JPH05237499A - 水洗水の回収装置 - Google Patents

水洗水の回収装置

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JPH05237499A
JPH05237499A JP4078708A JP7870892A JPH05237499A JP H05237499 A JPH05237499 A JP H05237499A JP 4078708 A JP4078708 A JP 4078708A JP 7870892 A JP7870892 A JP 7870892A JP H05237499 A JPH05237499 A JP H05237499A
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JP
Japan
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washing water
washing
water
tank
adsorption tower
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Pending
Application number
JP4078708A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Ito
弘幸 伊藤
Takanaga Ogawa
隆永 小川
Takao Enomoto
貴男 榎本
Yukio Ito
幸夫 伊東
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NAKAGAWA KAGAKU SOCHI KK
NIPPON ALPHA METALS KK
Original Assignee
NAKAGAWA KAGAKU SOCHI KK
NIPPON ALPHA METALS KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 テルペン化合物とテルペン乳化界面活性剤を
含む洗浄剤で洗浄した電子回路の基板等の洗浄対象物を
水洗した水洗水を良好に回収することができる水洗水回
収装置を得ることを目的とする。 【構成】 水洗水回収装置は、洗浄装置において洗浄対
象物を水洗した後の水洗水を収納する水洗水槽、水洗水
槽内の水洗水を濾過するフィルタ―装置、水洗水中の不
純物を吸着除去する吸着塔装置、吸着塔装置から流出し
た水洗水を収容する一次処理水槽装置、一次処理水槽装
置からの水洗水を紫外線殺菌する紫外線殺菌器、水洗水
を濾過する他のフィルタ―及び吸着塔装置からのドレン
を収容する排水槽を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明はテルペン化合物とテル
ペン界面活性剤を含む洗浄剤で洗浄した洗浄対象物を水
洗した後の水洗水を回収して再使用する為の回収装置に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子部品を洗浄する洗浄剤としては従来
からフロンが使用されているが、フロンは炭化水素の水
素原子の一部または全部をフッ素及び塩素で置換した化
合物であって、プリントの基板を侵さないで汚れのみを
溶解する選択溶解性を持つ優れた洗浄特性を有するとこ
ろから、洗浄剤として広汎に使用されている。しかしな
がら近来、フロンガスがオゾン層を破壊する問題が指摘
されてきており、これにともなって、フロン代替品の開
発が研究されている。このようなフロン代替品の一つと
して、テルペン化合物とテルペン乳化界面活性剤を含む
洗浄剤が開発されてきている。このような新たなテルペ
ン化合物とテルペン乳化界面活性剤を含む洗浄剤はオゾ
ンを破壊することもなく、かつフロンと同様の洗浄効果
を持つので、洗浄剤として近年注目されている。このよ
うなテルペン化合物とテルペン乳化界面活性剤を含む洗
浄剤としては、例えば、BIOACT EC−7(Pe
troferm Co.製)が市販されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかるに、これらの新
