JPH05234427A

JPH05234427A - 絶縁電線

Info

Publication number: JPH05234427A
Application number: JP3710892A
Authority: JP
Inventors: Yoshihisa Kato; 善久加藤; Miyuki Suga; 美由樹菅; Norio Takahata; 紀雄高畑
Original assignee: Hitachi Cable Ltd
Current assignee: Hitachi Cable Ltd
Priority date: 1992-01-28
Filing date: 1992-01-28
Publication date: 1993-09-10

Abstract

(57)【要約】【目的】自己径巻き付けの際等の加熱により亀裂や割
れが生じない、紫外線硬化樹脂から成る絶縁被膜を有す
る絶縁電線を実現する。【構成】絶縁被膜を構成する紫外線硬化樹脂に、ベン
ゼン環を有するアミン類を含有させる。酸化防止剤を併
用してもよい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は絶縁電線に関し、特に紫
外線硬化樹脂から成る絶縁被覆を有する絶縁電線に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子計算機、オーディオ機器、自
動車、航空機、人工衛星等の小型軽量化の要求に対応し
て、それらに用いられる電線類（電線、ケーブルを含
む）に対して細径化が強く要求されるようになった。細
径化のためには、絶縁被膜の薄膜化が一つの方法であ
る。薄膜化に対して、押出方式による被膜は多くの点で
困難があり、エナメル線に用いられているような塗布方
式によるのが有利である。絶縁被膜の薄膜化に関して、
特に、紫外線硬化型樹脂の塗布による絶縁被膜が注目さ
れている。液状の紫外線硬化型樹脂は溶剤を用いずに塗
布できるため、防火や健康の面で安全であり、また少な
い塗布の回数で必要な厚さが得られるからである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、紫外線硬化樹
脂から成る絶縁被膜は、多くの場合、紫外線照射による
硬化の際に収縮を伴う。また伸び率が小さいため、絶縁
電線の配線作業で自己径巻き付けの際等に加熱すると、
亀裂や割れが生じ易い。これは、紫外線による硬化の際
未反応のまま残った官能基や主鎖上の不飽和二重結合の
ため、加熱により架橋が進行することによる。

【０００４】それ故、本発明の目的は、自己径巻き付け
の際等に加熱により亀裂や割れが生じない、紫外線硬化
樹脂から成る絶縁被膜を有する絶縁電線を、実現するこ
とである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の絶縁電線では、
自己径巻き付けの際等に加熱により亀裂や割れが生じな
い、紫外線硬化樹脂から成る絶縁被膜を有する絶縁電線
を実現するため、ベンゼン環を有するアミン類を含有す
る紫外線硬化樹脂で絶縁被膜を構成するようにした。

【０００６】導体を構成する金属は、銅、アルミニウ
ム、鉄、銀、白金等のいずれでもよく、それらの合金、
それらと錫、亜鉛等との合金でもよい。また、それら
に、錫、銀、ニッケル等でめっきされたものでもよい。
金属導体は単線であってもよく、撚り線であってもよ
い。

【０００７】紫外線硬化樹脂から成る絶縁被膜は、導体
を紫外線硬化型樹脂組成物で被覆し、紫外線照射により
硬化して構成される。紫外線照射の一部を被覆前の組成
物に行ってもよい。

【０００８】通常の紫外線硬化型樹脂組成物は、基本的
に、光重合性オリゴマー、光重合性モノマー、光重合開
始剤から成るが、本発明では、さらにベンゼン環を有す
るアミン類を含有させる。

【０００９】本発明で用いるベンゼン環を有するアミン
類は、アミンの窒素原子にベンゼン環が直接結合したも
ののほか、ベンゼン環がメチレン基等のアルキレン基を
介してアミンの窒素原子に結合したもの、あるいはカル
ボニル基、２価の炭化水素基等を介してアミンの窒素原
子に結合したもの、すなわちアミド化合物等も、包含さ
れる。

【００１０】ベンゼン環を有するアミン類の具体例は、
アニリン、β−ナフチルアミン、o-フェニレンジアミ
ン、N,N-ジ−2-ナフチル -p-フェニレンジアミン、p-ア
ミノフェノール、p-クロロ -o-アニシジン、フェノチア
ジン、フェノチアジン置換体（例えば、2-メトキシフェ
ノチアジン）、N-ニトロソフェニルヒドロキシルアミン
のアンモニウム塩またはアルミニウム塩、p-メトキシベ
ンジルアミン、p-メトキシベンズアミドである。

