JP3235608B2 - 洗浄装置 - Google Patents
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Description
ものである。
時計を組み立てる前に、各種の腕時計部品を製造する必
要がある。このような腕時計部品の中には、製造途中
で、研磨工程を行う必要のあるものがある。そして、腕
時計部品に対して研磨を行った場合、かかる部品には、
研磨剤が付着することとなる。当然、かかる研磨剤は、
洗浄により、除去される。
浄液には、トリエタンが使用されていた。しかし、トリ
エタンは、オゾン層を破壊する懸念がでてきたため、使
用されなくなった。
は、トリクロロエチレンが用いられるようになった。し
かし、トリクロロエチレンも環境に優しい洗浄液とはい
えず、なるべくなら使用しない方が好ましい。
ロエチレンの代替洗浄液の多くは、洗浄液中に大量の研
磨剤成分を溶解させることができないことが分かった。
したがって、代替洗浄液を用いて洗浄を行った場合、洗
浄液中に溶解しきれなかった研磨剤成分は、大量に洗浄
槽内に沈殿、堆積することとなる。その後の洗浄を円滑
に行うためには、かかる沈殿物を槽内から除去する必要
がある。
は、例えば、フィルターを用いて沈殿物を除去する方法
が考えられる。ところが、本発明者の実験から、フィル
ターに代替洗浄液を通過させて沈殿物を除去しようとす
ると、短時間でフィルターが目詰まりを起こしてしまう
ことが分かった。したがって、フィルターを用いて沈殿
物を除去するような方式の洗浄装置は、沈殿物が大量に
生じる場合、実用的でない。
内の沈殿物を効率よく除去できる洗浄装置を提供するこ
とにある。
(1)〜(16)の本発明により達成される。
クを洗浄する洗浄槽と、該洗浄槽に通液可能に接続さ
れ、洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿さ
せる沈殿槽と、前記沈殿槽内の圧力を調整する第1圧力
調整手段とを有し、前記第1圧力調整手段により、前記
沈殿槽内部の圧力が減少されて、前記沈殿槽内部と前記
洗浄槽内部との間で圧力差が生じて、前記洗浄槽内の前
記洗浄液が前記沈殿槽内に流入し、前記洗浄液の移動に
伴って、前記洗浄槽内の沈殿物も、前記沈殿槽内に移動
することを特徴とする。
浄槽に通液可能に接続され、前記洗浄槽で洗浄されたワ
ークをリンスするリンス槽を有し、前記洗浄槽内の圧力
を調整する第2圧力調整手段とを有し、前記第2圧力調
整手段により、前記洗浄槽内部の圧力が減少されて、前
記洗浄槽内部と前記リンス槽内部との間で圧力差が生じ
て、前記リンス槽内の洗浄液が、前記洗浄槽内に流入
し、前記洗浄液の移動に伴って、前記リンス槽底部の沈
殿物も、前記洗浄槽内に移動することを特徴とする。
リンス槽の底部近傍は、配管で前記洗浄槽の上部側に接
続されていることを特徴とする。
殿槽に通液可能に接続され、前記洗浄液を再生する再生
器を有することを特徴とする。
は、配管で前記沈殿槽の底部近傍に接続されていること
を特徴とする。
通液可能に接続され、前記洗浄液を一時的に貯留するバ
ッファ槽を有することを特徴とする。
クを洗浄する洗浄槽と、洗浄に供された洗浄液が含有す
る沈殿成分を沈殿させる沈殿槽と、前記洗浄液を一時的
に貯留するバッファ槽と、前記洗浄液を再生する再生器
と、前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス
槽とを有する循環ラインと、前記再生器と前記沈殿槽と
を接続するラインとを有することを特徴とする。
クを洗浄する洗浄槽と、洗浄に供された洗浄液が含有す
る沈殿成分を沈殿させる沈殿槽と、前記洗浄液を一時的
に貯留するバッファ槽と、前記洗浄液を再生する再生器
と、前記再生器で再生された洗浄液を貯留する貯留槽
と、前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス
槽とを有する循環ラインと、前記再生器と前記沈殿槽と
を接続するラインとを有することを特徴とする。
の底部近傍が、配管で前記洗浄槽の上部側に接続されて
いることを特徴とする。
と前記沈殿槽とを接続するラインは、前記沈殿槽の底部
近傍に接続されていることを特徴とする。
の洗浄時に、前記洗浄液は、前記リンス槽、前記洗浄
槽、前記沈殿槽の順に流れることを特徴とする。
の洗浄時に、前記ワークは、前記洗浄槽、前記リンス槽
の順に移動することを特徴とする。
の洗浄時に、前記ワークは、前記洗浄槽、前記リンス槽
の順に移動することを特徴とする。
の底部近傍が、配管で前記洗浄槽の底部近傍に接続され
ていることを特徴とする。
は、炭化水素系であることを特徴とする。
槽、前記洗浄槽、前記リンス槽のうちの少なくとも1つ
は、底部が、水平方向に対して傾斜していることを特徴
とする。
適実施形態に基づいて詳細に説明する。図1は、本発明
の洗浄装置の実施形態を示す回路図である。
であるワークを洗浄する装置である。同図に示すよう
に、洗浄装置1は、第2圧力調整手段35が接続された
洗浄槽3と第1圧力調整手段45が接続された沈殿槽4
