と同じであ
る。）で示されるシロキサン単位から構成されるオルガ
ノポリシロキサン(ｃ)の混合物，(４)前記オルガノポリ
シロキサン(ａ)と前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の混
合物，(５)前記オルガノポリシロキサン(ｂ)と前記オル
ガノポリシロキサン(ｃ)の混合物、(６)前記オルガノポ
リシロキサン(ａ)と前記オルガノポリシロキサン(ｂ)と
前記オルガノポリシロキサン(ｃ)の混合物からなる群か
ら選ばれるオルガノポリシロキサンもしくはオルガノポ
リシロキサン混合物に、無水条件下で(Ｂ)式 Ｒ4 aＳｉ
（ＯＲ5）4-a（式中、Ｒ4は１価炭化水素基または１価
ハロゲン化炭化水素基、Ｒ5は炭素数６以内のアルキル
基であり、ａは０〜３である。）で示されるアルコキシ
シランまたはその部分加水分解物を加え、塩基性触媒存
在下で加熱して、前記(Ａ)成分と(Ｂ)成分を再平衡化反
応させることを特徴とする、アルコキシ基含有シリコー
ンレジンの製造方法。 - 【請求項２】 Ｒ1がフェニル基である、請求項１記載
のアルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法。 - 【請求項３】 有機溶媒の存在下で製造することを特徴
とする、請求項１記載のシリコーンレジンの製造方法。 - 【請求項４】 塩基性触媒がアルカリ金属触媒である、
請求項１記載のシリコーンレジンの製造方法。 - 【請求項５】 (Ｂ)成分のアルコキシシシランまたはそ
の部分加水分解物を加える前に、(Ａ)成分のオルガノポ
リシロキサンを加熱し、生成した水を有機溶媒と共に反
応系外に溜去させることにより、該(Ａ)成分に含まれる
シラノール基とアルコキシ基を除去することを特徴とす
る、請求項３記載のアルコキシ基含有シリコーンレジン
の製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07353792A JP3410486B2 (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法 |
| US08/013,901 US5300610A (en) | 1992-02-25 | 1993-02-05 | Manufactured method of alkoxy radical-containing silicone resin |
| DE69313685T DE69313685T2 (de) | 1992-02-25 | 1993-02-24 | Herstellungsverfahren für Alkoxyradikal-enthaltendes Silikonharz |
| EP93102860A EP0557958B1 (en) | 1992-02-25 | 1993-02-24 | Method for making alkoxy radical-containing silicone resin |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP07353792A JP3410486B2 (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05239214A true JPH05239214A (ja) | 1993-09-17 |
| JP3410486B2 JP3410486B2 (ja) | 2003-05-26 |
Family
ID=13521083
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP07353792A Expired - Fee Related JP3410486B2 (ja) | 1992-02-25 | 1992-02-25 | アルコキシ基含有シリコーンレジンの製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5300610A (ja) |
| EP (1) | EP0557958B1 (ja) |
| JP (1) | JP3410486B2 (ja) |
| DE (1) | DE69313685T2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08143675A (ja) * | 1994-11-24 | 1996-06-04 | Toray Dow Corning Silicone Co Ltd | シリコーンレジンおよびその製造方法 |
| JP2005272844A (ja) * | 2004-03-23 | 2005-10-06 | Wacker Chemie Gmbh | 有機ケイ素化合物をベースとする架橋性材料 |
| JP2009215343A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Adeka Corp | 熱硬化性樹脂 |
| WO2011019005A1 (ja) * | 2009-08-11 | 2011-02-17 | セントラル硝子株式会社 | 耐熱性ポリシロキサン系組成物 |
| US9010846B2 (en) | 2012-03-07 | 2015-04-21 | Komatsu Ltd. | Cab frame for construction machinery and painting method therefor |
| JP2018059000A (ja) * | 2016-10-06 | 2018-04-12 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性シリコーン樹脂組成物 |
| JP2019081861A (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-30 | 石塚硝子株式会社 | 有機無機ハイブリットガラス材料 |
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|---|---|---|---|---|
| CA2336510A1 (en) * | 2000-04-06 | 2001-10-06 | Goldschmidt Ag | Methoxy-functional organopolysiloxanes, their preparation and use |
| DE10261289A1 (de) * | 2002-12-27 | 2004-07-15 | Sustech Gmbh & Co. Kg | Verfahren zur Herstellung von Polyalkyl(halb)metallaten |
| DE102005003899A1 (de) * | 2005-01-27 | 2006-08-03 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von alkoxyarmen Siliconharzen |
| JP4781780B2 (ja) * | 2005-10-27 | 2011-09-28 | 信越化学工業株式会社 | 光関連デバイス封止用樹脂組成物およびその硬化物ならびに半導体素子の封止方法 |
| CN111902458B (zh) * | 2018-08-24 | 2022-06-28 | 瓦克化学股份公司 | 用于制备支链有机聚硅氧烷的方法 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB792470A (en) * | 1953-12-14 | 1958-03-26 | Union Carbide Corp | Alkoxy-terminated siloxane polymers |
| US3234179A (en) * | 1962-02-23 | 1966-02-08 | Gen Electric | Process for making organopolysiloxanes |
| DE1595062C2 (de) * | 1964-05-27 | 1982-11-25 | Owens-Illinois, Inc., 43666 Toledo, Ohio | Verfahren zur Herstellung fester Polysiloxanharze |
| US3846358A (en) * | 1973-09-20 | 1974-11-05 | Gen Electric | Process for producing silicone resins |
| GB1604414A (en) * | 1977-07-27 | 1981-12-09 | Raychem Ltd | Silicone resin |
| GB1604413A (en) * | 1977-07-27 | 1981-12-09 | Raychem Ltd | Process for the production of silicone resins |
| DE3106186A1 (de) * | 1981-02-19 | 1982-09-09 | Wacker-Chemie GmbH, 8000 München | Verfahren zur herstellung von organopolysiloxanen und verwendung dieser organop |
-
1992
- 1992-02-25 JP JP07353792A patent/JP3410486B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-02-05 US US08/013,901 patent/US5300610A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-02-24 EP EP93102860A patent/EP0557958B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-02-24 DE DE69313685T patent/DE69313685T2/de not_active Expired - Fee Related
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| JP4612444B2 (ja) * | 2004-03-23 | 2011-01-12 | ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフト | 有機ケイ素化合物をベースとする架橋性材料 |
| JP2009215343A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Adeka Corp | 熱硬化性樹脂 |
| WO2011019005A1 (ja) * | 2009-08-11 | 2011-02-17 | セントラル硝子株式会社 | 耐熱性ポリシロキサン系組成物 |
| US9010846B2 (en) | 2012-03-07 | 2015-04-21 | Komatsu Ltd. | Cab frame for construction machinery and painting method therefor |
| JP2018059000A (ja) * | 2016-10-06 | 2018-04-12 | 信越化学工業株式会社 | 硬化性シリコーン樹脂組成物 |
| JP2019081861A (ja) * | 2017-10-31 | 2019-05-30 | 石塚硝子株式会社 | 有機無機ハイブリットガラス材料 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5300610A (en) | 1994-04-05 |
| EP0557958B1 (en) | 1997-09-10 |
| DE69313685D1 (de) | 1997-10-16 |
| DE69313685T2 (de) | 1998-02-05 |
| EP0557958A1 (en) | 1993-09-01 |
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