【００１１】紫外線硬化型樹脂に対するアミン類の添加
量は、樹脂塑性物の紫外線照射後の熱による架橋の進行
を有効に防ぐ量を選ぶが、樹脂１００重量部に対し１重
量部以下が好ましい。添加量が過大であると、紫外線に
よる硬化が妨げられる。

【００１２】紫外線硬化型樹脂組成物に、ベンゼン環を
有するアミン類とともに、さらに酸化防止剤を含有させ
ると、本発明の目的は一層効果的に達成される。酸化防
止剤としては公知の種々のものを用いることができる。
すなわち、フェノール系、ホスファイト系、チオエーテ
ル系、等のいずれを用いることもできる。ベンゼン環を
有するアミン類以外のアミン系酸化防止剤を用いてもよ
い。これらの中で、紫外線硬化型樹脂に溶解するものが
好ましく、特に、常温で液状または融点が高くとも１０
０℃までのものが好ましい。酸化防止剤の具体例を、以
下に系統別に挙げる。

【００１３】フェノール系：３−メチル−４−イソプロピルフェノール 2,6-ジ-t- ブチルフェノール 2,6-ジ-t- ブチル -4-エチルフェノール 2,6-ジ-t- ブチル -4-メチルフェノール 2,3-ジメチル -6-t-ブチルフェノール 2,6-ジ-t- ブチル -4-sec-ブチルフェノールブチルヒドロキシアニソール 2-( 1-メチルシクロヘキシル-4,6- ジメチルフェノール 2,6-ジ-t- ブチル−α−ジメチルアミノ -p-クレゾールスチレン化フェノール 2,2'- メチレン−ビス-(4-メチル -6-t-ブチルフェノー
ル） 2,2'- メチレン−ビス-(4-エチル -6-t-ブチルフェノー
ル） 2,2'- メチレン−ビス-(4-メチル -6-シクロヘキシルフ
ェノール） 4,4'- メチレン−ビス-(2,6-ジ -t-ブチルフェノール） 2,2'- メチレン−ビス-(6-α−メチルベンジル -p-クレ
ゾール） 2,2'- エチリデン−ビス-(4,6-ジ -t-ブチルフェノー
ル） 4,4'- ブチリデン−ビス-(6-t-ブチル -m-クレゾール） 4,4'- ブチリデン−ビス-(3-メチル -6-t-ブチルフェノ
ール) 1,3,5-トリ( 2-メチル -4-ヒドロキシ -5-t-ブチルフェ
ニル) ブタン 1,1-ビス-(4-ヒドロキシフェニル) シクロヘキサン 2,2'- メチレン−ビス-(4-メチル -6-α−メチルシクロ
ヘキシルフェノール） 1,3,5-トリメチル-2,4,6- トリス（3,5-ジt-ブチル -4-
ヒドロキシベンジル)ベンゼン

【００１４】1,3,5-トリス(4'-t-ブチル-3'-ヒドロキシ
-2',6'-ジメチルベンジル）イソシアヌレート 1,3,5-トリス (3',5'-ジ -t-ブチル-4'-ヒドロキシベン
ジル）イソシアヌレート n-オクタデシル -3-(3',5'- ジ -t-ブチル-4'-ヒドロキ
シフェニル）プロピオネートテトラ〔3-( 3',5'-ジ -t-ブチル-4'-ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニル〕ネオペンタントリエチレングリコールジ[ 3-(3'-t-ブチル-4'-ヒドロ
キシ-5'-メチルフェニル）プロピオネート〕（3,5-ジ -t-ブチル-4- ヒドロキシベンジル）ジエチル
ホスフォナート 2-t-ブチル-6-(2'- ヒドロキシ- 3'-t- ブチル-5'-メチ
ルベンジル)-4-メチルフェニルアクリレート 3,9-ビス〔2-｛3-(3-t- ブチル -4-ヒドロキシ -5-メチ
ルフェニルプロピオニルオキシ｝ -1,1-ジメチルエチ
ル]-2,4,8,10- テトラオキサスピロ [5,5]ウンデカン 3,3'-ジ (3-t-ブチル -4-ヒドロキシフェニル）エチレ
ンジブチレート 1,3,5-トリ( 2-ヒドロキシエチル)-s-トリアジン-2,4,6
-(1H,3H,5H) トリオンの3,5-ジ -t-ブチル -4-ヒドロキ
シ桂皮酸トリエステル 4,4'- チオビス-(6-t-ブチル -3-メチルフェノール) 4,4'- チオビス-(6-t-ブチル -o-クレゾール) 4,4'- ジチオビス-(2,6-ジ -t-ブチルフェノール) 4,4'- トリチオビス-(2,6-ジ -t-ブチルフェノール) ビス-(3,5-ジ -t-ブチル -4-ヒドロキシベンジル) スル
フィド 2,2'- チオ- ジエチレンビス[3-(3,5-ジ -t-ブチル -4-
ヒドロキシフェニル)プロピオネート 2,2'- チオビス-(3-メチル -6-t-ブチルフェノール) 6- (3,5-ジ -t-ブチル -4-ヒドロキシアニリノ）-2,4'-
ビス・オクチルチオ-1,3,5-トリアジン