とバッファ槽5と再生器6と貯留槽7とリンス槽8と配
管とを有する循環ラインL10と、沈殿槽4に接続され
た廃液ラインL40と、乾燥槽9を有する乾燥ラインL
90と、再生器沈殿槽接続ラインL60と、廃液器10
を有する第2廃液ラインL100と、リンス槽バッファ
槽接続ラインL80と、洗浄槽沈殿槽第2接続管49と
で構成されている。以下、これらを各構成要素毎に説明
する。
る。循環ラインL10は、洗浄液が通液・循環する主ラ
インである。この循環ラインL10は、前述したよう
に、第2圧力調整手段35が接続された洗浄槽3と、第
1圧力調整手段45が接続された沈殿槽4と、バッファ
槽5と、再生器6と、貯留槽7と、リンス槽8と、配管
(洗浄槽沈殿槽接続管39、沈殿槽バッファ槽接続管4
7、バッファ槽再生器接続管59、再生器貯留槽接続管
69、貯留槽リンス槽接続管79、およびリンス槽洗浄
槽接続管89)とを有している。
入れられた(供給された)洗浄液によりワークの洗浄を
行う槽である。この洗浄槽3の上部側には、例えばポン
プ等で構成され、洗浄槽3内の圧力を調整する第2圧力
調整手段35が、バルブ361を備えた配管36を介し
て接続されている。かかる洗浄槽3内は、例えば密閉可
能となっている。したがって、洗浄槽3内を密閉して、
圧力調整手段35を作動させることにより、洗浄槽3内
の圧力を変化させることができる。
して傾斜している。すなわち、洗浄槽3の底部31に
は、深さが漸増するような傾斜が設けられている。この
底部31の最深部近傍には、バルブ391を備え、洗浄
槽3と沈殿槽4とを接続する洗浄槽沈殿槽接続管(配
管)39の一端(洗浄槽接続口)が接続されている。
1接続管)39の他端(沈殿槽接続口)は、沈殿槽4の
底部41近傍に接続されている。すなわち、洗浄槽沈殿
槽接続管39を介して、洗浄槽3には、沈殿槽4が通液
可能に接続されている。このような洗浄槽沈殿槽接続管
39では、沈殿槽接続口は、洗浄槽接続口よりも低いと
ころに位置している。
有する沈殿成分を沈殿、堆積させるためなどに用いられ
る。この沈殿槽4の上部側には、例えばポンプ等で構成
され、沈殿槽4内の圧力を調整する圧力調整手段45
が、バルブ461を備えた配管46を介して接続されて
いる。この沈殿槽4内は、例えば密閉可能となってい
る。したがって、沈殿槽4内を密閉して、圧力調整手段
45を作動させることにより、沈殿槽4内の圧力を変化
させることができる。
して傾斜している。すなわち、沈殿槽4の底部41に
は、深さが漸増するような傾斜が設けられている。例え
ば、底部41の最浅部近傍には、前述した洗浄槽沈殿槽
接続管39が接続されている。また、底部41の最深部
近傍には、沈殿槽4の底部41に沈殿、堆積した沈殿物
を排出する廃液ラインL40が接続されている。なお、
この廃液ラインL40には、バルブ481が設けられて
いる。
えた洗浄槽沈殿槽第2接続管49の一端(沈殿槽接続
口)が接続されている。この洗浄槽沈殿槽第2接続管4
9の他端(洗浄槽接続口)は、洗浄槽3の上部側に接続
されている。なお、本明細書における槽の「上部側」と
は、例えば、底部よりも高いところを意味する。
1を備え、沈殿槽4とバッファ槽5とを接続する沈殿槽
バッファ槽接続管(配管)47の一端(沈殿槽接続口)
が接続されている。
(バッファ槽接続口)は、バッファ槽5の上部側に接続
されている。すなわち、沈殿槽バッファ槽接続管47を
介して、沈殿槽4には、バッファ槽5が通液可能に接続
されている。このバッファ槽5には、洗浄液が一時的に
貯留される。これにより、循環ラインL10内への液の
供給量、循環量を容易に調整できるようになり、洗浄装
置1が有する各槽等で、洗浄液が溢れるのを、好適に防
止することができる。このバッファ槽5の底部51近傍
には、バルブ591を備え、バッファ槽5と再生器6と
を接続するバッファ槽再生器接続管(配管)59の一端
(バッファ槽接続口)が接続されている。
(再生器接続口)は、再生器6の上部側に接続されてい
る。すなわち、バッファ槽再生器接続管59を介して、
バッファ槽5には、再生器6が通液可能に接続されてい
る。この再生器6では、洗浄液を蒸留、再生する処理を
行うことができる。この再生器6の上部側には、バルブ
691を備え、再生器6と貯留槽7とを接続する再生器
貯留槽接続管(配管)69の一端(再生器接続口)が接
続されている。
槽接続口)は、貯留槽7の上部側に接続されている。す
なわち、再生器貯留槽接続管69を介して、再生器6に
は、貯留槽7が、通気、通液可能に接続されている。こ
の貯留槽7には、再生器6で蒸留、再生処理が施された
洗浄液が貯留される。この貯留槽7の上部側には、バル
ブ791を備え、貯留槽7とリンス槽8とを接続する貯
留槽リンス槽接続管(配管)79の一端(貯留槽接続
口)が接続されている。
ンス槽接続口)は、リンス槽8の上部側に接続されてい
る。すなわち、貯留槽リンス槽接続管79を介して、貯
留槽7には、リンス槽(第2洗浄槽)8が、通液可能に
接続されている。このリンス槽8では、貯留槽7から供
給された洗浄液を用いて、ワークのリンスが行われる。