たに開発された洗浄剤はフロンとは異なった取扱いとし
て、たとえば排水処理が必要になる。例えば、前記のB
IOACT EC−7の場合はフロンとは異なった使用
方法が要求され、特に重要な点として、テルペン化合物
とテルペン乳化界面活性剤を含む洗浄剤で対象物を洗浄
したときは、その洗浄の後に水洗が必要である。この水
洗後の水洗水には洗浄剤の残滓等が混入しているが、こ
の残滓等を水洗水から分離する工業的な技術が確立して
いないので、水洗水の回収再使用ができず、大量の水洗
水の消費を必要としているのが実情である。
【0004】この発明は上記の如き事情に鑑みてなされ
たものであって、テルペン化合物とテルペン乳化界面活
性剤を含む洗浄液を含む水洗後の水洗水から清浄な水洗
用水を良好に回収することができる水洗水回収装置を提
供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的に対応して、こ
の発明の水洗水回収装置は、テルペン化合物とテルペン
乳化界面活性剤を含む洗浄剤で洗浄した洗浄対象物を水
洗した後の水洗水を収容する水洗水槽と、前記水洗水槽
から出た水洗水を濾過するフィルタ―装置と、前記フィ
ルタ―装置から出た前記水洗水中の不純物を吸着除去す
る吸着塔装置と、前記吸着塔装置から流出した水洗水を
収容する一次処理水槽と、前記一次処理水槽から流出し
た水洗水を紫外線殺菌する紫外線殺菌器と、前記紫外線
殺菌器から出た水洗水を濾過する濾過系フィルタ―装置
と及び前記吸着塔からのドレンを収容する排水槽とを備
えることを特徴としている。
【0006】
【作用】テルペン化合物とテルペン乳化界面活性剤を含
む洗浄剤を水洗した後の水洗水を水洗水槽に収納した
後、水洗水槽内の水洗水をフィルタ―に導いて濾過し、
次に水洗水を吸着塔に導いて水洗水中の不純物を吸着除
去し、次に水洗水を紫外線殺菌器で殺菌し、次に水洗水
を他のフィルタ―に導いて濾過する。
【0007】
【実施例】以下、本発明の詳細を一実施例を示す図面に
ついて説明する。図1において、1は水洗水回収装置で
ある。水洗水回収装置1は、テルペン化合物とテルペン
乳化界面活性剤を含む洗浄剤で洗浄した電子回路の基板
等の洗浄対象物を水洗した水洗水を回収するものであ
る。従って洗浄後の水洗水にはフラックスや洗浄剤の残
滓が含まれている。
【0008】水洗水回収装置1は、洗浄装置10におい
て洗浄対象物を水洗した後の水洗水2を収納する水洗水
槽装置3、水洗水槽3内の水洗水を濾過するフィルタ―
装置4、水洗水2中の不純物を吸着除去する吸着塔装置
5、吸着塔装置5から流出した水洗水を収容する一次処
理水槽装置6、一次処理水槽装置6からの水洗水2を紫
外線殺菌する紫外線殺菌器7、水洗水2を濾過する濾過
系フィルタ―装置8及び吸着塔装置5からのドレンを収
容する排水槽装置9を備えている。
【0009】水洗水槽装置3は洗浄装置10からポンプ
により排出される水洗水2を収容する水槽20を有し、
水洗水ポンプ11、フロートスイッチ12、吐出管1
3、流量計14、排ガスダンパー15を備えている。吐
出管13からはバイパス管16が分岐している。吐出管
13にはメインバルブ17が設けられ、またバイパス管
14には吐出側バイパスバルブ18が設けられている。
【0010】フィルタ―装置4は並列に接続された水洗
水中に含有する浮遊成分を除去するための2つのフィル
タ―21aと21bとを備えており、かつ入口側及び出
口側に入口圧力計22及び出口圧力計23を備えてい
る。2つのフィルタ―21a,21bは通常はいずれか
一方のみを使用するが、フィルタ―が詰まったときは切
り替えて使用する。圧力計22及び23はフィルタ―2
1a、21bの入口と出口の差圧を確認するためのもの
で、差圧が一定値を越えた場合には、フィルタ―を交換
する。
【0011】吸着塔装置5は直列に接続された2つの吸
着塔24、25を備えている。さらに2つの吸着塔2
4、25の出口に圧力計26、27を備えている。吸着
塔24、25はフィルタ―装置4で濾過された水洗水中
に含有する有機性物質及びイオン性物質を吸着するため
のものである。それぞれの吸着塔の出口側の圧力計は吸
着塔24と吸着塔25との差圧を確認するもので、差圧
が一定値以上に達した場合には塔内部の目詰り等の発生