【００１５】ホスファイト系：トリフェニルホスファイトトリスノニルフェニルホスファイトトリス（混合モノおよびジノニルフェニル）ホスファイ
トフェニルジイソデシルホスファイトジフェニルモノ（2-エチルヘキシル）ホスファイトジフェニルモノトリデシルホスファイトジフェニルイソデシルホスファイトジフェニルイソオクチルホスファイトジフェニルノニルフェニルホスファイトトリストリデシルホスファイトトリスイソデシルホスファイトトリス（2-エチルヘキシル）ホスファイトトリス（2,4-ジ -t-ブチルフェニル）ホスファイト（3,5-ジ -t-ブチル -4-ヒドロキシベンジル）ジエチル
ホスファイト

【００１６】テトラフェニルジプロピレングリコールジ
ホスファイトペンタエリスリトールテトラキス〔フェニル（トリデシ
ル）ホスファイト〕 1,1,3-トリ (2-メチル -4-ジトリデシルホスフォノ -5-
t-ブチルフェニル）ブタン 2,2'- エチリデン−ビス-(4,6-ジ -t-ブチルフェニル）
フルオロホスファイト 4,4'- ブチリデン−ビス[(3-メチル -6-t-ブチルフェニ
ル) ジトリデシルホスファイト] 1,1'- イソプロピリデン−ビス（フェニルアルキルホス
ファイト）（アルキルは炭素数１２〜１５）環状ネオペンタンテトライル−ビス（2,4-ジ-tert-ブチ
ルフェニルホスファイト）＝ビス（2,4-ジ -t-ブチル
フェニルホスフィニコ）ペンタエリスリトール環状ネオペンタンテトライル−ビス（2,6-ジ -t-ブチル
-4-メチルフェニルホスファイト）環状ネオペンタンテトライル−ビス（ノニルフェニルホ
スファイト）（ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホス
ファイト）ジブチルホスフィン酸ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト

【００１７】チオ系： 3,3'-チオビスプロピオン酸ジラウリル 3,3'-チオビスプロピオン酸ジステアリル 3,3'-チオビスプロピオン酸ジミリスチル 3,3'-チオビスプロピオン酸ジトリデシルペンタエリスリトールテトラ[(3-ラウリルチオ）プロピ
オネート] 1,1'-チオビス（2-ナフトール)ジ〔2-メチル -4-｛3-（n-アルキルチオ）プロピオニル
オキシ｝-5- t-ブチルフェニル〕スルフィド（アルキ
ルは炭素数１２または１４）ジオクタデシルジスルフィド

【００１８】その他：ジメチルジチオカルバミン酸ニッケルジエチルジチオカルバミン酸ニッケルジイソブチルジチオカルバミン酸ニッケルジ -n-ブチルジチオカルバミン酸ニッケルイソプロピルキサントゲン酸ニッケル

【００１９】酸化防止剤は、液状の紫外線硬化型樹脂組
成物に容易に溶解するものが好ましい。特に、常温で液
体であるもの、あるいは１００℃以下の融点をもつもの
が好ましい。酸化防止剤の添加量は、通常、紫外線硬化
型樹脂組成物１００重量部に対し0.０５〜２重量部が適
当である。0.０５重量部より少ないと、割れを防止する
効果が得られず、２重量部より大であると、硬化速度が
低下する傾向が見られ、また割れ防止の効果も却って低
下する場合がある。