もしくは、このリンス槽8で、洗浄槽3で洗浄されたワ
ークの最終洗浄が行われる。このリンス槽8の底部81
は、水平方向に対して傾斜している。すなわち、リンス
槽8の底部81には、深さが漸増するような傾斜が設け
られている。この底部81の最深部近傍には、バルブ8
91を備え、リンス槽8と洗浄槽3とを接続するリンス
槽洗浄槽接続管(配管)89の一端(リンス槽接続口)
が接続されている。
浄槽接続口)は、洗浄槽3の上部側に接続されている。
すなわち、リンス槽洗浄槽接続管89を介して、洗浄槽
3には、リンス槽8が通液可能に接続されている。
接続ラインL80を介して、バッファ槽5に通液可能に
接続されている。このリンス槽バッファ槽接続ラインL
80は、バルブ881を備えたリンス槽バッファ槽接続
管88を有しており、このリンス槽バッファ槽接続管8
8の一端(リンス槽接続口)はリンス槽8の上部側に、
他端(バッファ槽接続口)はバッファ槽5の上部側に、
それぞれ接続されている。リンス槽バッファ槽接続ライ
ンL80は、例えば洗浄液の迂回路などとして機能す
る。例えば、バルブ891が閉じられている場合、リン
ス槽8内の洗浄液は、オーバーフローして、リンス槽バ
ッファ槽接続ラインL80を通り、バッファ槽5内に流
れる。これにより、リンス槽8で洗浄液が溢れること
が、好適に防止される。
ば、貯留槽リンス槽接続管79の貯留槽接続口は、沈殿
槽バッファ槽接続管47の沈殿槽接続口(またはリンス
槽洗浄槽接続管89の洗浄槽接続口)よりも高いところ
に位置している。また、例えば、バッファ槽再生器接続
管59では、バッファ槽接続口は、再生器接続口よりも
高いところに位置している。
90、再生器沈殿槽接続ラインL60、第2廃液ライン
L100について説明する。
れている。この乾燥ラインL90は、貯留槽7にも接続
されている。この乾燥ラインL90は、乾燥槽9と、バ
ルブ991を備え、再生器6と乾燥槽9とを通気可能に
接続する再生器乾燥槽接続管99と、バルブ981を備
え、乾燥槽9と貯留槽7とを通気(または通液)可能に
接続する乾燥槽貯留槽接続管98とを有している。再生
器乾燥槽接続管99の一端(再生器接続口)は、再生器
6の上部側に接続されており、他端(乾燥槽接続口)
は、乾燥槽9の上部側に接続されている。乾燥槽貯留槽
接続管98の一端(乾燥槽接続口)は、乾燥槽9の底部
側に接続されており、他端(貯留槽接続口)は、貯留槽
7の上部側に接続されている。
る手段(ポンプ等(図示せず))、あるいは、内部の温
度を調整する手段(ヒーター等(図示せず))を備えて
おり、これにより、ワークの乾燥を行うことができる。
また、乾燥槽9では、再生器6から供給された洗浄液の
蒸気をワークに接触させることも可能である。これによ
り、ワークに対して仕上リンスを施すこともできる。
続する再生器沈殿槽接続ラインL60が接続されてい
る。この再生器沈殿槽接続ラインL60は、バルブ68
1を備えた再生器沈殿槽接続管(配管)68を有してい
る。この再生器沈殿槽接続管68の一端(再生器接続
口)は、再生器6の底部61近傍に接続されており、他
端(沈殿槽接続口)は、沈殿槽4の底部41近傍に接続
されている。
接続されている。この第2廃液ラインL100によって
も、再生器6内に溜まった廃液を排出することができ
る。この第2廃液ラインL100は、廃液を貯留する廃
液器10と、再生器6と廃液器10とを接続する再生器
廃液器接続管109と、廃液器10の流入側(再生器廃
液器接続管109の流路)に設けられたバルブ108
と、廃液器10の流出側に設けられたバルブ107とを
有している。
ン)に設けられたバルブの開閉、開放量の設定等を適宜
行うことにより、それぞれの流路の開閉、流速・流量の
調整等を行うことができる。例えば、バッファ槽再生器
接続管59に設けられたバルブ591により、バッファ
槽5から再生器6への洗浄液の供給量、流量を、調整す
ることができる。
明する。 I.ワーク洗浄 まず、洗浄装置1がワークを洗浄する場合の作用を説明
する。まず、図1に示すように、貯留槽7、リンス槽
8、洗浄槽3、沈殿槽4、バッファ槽5、および再生器
6内に、所定量の洗浄液Wを入れておく。
391、891、および791を所定量開き、再生器6
を作動させる。なお、バルブ461、481、491、
681、108、107、991、981、881およ
び361は、閉じておく。
槽接続管79の貯留槽接続口よりも高いところに位置す
る洗浄液Wがオーバーフローし、貯留槽リンス槽接続管
79を通り、リンス槽8内に流入する。リンス槽8内に
流入した洗浄液Wの一部はオーバーフローし、リンス槽
洗浄槽接続管89を通って洗浄槽3内に流入する。洗浄
槽3内に流入した洗浄液Wの一部はオーバーフローし、
洗浄槽沈殿槽接続管39を通って沈殿槽4内に流入す
る。沈殿槽4では、沈殿槽バッファ槽接続管47の貯留
槽接続口よりも高いところに位置する洗浄液Wがオーバ
ーフローし、沈殿槽バッファ槽接続管47を通り、バッ
ファ槽5内に流入する。バッファ槽5内の洗浄液Wは、
高低差により、バッファ槽再生器接続管59内に所定流