を確認することができる。
【0012】一次処理水槽装置6は吸着塔装置5から流
出した水洗水を貯蔵する槽であって、一次処理水槽3
1、フロートスイッチ32、吐出管33を有し、吐出管
33には処理ポンプ34、流量計35が設けられてい
る。吐出管33からはバイパス管36が分岐している。
処理ポンプ34は水洗水を一次処理水槽31から濾過系
フィルタ―装置8に供給するためのものであって、この
処理ポンプ34はフロートスイッチ32の指示で稼働
し、水洗水を濾過系フィルタ―装置8に移送する。吐出
管33にはメインバルブ37が設けられ、またバイパス
管36にはバイパスバルブ38が設けられている。
【0013】紫外線殺菌器7は一次処理水槽装置6から
流出した水洗水に紫外線を照射して殺菌するためのもの
である。
【0014】濾過系フィルタ―装置8は紫外線殺菌器7
からの水洗水中の微粒子を除去するための装置であっ
て、2つの濾過ライン41、42を並列に備えている。
濾過ライン41、42のそれぞれは、2種のフィルタ―
43、44、例えば10μフィルタ―及び0.2μフィ
ルタ―など、を直列に接続して備えている。2つの濾過
ライン41、42は通常は片側のみを使用し、フィルタ
―のつまりの場合に切り替えて使用する。濾過ライン4
1、42の入口側及び出口側には、入口圧力計45及び
出口圧力計46が設けられている。これらの圧力計45
及び46はフィルタ―43、44の入口と出口の差圧を
確認するための圧力計であって、この差圧が一定値以上
になるとフィルタ―の交換時期を示すことになる。
【0015】このように構成された水洗水回収装置1に
おいて、テルペン化合物とテルペン乳化界面活性剤を含
む洗浄剤で洗浄した電子回路の基板等の洗浄対象物を水
洗した水洗水2は洗浄装置10からまず水洗水槽3に導
かれ、水洗水槽3に一次的にプールされる。次に水洗水
2は付属するフロートスイッチ12の指示で水洗ポンプ
11が稼働してフィルタ―装置4に移送される。このと
きの流量調整はメインバルブ17とバイパスバルブ18
の開度を調整して行う。流量は750l/hr以下、圧
力は0.7kg/cm2以下が望ましい。
【0016】フィルタ―装置4では水洗水2中に含有す
る浮遊成分をフィルタ―21aまたは21bで除去す
る。圧力計22及び23の差圧が一定値を越えた場合に
は、フィルタ―を交換する。次に水洗水2は吸着塔装置
5に導かれる。吸着塔装置5ではフィルタ―装置4で濾
過された水洗水中に含有する有機性物質及びイオン性物
質を吸着する。次に水洗水2は一次処理水槽装置6に導
かれて一時貯蔵される。次に水洗水2は処理ポンプ34
によって濾過系フィルタ―装置8に移送する。このとき
の流量調整はメインバルブ37とバイパスバルブ36の
開度を調整して行う。流量は750l/hr以下、圧力
は5kg/cm2 以下が望ましい。次に水洗水2は紫外
線殺菌器7に移送され、紫外線照射により殺菌する。次
に水洗水2は濾過系フィルタ―装置8に移送され、微粒
子が除去される。
【0017】以上の工程によって水洗水の回収が完了す
る。
【0018】(実験例)EC−7 0.02%廃水のオ
レンジニクスランニング実験
【0019】1.実験目的 EC−7 0.02%含有の廃水のシステム検討結果を
基に、活性炭吸着塔、イオン交換樹脂塔、フィルタ―濾
過について、ランニング確認実験及び実廃水の連続通水
による処理水の確認実験を行う。実験は、処理水のCO
D、導電率を測定し、ライフ終点の見極め及び処理水質
の確認を行う。
【0020】2.廃水条件 EC−7 0.02%(EC−7老廃液を洗浄装置に定
量注入し、調整する。)本実験は実際に基板を洗浄した
廃水ではない。供給方法は洗浄装置の第1洗浄水槽より
定量ポンプ(0.7m3/H)にてオレンジニクスI型の水
洗水槽に供給する。
【0021】
【表1】
【0022】3.実験方法 実験条件 液温;40℃ 実験水量:700l/H システム:活性炭(75l)→イオン交換樹脂(カオチ
ン25l+アニオン50l)→フィルタ―0.2μ→U
V→処理水
【0023】4.実験結果 通水結果を表2に示す。
【0024】
【表2】
【0025】電子部品洗浄剤であるフロンは環境問題等
で使用全廃方向に向かいその代替品としてEC−7が開