【００２０】紫外線硬化型樹脂組成物の基本成分である
光重合性オリゴマーは、例えば、エポキシアクリレート
系、エポキシ化油アクリレート系、ウレタンアクリレー
ト系、ポリエステルウレタンアクリレート系、ポリエー
テルウレタンアクリレート系、ポリエステルアクリレー
ト系、ポリエーテルアクリレート系、ビニルアクリレー
ト系、シリコーンアクリレート系、ポリブタジエンアク
リレート系、ポリスチレンエチルメタクリレート系、ポ
リカーボネートジカルボネート系、不飽和ポリエステル
系、ポリエン／チオール系の各種モノマーであって、不
飽和二重結合を有する官能基、例えばアクリロイル基
（ＣＨ₂＝ＣＨＣＯ）、メタクリロイル基（ＣＨ₂＝Ｃ
（ＣＨ₃)ＣＯ）、アリル基（ＣＨ₂＝ＣＨＣＨ）、ビニ
ル基（ＣＨ₂＝ＣＨ）を、２個以上有するものである。
モノマーは弗素置換されたものでもよい。二種以上のオ
リゴマーを組み合わせて用いてもよい。

【００２１】光重合性モノマーとしては、分子中にアク
リロイル基またはメタクリロイル基を１個または２個以
上有する化合物、ビニル基等を有する公知の反応性希釈
剤等を用いることができる。例えば、ベンジルアクリレ
ート、ベンジルメタクリレート、ＥＣＨ変性ブチルアク
リレート、2-エチルヘキシルアクリレート、2-エチルヘ
キシルメタクリレート、オクチルアクリレート、イソオ
クチルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソデ
シルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ラウリル
メタクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリル
メタクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、カプロラ
クトン変性テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェ
ニルアクリレート、フェニルメタクリレート、アリルア
クリレート、アリルメタクリレート、2-ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、
カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチルアクリレート、
カプロラクトン変性2-ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2-ヒドロキシプロピルアクリレート、2-ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、3-クロロ -2-ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート、1,4-ブタンジオールモノアクリレ
ート、イソボニルアクリレート、イソボニルメタクリレ
ート、2-メトキシエチルアクリレート、2-エトキシエチ
ルアクリレート、2-エトキシエチルメタクリレート、2-
（2-エトキシエトキシ）エチルアクリレート、2-ブトキ
シエチルアクリレート、2-ブトキシエチルメタクリレー
ト、2-フェノキシエチルアクリレート、2-フェノキシエ
チルメタクリレート、3-フェノキシ-2-ヒドロキシプロ
ピルアクリレート、

【００２２】メチルジエチレングリコールメタクリレー
ト、メチルジエチレングリコールアクリレート、フェニ
ルジエチレングリコールアクリレート、メチルトリエチ
レングリコールアクリレート、メチルトリエチレングリ
コールメタクリレート、ブチルトリエチレングリコール
アクリレート、メチルテトラエチレングリコールメタク
リレート、フェニルテトラエチレングリコールアクリレ
ート、フェニルヘキサエチレングリコールアクリレー
ト、ポリエチレングリコールメタクリレート、メチルポ
リエチレングリコールアクリレート、（ノニルフェニ
ル）ポリエチレングリコールアクリレート、メチルジプ
ロピレングリコールアクリレート、ポリプロピレングリ
コールメタクリレート、（ノニルフェニル）ポリプロピ
レングリコールアクリレート、ポリエチレングリコール
／ポリプロピレングリコールメタクリレート、ポリエチ
レングリコール／ポリブチレングリコールメタクリレー
ト、

【００２３】ＥＯ変性フェノキシ化リン酸アクリレー
ト、ＥＯ変性フェノキシ化リン酸メタクリレート、ＥＯ
変性リン酸アクリレート、ＥＯ変性リン酸メタクリレー
ト、ＥＯ変性ブトキシ化リン酸アクリレート、ＥＯ変性
ブトキシ化リン酸メタクリレート、ＥＯ変性オクトキシ
化リン酸アクリレート、ＥＯ変性オクトキシ化リン酸メ
タクリレート、ＥＯ変性コハク酸アクリレート、ＥＯ変
性コハク酸メタクリレート、ＥＯ変性フタル酸アクリレ
ート、ＥＯ変性フタル酸メタクリレート、