速(流量)で流入し、バッファ槽再生器接続管59を通
り、再生器6内に、流入する。再生器6内では、洗浄液
Wが加熱され、これにより、洗浄液Wの一部が気化す
る。この気化した洗浄液Wは、再生器貯留槽接続管69
内に入り、再生器貯留槽接続管69を通り、貯留槽7内
に入る。このとき、気化した洗浄液Wは、再生器貯留槽
接続管69内および貯留槽7内で冷却され、再び液化す
る。これにより、貯留槽7内には、蒸留再生された洗浄
液Wが供給される。
内を循環中、貯留槽7から、リンス槽8、洗浄槽3、沈
殿槽4、そしてバッファ槽5へと、オーバーフローによ
り流れることとなる。したがって、洗浄液Wの循環時に
は、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面は、沈殿槽バッファ槽
接続管47の沈殿槽接続口(またはバッファ槽接続口)
とほぼ対応・一致する。また、洗浄槽3内の洗浄液Wの
液面は、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面とほぼ対応・一致
する。また、リンス槽8内の洗浄液Wの液面は、沈殿槽
3内の洗浄液Wの液面(またはリンス槽洗浄槽接続管8
9の洗浄槽接続口)とほぼ対応・一致する。さらには、
貯留槽7内の洗浄液Wの液面は、貯留槽リンス槽接続管
79の貯留槽接続口(またはリンス槽接続口)とほぼ対
応・一致する。
際の、ワーク(図示せず)の移動について説明する。洗
浄対象物であるワークは、まず、洗浄槽3内に入れられ
る。この洗浄槽3内で、ワークは、洗浄液Wにより洗浄
され、ワークに付いた汚れが落とされる。
槽3内から引き上げられ、リンス槽8内に移動する。こ
のリンス槽8内で、ワークは、洗浄液Wによりリンスさ
れる。また、このとき、洗浄槽3内で完全に落としきれ
なかった汚れがワークに付着していた場合でも、かかる
汚れは、リンス槽8内の洗浄液Wにより落とされる。す
なわち、リンス槽8内で、ワークは最終洗浄が行われる
場合もある。
は、乾燥槽9内に入れられる。ワークを乾燥槽9内に入
れた後、例えば、バルブ991および981を開けるこ
とにより、蒸気状の洗浄液Wを再生器6から乾燥槽9内
に供給することができる。これにより、蒸気状の洗浄液
Wをワークに接触させて、ワークの仕上リンスを行うこ
ともできる。その後、乾燥槽9内を減圧、加熱等するこ
とにより、ワークを乾燥させる。
とにより、洗浄、リンス、および乾燥が施されたワーク
を得ることができる。
生器6で蒸留、再生されたきれいな洗浄液Wは、貯留槽
7→リンス槽8→洗浄槽3→沈殿槽4と流れる。これに
対し、ワークは、洗浄槽3→リンス槽8と移動する。し
たがって、ワークは、洗浄槽3で洗浄された後、リンス
槽8でよりきれいな洗浄液Wと接触することとなる。こ
のため、ワークは、洗浄槽3で洗浄された後、リンス槽
8で、さらに清浄化されることとなる。
槽接続管79がリンス槽8の上部側に、リンス槽洗浄槽
接続管89がリンス槽8の底部81近傍にそれぞれ接続
されているため、洗浄液Wは、リンス槽8の上部側から
流入し底部81側から流出することとなる。すなわち、
リンス槽8では、洗浄液Wは、基本的に上部側から底部
81側へ流れる。したがって、ワークをリンスすること
により生じた沈殿成分などは、比較的速やかに底部81
に沈殿することとなる。このため、ワークには沈殿成分
が付着しにくく、ワークは、清浄な状態が好適に保たれ
る。
管89が洗浄槽3の上部側に、洗浄槽沈殿槽接続管39
が洗浄槽3の底部31近傍にそれぞれ接続されているた
め、洗浄液Wは、洗浄槽3の上部側から流入し底部31
側から流出することとなる。すなわち、洗浄液Wは、基
本的に洗浄槽3の上部側から底部31側へ流れることと
なる。したがって、ワークを洗浄することにより生じた
沈殿成分などは、比較的速やかに底部31に沈殿するこ
ととなる。このため、ワークには沈殿成分が付着しにく
く、ワークは、清浄な状態が好適に保たれる。
槽接続口は、洗浄槽接続口よりも低いところに位置して
いる。このため、洗浄槽3の底部31に堆積した沈殿物
Pの一部は、洗浄液Wの流れに乗じて沈殿槽4内に、円
滑に移動する。ゆえに、洗浄装置1が稼動しているとき
に、洗浄槽3の底部に沈殿物Pが大量に溜まることが防
止される。これにより、洗浄槽3では、洗浄液Wが大幅
に汚れるのを防止することができる。
続口は沈殿槽4の上部側に設けられているため、底部4
1近傍から沈殿槽4内に流入した洗浄液Wは、沈殿槽4
の上部側から流出することとなる。すなわち、沈殿槽4
内では、洗浄液Wは、基本的に底部41側から上部側に
移動する。この間に、洗浄液Wが含有する沈殿成分は、
好適に底部41に沈殿、堆積することとなる。そして、
沈殿槽4からは、洗浄液Wの上澄み部分が流出すること
となる。このため、バッファ槽5内には、沈殿物が好適
に除去された洗浄液Wが流入することとなる。
ァ槽接続管47のバッファ槽接続口がバッファ槽5の上
部側、特にバッファ槽5内の洗浄液Wの液面(通常時)
よりも高いところに接続されているので、バッファ槽5
内から沈殿槽4内に洗浄液Wが逆流することが好適に防
止される。