発された。EC−7は、フロンと違いすすぎに水洗洗浄
を必要とし、従来フロンを使用してきた工場には廃水処
理設備等やスペ―スがないためすすぎ水を再利用する必
要性があるため、再利用のための処理システムの検討実
験を行い、本システムにて廃水を回収することができ
た。
【0026】オレンジニクスの本システムによる、ED
−7 0.02%廃水の回収ライフ実験は、COD除去
率は約90%、導電率は5μs/cm以下であり、絶縁
抵抗試験も良い結果が得られた。
【0027】
【発明の効果】この発明の水洗水回収装置では、洗浄後
の水洗水中の浮遊成分、白濁成分はフィルタ―によって
除去され、洗浄液成分は吸着塔において吸着除去される
ので洗浄後の水洗水から清浄な水洗水を良好に回収する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係わる水洗水の回収装置
の構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
1 水洗水回収装置 2 水洗水 3 水洗水槽 4 フィルタ―装置 5 吸着塔装置 6 一次処理水槽装置 7 紫外線殺菌器 8 濾過系フィルタ―装置 9 排出槽装置 10 洗浄装置 11 水洗水ポンプ 12 フロ―トスイッチ 13 吐出管 14 流量計 15 排ガスダンパ 16 バイパス管 17 メインバルブ 18 吐出側バイパスバルブ 20 水槽 21a フィルタ― 21b フィルタ― 22 入口圧力計 23 出口圧力計 24 吸着塔 25 吸着塔 26 圧力計 27 圧力計 31 一次処理水槽 32 フロ―トスイッチ 33 吐出管 34 処理ポンプ 35 流量計 36 バイパス管 37 メインバルブ 38 バイパスバルブ 41 濾過ライン 42 濾過ライン 43 フィルタ― 44 フィルタ― 45 入口圧力計 46 出口圧力計
フロントページの続き (72)発明者 榎本 貴男 神奈川県平塚市新町5番50号 日本アルフ ァメタルズ株式会社内 (72)発明者 伊東 幸夫 神奈川県平塚市新町5番50号 日本アルフ ァメタルズ株式会社内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 テルペン化合物とテルペン乳化界面活性
    剤を含む洗浄剤で洗浄した洗浄対象物を水洗した後の水
    洗水を収容する水洗水槽と、前記水洗水槽から出た水洗
    水を濾過するフィルタ―装置と、前記フィルタ―装置か
    ら出た前記水洗水中の不純物を吸着除去する吸着塔装置
    と、前記吸着塔装置から流出した水洗水を収容する一次
    処理水槽と、前記一次処理水槽から流出した水洗水を紫
    外線殺菌する紫外線殺菌器と、前記紫外線殺菌器から出
    た水洗水を濾過する濾過系フィルタ―装置と及び前記吸
    着塔からのドレンを収容する排水槽とを備えることを特
    徴とする水洗水回収装置。
JP4078708A 1992-02-28 1992-02-28 水洗水の回収装置 Pending JPH05237499A (ja)

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JP4078708A JPH05237499A (ja) 1992-02-28 1992-02-28 水洗水の回収装置

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030070688A (ko) * 2002-02-26 2003-09-02 김문겸 중수의 재활용시스템
US7422681B2 (en) * 2004-05-19 2008-09-09 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Substrate treating apparatus

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20030070688A (ko) * 2002-02-26 2003-09-02 김문겸 중수의 재활용시스템
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