【００２４】グリセロールメタクリレート、グリシジル
アクリレート、グリシジルメタクリレート、2-シアノエ
チルアクリレート、2,3-ジブロモプロピルアクリレー
ト、2,3-ジブロモプロピルメタクリレート、トリフロロ
エチルアクリレート、トリフロロエチルメタクリレー
ト、テトラフロロプロピルアクリレート、テトラフロロ
プロピルメタクリレート、オクタフロロペンチルアクリ
レート、オクタフロロペンチルメタクリレート、ヘプタ
デカフロロデシルアクリレート、ヘプタデカフロロデシ
ルメタクリレート、N,N-ジメチルアミノエチルアクリレ
ート、N,N-ジメチルアミノエチルメタクリレート、N,N-
ジエチルアミノエチルアクリレート、N,N-ジエチルアミ
ノエチルメタクリレート、ｔ−ブチルアミノエチルメタ
クリレート、モルホリンアクリレート、2-ヒドロキシ -
3-メタクリロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロ
ライド、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシル
メタクリレート、メトキシ化シクロデカトリエンアクリ
レート、シクロペンテニルアクリレート、ジシクロペン
チルアクリレート、ジシクロペンテニルメタクリレー
ト、脂環式変性ネオペンチルグリコールアクリレート、
ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、ジシク
ロペンテニルオキシエチルメタクリレート、アクリロイ
ルオキシエチルスルホン酸ナトリウム、メタクリロイル
オキシエチルスルホン酸ナトリウム、カプロラクトンア
クリレート、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、

【００２５】ビニルアセテート、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、スチレン、アリル化イ
ソシアヌレート、

【００２６】アリル化シクロヘキシルジアクリレート、
ビス（アクリロキシネオペンチル）アジペート、エチレ
ンジアクリレート、エチレンジメタクリレート、ＥＣＨ
変性エチレンジアクリレート、ＥＣＨ変性エチレンジメ
タクリレート、1,4-ブチレンジアクリレート、1,4-ブチ
レンジメタクリレート、1,3-ブチレンジアクリレート、
1,3-ブチレンジメタクリレート、1,6-ヘキシレンジアク
リレート、ＥＣＨ変性1,6-ヘキシレンジアクリレート、
1,6-ヘキシレンジメタクリレート、ネオペンチルジアク
リレート、ネオペンチルジメタクリレート、ヒドロキシ
ピバリン酸ネオペンチルジアクリレート、カプロラクト
ン変性ピバリン酸ネオペンチルジアクリレート、メトキ
シ化シクロヘキシルジアクリレート、長鎖脂肪族アルコ
ールジアクリレート、長鎖脂肪族アルコールジメタクリ
レート、

【００２７】ジエチレングルコールジアクリレート（
2,2'-ジアクリロイルオキシジエチルエーテルの俗
称）、ジエチレングルコールジメタクリレート（ 2,2'-
ジメタクリロイルオキシジエチルエーテルの俗称）、ト
リエチレングリコールジアクリレート（1,2-ジ（アクリ
ロイルオキシエトキシ）エタンの俗称）、トリエチレン
グリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコー
ルジアクリレート（ 2,2'-ジ（β−アクリロイルオキシ
エトキシ）ジエチルエーテルの俗称、以下同様）、テト
ラエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレン
グルコールジアクリレート、ポリエチレングルコールジ
メタクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレ
ート、ＥＣＨ変性プロピレングリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングルコールジアクリレート、ポリプ
ロピレングリコールジメタクリレート、

【００２８】グリセロールアクリレート／メタクリレー
ト、グリセロールジメタクリレート、ＥＣＨ変性グリセ
ロールトリアクリレート、トリグリセロールジアクリレ
ート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロ
パンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ＥＣＨ変性トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ジシクロペンテニルジアクリレート、

【００２９】ペンタエリスリトールトリアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリ
スリトールテトラメタクリレート、ステアリン酸変性ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ステアリン酸変性
ペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジペン
タエリスリトールペンタアクリレート、アルキル変性ジ
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、アルキル変
性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジトリメ
チロールプロパンテトラアクリレート、

【００３０】ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレー
ト、ＥＯ変性ビスフェノールＦジアクリレート、ＥＯ変
性リン酸ジアクリレート、ＥＯ変性リン酸ジメタクリレ
ート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、ＥＣＨ変性フ
タル酸ジアクリレート、テトラブロモビスフェノールＡ
ジアクリレート、トリエチレングリコールジジビニルエ
ーテル、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレー
ト、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）
イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエチル）イ
ソシアヌレートである。