浄槽3および沈殿槽4内には、沈殿物Pが堆積すること
となる。また、リンス槽8内にも、若干量であるが、沈
殿物Pが堆積することとなる。さらには、洗浄装置1の
稼動中に、バッファ槽5内にも若干量であるが沈殿物P
が生じる。このバッファ槽5内の沈殿物Pは、バッファ
槽再生器接続管59が底部51に接続され、かつバッフ
ァ槽再生器接続管59のバッファ槽接続口が再生器接続
口よりも高いところに位置しているので、稼動時(また
は始動時)の循環ラインL10の流れに乗り、バッファ
槽再生器接続管59内に流入し、バッファ槽再生器接続
管59内を移動し、再生器6内に流入する。また、再生
器6で洗浄液Wの再生処理を行うことによっても、沈殿
物Pが生じ得る。このため、再生器6内にも、若干量、
沈殿物Pが堆積する。
持し、円滑に稼動させるためには、沈殿物Pを各槽(洗
浄槽3、リンス槽8、および再生器6、さらには沈殿槽
4)から除去する必要がある。かかる沈殿物Pは、洗浄
装置1では、以下のようにして除去することができる。
槽8および再生器6)内に沈殿、堆積した沈殿物Pの除
去方法について説明する。
に堆積した沈殿物Pを沈殿槽4内に集め、この集めた沈
殿物Pを廃液ラインL40から排出することにより、洗
浄装置1の各槽内に沈殿、堆積した沈殿物Pを排出す
る。また、リンス槽8内に堆積した沈殿物Pは、洗浄槽
3内に移動させる。この沈殿物Pは、次回の沈殿物除去
操作(次のバッチ)で、洗浄装置1内から除去されるこ
ととなる。このような沈殿物Pの各槽間の移送は、移送
元の槽内と移送先の槽内との間で圧力差を作り出す(設
ける)ことによりなされる。
た配管のバルブ(バルブ471、481、491および
681)を全て閉じる。また、洗浄槽3は、開放状態
(密閉状態でない状態)にしておく。
き、第1圧力調整手段45を作動させ、沈殿槽4上部側
の空気を配管46から排出し、沈殿槽4内の圧力を減少
させる(減圧する)。
間の圧力)が減少すると、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面
が上昇する。この液面の上昇に伴い、洗浄槽3内の洗浄
液Wが、洗浄槽沈殿槽接続管39を通り、沈殿槽4内に
流入する。このとき、洗浄液Wの移動に伴って、洗浄槽
3の底部31に堆積した沈殿物Pも、沈殿槽4内に移動
する。
内の沈殿物Pは、沈殿槽4内に移送され、洗浄槽3から
は沈殿物Pが除去される。また、洗浄槽3内の洗浄液W
の液面は、低下する。最後に、バルブ391を閉じる。
る場合、沈殿物Pの量によっても若干異なるが、例え
ば、洗浄槽3内の洗浄液Wの3割以上を沈殿槽4内に移
動させると、洗浄槽3内の沈殿物Pをより効果的に除去
できる。
方向に対して傾斜しており、洗浄槽沈殿槽接続管39が
底部31の最深部近傍に接続されていると、洗浄槽3内
の沈殿物Pは、より効率よく除去されるようになる。こ
れは、沈殿物Pが、重力により洗浄槽3の最深部付近ま
で好適に移動し、この最深部付近から、沈殿物Pは、洗
浄槽沈殿槽接続管39内に好適に流入するようになるた
めである。さらには、洗浄槽沈殿槽接続管39の沈殿槽
接続口が洗浄槽接続口よりも低いところに位置している
と、沈殿物Pの移動効率が増大する。
は、例えば、第2圧力調整手段35で洗浄槽3内を加圧
することにより、沈殿槽4内に移動させてもよい。
た配管のバルブ(バルブ391および491)を全て閉
じる。また、リンス槽8は、開放状態(密閉状態でない
状態)にしておく。
き、第2圧力調整手段35を作動させ、洗浄槽3上部側
の空気を配管36から排出し、洗浄槽3内の圧力を減少
させる(減圧する)。
間の圧力)が減少すると、リンス槽洗浄槽接続管89内
の洗浄液Wがリンス槽8内に流入する。この流入に伴
い、リンス槽8内の洗浄液Wが、リンス槽洗浄槽接続管
89内に流入し、リンス槽洗浄槽接続管89を通り、洗
浄槽3内に流入する。このとき、洗浄液Wの移動に伴っ
て、リンス槽8の底部81に堆積した沈殿物Pも、洗浄
槽3内に移動する。
8内の沈殿物Pは、洗浄槽3内に移送され、リンス槽8
からは沈殿物Pが除去される。また、リンス槽8内の洗
浄液Wの液面は、低下する。また、洗浄槽3内の洗浄液
Wの液面は、上昇する。最後に、バルブ891を閉じ
る。
する場合、沈殿物Pの量によっても若干異なるが、例え
ば、リンス槽8内の洗浄液Wの1割以上を洗浄槽3内に
移動させると、リンス槽8内の沈殿物Pをより効果的に
除去できる。また、リンス槽8の底部81が水平方向に
対して傾斜しており、リンス槽洗浄槽接続管89が底部
81の最深部近傍に接続されていると、前記と同様の効
果が得られる。
は、例えばリンス槽8に、同槽内の圧力を調整する手段
を付加する構成とし、この手段により、リンス槽8を加
圧することにより、洗浄槽3内に移動させても良い。
た配管のバルブ(バルブ471、481、491および
391)を全て閉じる。また、再生器6は、開放状態
(密閉状態でない状態)にしておく。
き、第1圧力調整手段45を作動させ、沈殿槽4上部側
の空気を配管46から排出し、沈殿槽4内の圧力を減少
させる(減圧する)。