【００３１】オリゴマーとモノマーの比率は、重量比で
８：２ないし４：６が適当である。

【００３２】光重合開始剤（増感剤）としては、例え
ば、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル
ジクロロアセトフェノン、4-t-ブチルトリクロロアセト
フェノン、ジエトキシアセトフェノン、2-ヒドロキシ -
2-メチル -1-フェニルプロパン-1-オン、1-（4-イソプ
ロピルフェニル)-2-ヒドロキシ -2-メチルプロパン -1-
オン、1-（4-ドデシルフェニル)-2-ヒドロキシ -2-メチ
ルプロパン -1-オン、4-(2-ヒドロキシエトキシ）フェ
ニル -2-ヒドロキシプロピルケトン、2-ヒドロキシシク
ロヘキシルフェニルケトン、〔4-（メチルチオ）フェ
ニル〕 -2-メチル -2-モルホリノプロピルケトン等のア
セトフェノン系化合物、

【００３３】ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、
ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエ
ーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルメチ
ルケタール等のベンゾイン系化合物、

【００３４】ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベ
ンゾイル安息香酸メチル、4-フェニルベンゾフェノン、
ヒドロキシベンゾフェノン、アクリル化ベンゾフェノ
ン、4-ベンゾイル-4'-メチルジフェニルスルフィド、3,
3'- ジメチル -4-メトキシベンゾフェノン、3,3',4,4'-
テトラ（t-ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノ
ン等のベンゾフェノン系化合物、

【００３５】チオキサンソン、２−クロルチオキサンソ
ン、２−メチルチオキサンソン、２−イソプロピルチオ
キサンソン、2,4-ジメチルチオキサンソン、2,4-ジエチ
ルチオキサンソン、2,4-ジクロロチオキサンソン、2,4-
ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化
合物、

【００３６】2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホ
スフィンオキシド、メチルフェニルグリオキシレート、
9,10- フェナンスレンキノン、カンファキノン、ジベン
スベロン、2-エチルアンスラキノン、4',4"-ジエチルイ
ソフタフェロン等、公知の開始剤を用いることができ
る。紫外線により重合反応を起こすものでもよい。二種
以上の開始剤を組み合わせて用いてもよい。開始剤は樹
脂組成物中0.１重量％から１０重量％までの範囲の量を
添加する。

【００３７】樹脂組成物には、紫外線照射後の熱による
架橋の進行を防ぐ効果をさらに増大させる目的で、その
ような効果をもつ、ベンゼン環を有するアミン類以外の
化合物を添加してもよい。例えば、キノン類、または酸
化によりキノン類を生成する化合物を加えることができ
る。キノン類の具体例として、p-ベンゾキノン、メチル
-p-ベンゾキノン（トルキノン）、p-ナフトキノン、ク
ロラニル、アントラキノン、フェナントキノン、2-t-ブ
チルアントラキノンがある。酸化によりキノン類を生成
する化合物の具体例として、ヒドロキノン、メチルヒド
ロキノン、t-ブチルヒドロキノン、ベンジルヒドロキノ
ン、ヒドロキノンモノメチルエーテル（p-メトキシフェ
ノール）、カテコール、4-t-ブチルカテコール、4-t-ブ
チルカテコールモノベンジルエーテル、バニリン、ピロ
ガロール、ピロガロールモノメチルエーテル、β−フェ
ニルエチルピロガロール、α−ナフトール、β−ナフト
ール、p-メトキシベンゾフェノン、p-メトキシアセトフ
ェノン、 4,4'-ジヒドロキシジフェニルスルフィド、フ
ルフラールフェニルヒドラゾンがある。そのほかメチル
ジチオカルバミン酸ナトリウム、ジエチルジチオカルバ
ミン酸ナトリウム、ジメチルジチオカルバミン酸カリウ
ム、ジブチルジチオカルバミン酸ナトリウム、ジメチル
キサントゲンジスルフィド等を用いることもできる。

【００３８】紫外線硬化型樹脂組成物は、光開始助剤、
接着付与剤、チクソトロピー付与剤、充填剤、可塑剤、
非反応性ポリマー、着色剤、難燃化剤、難燃化助剤、軟
化防止剤、乾燥剤、分散剤、湿潤剤、沈澱防止剤、増粘
剤、色分かれ防止剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、防黴
剤、防鼠剤、防蟻剤、防火剤、艶消し剤、ブロッキング
防止剤、光沢剤、皮張り防止剤等、種々の添加物を含む
ことができる。

【００３９】紫外線硬化樹脂被膜で被覆する前に、金属
導体の表面には、それ自体液状の、金属に対し非接着性
の物質、例えば、シリコーンオイル、シリコーン系界面
活性剤、弗素系（弗素化炭化水素の誘導体）界面活性
剤、弗素系（弗素化炭化水素の誘導体）撥水剤、弗素系
撥油剤を薄く塗布することが好ましい。

【００４０】

【作用】本発明の絶縁電線は、紫外線硬化樹脂の、未反
応の官能基や不飽和二重結合に起因する架橋の進行が、
共存するベンゼン環を有するアミン類によって妨げられ
るため、自己径巻き付けの際等に加熱されても、紫外線
硬化樹脂から成る絶縁被膜の亀裂や割れが生じない。こ
の効果は、紫外線硬化樹脂に酸化防止剤を含むことによ
りさらに助長される。そればかりでなく、ベンゼン環を
有するアミン類とともに酸化防止剤が共存すると、樹脂
組成物の酸化劣化が防止され、変色も防止される。以
下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。

【００４１】

【実施例１〜２】本発明による絶縁電線の一例は、錫め
っき軟銅線を撚り合わせた導体を、紫外線硬化樹脂組成
物で構成された絶縁被膜で被覆したものである。導体と
して日立電線株式会社製２８ＡＷＧを用いた。絶縁被膜
は、上記導体に粘度４５００cps（２５℃）のウレタン
・アクリレート系紫外線硬化型樹脂に表１に示す化合物
をそれぞれ添加した樹脂組成物を被覆した後、紫外線硬
化して構成した。被膜の厚さは約５０μｍ（実測値は実
施例１で４９μｍ、実施例２で５０μｍ）である。

【００４２】

【００４３】得られた絶縁電線の加工性、耐熱性、絶縁
抵抗を、以下の条件で評価した。 (1) 加工性常温で自己径巻き付けしたときの状況、および１３６℃
１６８時間加熱後に自己径巻き付けしたときの状況を観
察した。 (2) 耐熱性ハンダ付け時の耐熱性を評価するため、温度３２０℃で
５秒間加熱した。 (3) 絶縁抵抗温度２０℃で絶縁抵抗定数を測定した。

【００４４】別に、実施例１、２に用いた紫外線硬化型
樹脂組成物で厚さ２５０μｍ、幅６mm、長さ１５０mmの
短冊状シート試料を作成し、これに絶縁電線と同じ条件
（波長、照度、温度、雰囲気等）で紫外線照射し、この
試料について絶縁被膜の引張特性と加熱下での老化によ
る変化を、次のように評価した。 (4) 張強さ紫外線照射直後の試料と、それを温度１３６℃で１６８
時間加熱した試料について、引張速度５０ｍ／分で測定
した。加熱後については、残率で示す。 (5) 伸び紫外線照射直後の試料と、それを１３６℃１６８時間加
熱した試料について、引張速度５０ｍ／分で引張試験を
行った際の、試料上に印した距離２５mmの標線間の伸び
率を測定した。加熱後については伸び残率で示す。これ
らの評価結果は表２に示す通りである。

【００４５】

【００４６】表２に示されるように、実施例１〜３の絶
縁電線はいずれも、自己径巻付けに対し良好な加工性を
示し、耐熱性、絶縁性もよい。絶縁被膜の引張強さ、伸
びも充分であり、それらの加熱による低下も小さい。

【００４７】

【実施例３】フェノチアジンを用いた実施例２におい
て、ウレタン・アクリレート系紫外線硬化型樹脂の代わ
りに粘度３５００ｃｐｓ（温度２５℃）のポリブタジエ
ン・アクリレート系紫外線硬化型樹脂を用い、それ以外
は実施例２と同様とした（絶縁被膜の厚さは４９μ
ｍ）。加工性、引張強さ、伸び、耐熱性、および絶縁抵
抗の評価結果（加熱後を含めて）を表３に示す。

【００４８】

【００４９】表３から明らかなように、実施例３の絶縁
電線は、自己径巻き付けに対し良好な加工性を示し、絶
縁被膜の耐熱性、絶縁性もよい。引張強さ、伸びも充分
であり、それらの加熱による低下も小さい。