間の圧力)が減少すると、沈殿槽4内の洗浄液Wの液面
が上昇する。この液面の上昇に伴い、再生器6内の洗浄
液Wが、再生器沈殿槽接続管68を通り、沈殿槽4内に
流入する。このとき、洗浄液Wの移動に伴って、再生器
6の底部61に堆積した沈殿物Pも、沈殿槽4内に移動
する。
内の沈殿物Pは、沈殿槽4内に移送され、再生器3から
は沈殿物Pが除去される。また、再生器6内の洗浄液W
の液面は、低下する(図示の例では、再生器6内の全て
の洗浄液Wが再生器6内から流出している)。最後に、
バルブ681を閉じる。
る場合、沈殿物Pの量によっても若干異なるが、例え
ば、再生器6内の洗浄液Wの5割以上を沈殿槽4内に移
動させると、再生器6内の沈殿物Pをより効果的に除去
できる。また、再生器沈殿槽接続管68が再生器6の底
部61近傍に接続されていると、前記と同様の効果が得
られる。さらには、再生器6が沈殿槽4よりも下方に配
置されている場合、再生器沈殿槽接続管68が沈殿槽4
の底部41近傍に接続されていると、沈殿槽4の底部4
1よりも上方に接続されている状態よりも、両槽の高低
差を減らすことができるため、第1圧力調整手段45に
よる再生器6から沈殿槽4への洗浄液の流入を効率的に
行うことができる。
廃液ラインL40に設けられたバルブ481を開く。こ
れにより、沈殿槽4の底部41付近の洗浄液Wは、廃液
ラインL40へ流出する。このとき、洗浄液Wの流出に
伴って、底部41に堆積した沈殿物も、廃液ラインL4
0へ流出する。これにより、洗浄装置1内から、沈殿物
Pが排出される。
操作を行ってから、好ましくは1時間以上、より好まし
くは8時間以上経過した後、沈殿槽4内の沈殿物Pを除
去することが好ましい。これにより、洗浄液W内の沈殿
成分がより多量に底部41に沈降、堆積するようにな
り、より多量の沈殿物Pを排出できるようになる。これ
に対応して、洗浄液W中の不純物も減少する。また、廃
液ラインL40が底部41の最深部近傍に接続されてい
ると、沈殿物Pを、より効率よく排出できるようにな
る。
順番(1)、(2)、(3)の通りに行わなくてもよ
い。ただし、洗浄槽3内の洗浄液Wを沈殿槽4内に移動
させてからリンス槽8内の沈殿物Pを洗浄槽3内に移送
させると、リンス槽8内の洗浄液Wを洗浄槽3内に十分
量容易に移動させることができるようになる。これに伴
い、リンス槽8内の沈殿物Pも、好適に洗浄槽3内に移
送できるという利点が得られる。
開くと、沈殿槽4の上部側の洗浄液Wが、洗浄槽3内に
移動する。これにより、洗浄槽3内に洗浄液Wを供給す
ることができる。かかる洗浄液Wは、洗浄液W中の沈殿
成分が沈降した上澄みであり、不純物が少ない。したが
って、かかる洗浄液Wを洗浄槽3に供給すると、ワーク
の洗浄を好適に行えるようになる。
場合、再生器6内で不純物(不揮発性または高沸点性不
純物)が濃縮され、洗浄液Wが多量の不純物を含有する
ようになる場合がある。この場合、例えば、再生器6内
で洗浄液Wを煮詰め、不純物を濃縮して、その後、バル
ブ108を開き、再生器6内の洗浄液Wを廃液器10内
に排出することができる。
に、沈殿物を除去するフィルターを設ける必要がなくな
る。したがって、フィルターの目詰まりにより装置の稼
動に支障を来たすようなことが、好適に防止される。ま
た、このような洗浄装置1では、循環ラインL10の途
中に、ポンプを設ける必要がない。このため、配管内を
沈殿物が移動する際に、かかる沈殿物が配管途中のポン
プにダメージを与えるおそれもなくなる。
有しているので、洗浄等により多量の沈殿物が生じるよ
うなワーク、洗浄液、洗浄条件等を選択しても、円滑に
稼動することができる。
フィン系、ピロリドン系、テルペン系等の炭化水素系洗
浄液など、比較的沈殿物を生じさせやすい洗浄液を用い
ても、円滑に洗浄装置1を稼動させることができる。ま
た、これにより、多数のワークの洗浄を、好適に連続し
て行うことができる。
いると、水系洗浄液と異なり、廃水処理設備を設ける必
要がなくなる。このため、洗浄装置の設備を簡易なもの
とすることができる。また、炭化水素系洗浄液は、蒸留
再生等により洗浄液のリサイクルが容易である(前述し
た再生器6)。このため、洗浄液を繰り返し使用するこ
とができるようになり、洗浄液の有効利用を図れる。し
かも、炭化水素系洗浄液は、塩素系洗浄液等に比べて、
自然環境に対して比較的悪影響を及ぼしにくい。このよ
うな性質を炭化水素系洗浄液は有しているため、本発明
で用いる洗浄液に炭化水素系洗浄液を使用すれば、廃液
による自然環境の汚染等を防止しつつ、ワークの洗浄を
行うことができる。
浄液に溶解しにくい汚れ(例えば研磨剤など)が多く付
着しているようなワーク(例えば時計の部品等)の洗浄
を、好適に行うことができる。
述した炭化水素系洗浄液以外にも、例えば、塩素系、代
替フロン系、アルコール系、テルペン系、シリコーン系
等の他の溶剤系洗浄液も好適に用いることができる。さ
らには、本発明には、例えば、高級アルコール系、炭化
水素+界面活性剤+エーテル等の準水系洗浄液、純水、
アルカリ水溶液、界面活性剤水溶液等の水系洗浄液な
ど、溶剤系洗浄液以外のいずれの洗浄液を用いてもよ