【００５０】

【実施例４〜６】粘度４５００ cps（２５℃）のウレタ
ン・アクリレート系紫外線硬化型樹脂に表４に符号で示
す各化合物（アミンＰ-1，Ｐ-2 および酸化防止剤Ａ-
1，Ａ-2，Ａ-3）をそれぞれ添加した樹脂組成物で、実
施例１と同じ導体を被覆した後、紫外線硬化して厚さ約
５０μｍの絶縁被膜（実測値は実施例４では４９μｍ、
実施例５では５０μｍ、実施例６では５２μｍ）とし、
絶縁電線を構成した。表４に符号で示した化合物はそれ
ぞれ表５に示すものである。

【００５１】

【００５２】

【００５３】実施例１〜３と同様の方法で、耐熱性、絶
縁抵抗、ならびに加熱前後の加工性、引張強さ、および
伸びを評価した。結果を表６に示す。

【００５４】

【００５５】表６から明らかなように、実施例４〜６の
絶縁電線はいずれも、自己径巻き付けに対し良好な加工
性を示す。絶縁被膜は充分なハンダ耐熱性、絶縁性、引
張強さおよび伸びを有し、加熱後の伸び率の低下も僅か
である。

【００５６】

【実施例７】実施例６において、ウレタン・アクリレー
ト系紫外線硬化型樹脂の代わりにポリブタジエン・アク
リレート系紫外線硬化型樹脂（粘度３６００cps ）を用
い、それ以外は実施例６と同様とした（絶縁被膜の厚さ
は４８μｍ）。加工性、引張強さ、伸び、ハンダ耐熱
性、絶縁抵抗の評価結果（加熱後を含めて）を表７に示
す。なお表７には、便宜上、後に記す比較例の評価結果
を併せて示した。

【００５７】

【００５８】表７から明らかなように、実施例７の絶縁
電線も自己径巻き付けに対し良好な加工性を示す。絶縁
被膜の耐熱性、絶縁性もよく、充分な引張強さと伸びを
有し、加熱による伸び率の低下も少ない。

【００５９】

【比較例】実施例５において、アミンＰ-2（フェノチア
ジン）の添加を省略して、スルフィド系酸化防止剤Ａ-2
（表４参照）を５重量％添加し、それ以外は実施例５と
同様とした（絶縁被膜の厚さは５１μｍ）。

【００６０】実施例１〜３と同様の方法で、耐熱性、絶
縁抵抗、ならびに加熱前後の加工性、引張強さ、および
伸びを評価した。その結果を表７に、実施例７の結果と
ともに示した。

【００６１】表７から明らかなように、比較例の絶縁電
線は自己径巻き付けに対し良好な加工性を示す。絶縁被
膜の耐熱性、絶縁性もよく、充分な引張強さと伸びを有
するが、加熱による伸び率の低下がかなり大きい。ま
た、１３６℃１６８時間加熱後の試料は変色していた。

【００６２】

【従来例１〜２】比較のため、実施例２および３におい
て、フェノチアジンの添加を省略し、それ以外は実施例
１および３と同様にした。実施例１のフェノチアジンの
添加を省略したものを従来例１、実施例３のフェノチア
ジンの添加を省略したものを従来例２とする。

【００６３】得られた絶縁電線の加工性、耐熱性、絶縁
抵抗、引張強さ、および伸び（加熱後を含めて）の評価
結果を表８に示す。

【００６４】

【００６５】表８に示すように、従来例１および２の絶
縁被膜は、加熱後には自己径巻き付けの際割れを生ず
る。これは、対応するシート試料の伸び率が加熱後に著
しく低下することに対応している。また、比較例の場合
と同様、加熱後の試料は変色していた。

【００６６】

【発明の効果】本発明の、紫外線硬化樹脂から成る絶縁
被膜を有する絶縁電線は、自己径巻き付けの際等の加熱
により亀裂や割れが生じない。また、加熱による変色も
生じない。これにより、絶縁被膜の薄層化のために紫外
線硬化樹脂を適用する上での重大な障害が除かれる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】導体と、その外周を被覆する、紫外線照
射により硬化された樹脂から成る絶縁被膜とを有する、
絶縁電線において、前記絶縁被膜がベンゼン環を有するアミン類を含有する
ことを特徴とする、絶縁電線。
【請求項２】導体と、その外周を被覆する、紫外線照
射により硬化された樹脂から成る絶縁被膜とを有する、
絶縁電線において、前記絶縁被膜が、ベンゼン環を有するアミン類と、酸化
防止剤とを含有することを特徴とする、絶縁電線。
【請求項３】前記アミン類は、ベンゼン環がアミンの
窒素原子と、直接またはメチレン基もしくはカルボニル
基を介して結合している、請求項１または２の絶縁電
線。