い。
明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例
えば、洗浄槽3、沈殿槽4、リンス槽8の底部は、傾斜
していなくてもよい。また、例えば、洗浄槽沈殿槽接続
管39、再生器沈殿槽接続管68等は、沈殿槽4の底部
41近傍に接続されていなくてもよい。また、例えば、
洗浄液は、オーバーフロー以外の他の方法により、循環
ラインL10内を、通液、循環させてもよい。
お、リンス槽の容量は80L、洗浄槽の容量は80L、
沈殿槽の容量は120L、バッファ槽の容量は50L、
再生器の容量は80L、貯留槽の容量は40Lとした。
そして、この洗浄装置を用いて、以下のようにして、多
量の研磨剤が付着した腕時計部品(ワーク)に対して、
洗浄、リンス、乾燥を施した。
(前述参照)。洗浄液には、ソルベントナフサ系(炭化
水素系)洗浄液(昭和電工社製「ソルファインTM」)
を用いた。
の洗浄、リンス、乾燥を行った。このとき、1回のバッ
チで、腕時計部品を60個処理した。すなわち、腕時計
部品60個を一単位(ひとまとまり)として、腕時計部
品に対して洗浄、リンス、乾燥の操作をそれぞれ行っ
た。
のようなバッチを500回行った。すなわち、100単
位の腕時計部品を、洗浄、リンス、乾燥した。このよう
に洗浄装置を稼動させたところ、洗浄槽および沈殿槽内
に多量の沈殿物が堆積した。また、リンス槽および再生
器内に少量の沈殿物が堆積した。
にしてかかる沈殿物の除去を行った。まず、沈殿槽内を
減圧にして、洗浄槽内の洗浄液を4分の3程度沈殿槽内
に移動させた。次に、洗浄槽内を減圧にして、リンス槽
内の洗浄液を半分程度洗浄槽内に移動させた。次に、沈
殿槽内を減圧にして、再生器(蒸留再生器)内の液をほ
ぼ全部沈殿槽内に移動させた。次に、この状態で8時間
洗浄装置を停止させて、沈殿槽内に沈殿物を堆積させ
た。その後、沈殿槽内に堆積した沈殿物を、廃液ライン
から排出した。
排出することができ、5kgもの沈殿物を回収できた。さ
らには、各槽の底部を肉眼により確認したところ、リン
ス槽、沈殿槽、再生器内では、沈殿物がほとんど除去さ
れていた。また、洗浄槽内でも、リンス槽から移送され
た沈殿物が少量沈殿していただけであり、洗浄により洗
浄槽内に沈殿、堆積した沈殿物は、ほとんど除去されて
いたことが確認された。
置内の沈殿物を効率よく除去できる洗浄装置を提供する
ことができる。したがって、洗浄を行う際の洗浄液の選
択の幅が広がり、自然環境を汚染しにくい洗浄液、人体
に対する毒性が低い洗浄液等を容易に選択することがで
きるようになる。
る。
る。
る。
る。
る。
Claims (16)
- 【請求項1】 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、 該洗浄槽に通液可能に接続され、 洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる
沈殿槽と、 前記沈殿槽内の圧力を調整する第1圧力調整手段とを有
し、 前記第1圧力調整手段により、前記沈殿槽内部の圧力が
減少されて、 前記沈殿槽内部と前記洗浄槽内部との間で圧力差が生じ
て、 前記洗浄槽内の前記洗浄液が前記沈殿槽内に流入し、 前記洗浄液の移動に伴って、前記洗浄槽内の沈殿物も、
前記沈殿槽内に移動することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項2】 請求項1において、前記洗浄槽に通液可
能に接続され、 前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス槽を
有し、 前記洗浄槽内の圧力を調整する第2圧力調整手段とを有
し、 前記第2圧力調整手段により、前記洗浄槽内部の圧力が
減少されて、 前記洗浄槽内部と前記リンス槽内部との間で圧力差が生
じて、 前記リンス槽内の洗浄液が、前記洗浄槽内に流入し、 前記洗浄液の移動に伴って、前記リンス槽底部の沈殿物
も、前記洗浄槽内に移動することを特徴とする洗浄装
置。 - 【請求項3】請求項2において、前記リンス槽の底部近
傍は、配管で前記洗浄槽の上部側に接続されていること
を特徴とする洗浄装置。 - 【請求項4】請求項1〜3のいずれかにおいて、前記沈
殿槽に通液可能に接続され、前記洗浄液を再生する再生
器を有することを特徴とする記載の洗浄装置。 - 【請求項5】請求項4において、前記再生器は、配管で
前記沈殿槽の底部近傍に接続されていることを特徴とす
る洗浄装置。 - 【請求項6】請求項1〜5のいずれかにおいて、前記沈
殿槽に通液可能に接続され、前記洗浄液を一時的に貯留
するバッファ槽を有することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項7】請求項1〜6のいずれかにおいて、 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、 洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる
沈殿槽と、 前記洗浄液を一時的に貯留するバッファ槽と、 前記洗浄液を再生する再生器と、 前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス槽と
を有する循環ラインと、 前記再生器と前記沈殿槽とを接続するラインとを有する
ことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項8】請求項1〜7のいずれかにおいて、 洗浄液でワークを洗浄する洗浄槽と、 洗浄に供された洗浄液が含有する沈殿成分を沈殿させる
沈殿槽と、 前記洗浄液を一時的に貯留するバッファ槽と、 前記洗浄液を再生する再生器と、 前記再生器で再生された洗浄液を貯留する貯留槽と、 前記洗浄槽で洗浄されたワークをリンスするリンス槽と
を有する循環ラインと、 前記再生器と前記沈殿槽とを接続するラインとを有する
ことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項9】請求項7または8において、前記リンス槽
の底部近傍が、配管で前記洗浄槽の上部側に接続されて
いることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項10】請求項7〜9のいずれかにおいて、前記
再生器と前記沈殿槽とを接続するラインは、前記沈殿槽
の底部近傍に接続されていることを特徴とする洗浄装
置。 - 【請求項11】請求項7〜10のいずれかにおいて、前
記ワークの洗浄時に、前記洗浄液は、前記リンス槽、前
記洗浄槽、前記沈殿槽の順に流れることを特徴とする洗
浄装置。 - 【請求項12】請求項7〜11のいずれかにおいて、前
記ワークの洗浄時に、前記ワークは、 前記洗浄槽、前
記リンス槽の順に移動することを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項13】請求項6〜12のいずれかにおいて、前
記バッファ槽は、配管で前記沈殿槽の上部側に接続され
ているのことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項14】請求項1〜13のいずれかにおいて、前
記沈殿槽の底部近傍が、配管で前記洗浄槽の底部近傍に
接続されていることを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項15】 請求項1〜14のいずれかにおいて、
前記洗浄液は、炭化水素系であることを特徴とする洗浄
装置。 - 【請求項16】 請求項1〜15のいずれかにおいて、
前記沈殿槽、前記洗浄槽、前記リンス槽のうちの少なく
とも1つは、底部が、水平方向に対して傾斜しているこ
とを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36267199A JP3235608B2 (ja) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP36267199A JP3235608B2 (ja) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | 洗浄装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001078649A Division JP2001310166A (ja) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | 洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001170574A JP2001170574A (ja) | 2001-06-26 |
JP3235608B2 true JP3235608B2 (ja) | 2001-12-04 |
Family
ID=18477458
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP36267199A Expired - Fee Related JP3235608B2 (ja) | 1999-12-21 | 1999-12-21 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3235608B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100963950B1 (ko) * | 2009-09-15 | 2010-06-17 | (주)범용테크놀러지 | 세척시스템 |
-
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- 1999-12-21 JP JP36267199A patent/JP3235608B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
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