JPH05226441A - 半導体装置の回路パターンと論理回路の配線情報との間の対応を検索する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 半導体装置の回路パターンと論理回路の配線
情報との間の対応を検索する方法に関し、半導体装置の
回路パターンと論理回路の配線情報との対応付けをツー
ルを用いて自動的に行う方法の提供を目的とする。 【構成】 論理回路の配線情報に基づいて形成されたマ
スクパターンに、配線情報が正しく変換されているか否
かを判定できる検査機能を有するツールにより行う半導
体装置の回路パターンと論理回路の配線情報との間の対
応を検索する方法であって、走査型電子顕微鏡で読み取
った半導体装置の回路パターンの走査型電子顕微鏡の画
面データと、半導体装置製造用のマスクパターンを形成
するのに用いたＣＡＤデータとの位置関係の対応を取る
工程と、この設計データと、この設計データを作成する
のに用いた論理回路の配線情報とを対応付ける工程とを
有し、半導体装置の回路パターンと論理回路の配線情報
との間の対応を検索するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の回路パタ
ーンと論理回路の配線情報との間の対応を検索する方法
に関するものである。

【０００２】近年の半導体装置は年を追って集積度が高
くなり、半導体装置とその基となる論理回路との対応付
けは非常に困難になっており、半導体装置の回路パター
ンのある部分が論理回路の配線情報のどの部分に対応す
るのかを見つけるには、半導体装置の回路パターンを人
間の肉眼で見て、論理回路の配線情報を追跡して調べる
以外の方法がないので、装置を用いて自動的に発見する
ことが要求されている。

【０００３】以上のような状況から、肉眼によらないで
半導体装置の回路パターンと論理回路の配線情報との間
の対応を検索することが可能となる検索方法が要望され
ている。

【０００４】

【従来の技術】従来の半導体装置の回路パターンと論理
回路の配線情報との間の対応を検索する方法について説
明する。

【０００５】従来は半導体装置の回路パターンから論理
回路図をツールを用いて追跡する方法はなく、設計者が
自ら肉眼で半導体装置の回路パターンを追って、論理回
路図との対応付けを行っている。

【０００６】特に自動配置配線を行うツールを用いて処
理を行った場合には、肉眼で追うことは不可能である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】以上説明した従来の半
導体装置の回路パターンと論理回路の配線情報との間の
対応を検索する方法では、現在の高集積化した半導体装
置の回路パターンから得られる回路パターン情報と論理
回路の配線情報との対応を得ることは、人間の能力の限
界を超えているという問題点があった。

【０００８】本発明は以上のような状況から、所望の半
導体装置の回路パターンと論理回路の配線情報との対応
付けを、ツールを用いて自動的に行うことが可能となる
半導体装置の回路パターンと論理回路の配線情報との間
の対応を検索する方法の提供を目的としたものである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置の回
路パターンと論理回路との間の対応を検索する方法は、
論理回路の配線情報に基づいてマスクパターンを形成す
る場合に、このマスクパターンを形成するのに用いる設
計データに、この配線情報が正しく変換されているかど
うかを判定することが可能な検査機能を有するツールを
利用して行う半導体装置の回路パターンと論理回路の配
線情報との間の対応を検索する方法であって、走査型電
子顕微鏡で読み取った半導体装置に形成されている回路
パターンの走査型電子顕微鏡の画面データと、設計デー
タ、即ち、半導体装置を製造するのに用いるマスクパタ
ーンを形成するのに用いたＣＡＤデータとの位置関係の
対応を取る工程と、この設計データと、この設計データ
を作成するのに用いた論理回路の配線情報とを対応付け
る工程とを有し、半導体装置の回路パターンと論理回路
の配線情報との間の対応を検索するように構成する。

【００１０】

【作用】即ち本発明においては、まず半導体装置の所望
の部分を走査型電子顕微鏡で読み取り、読み取った走査
型電子顕微鏡の画面データ（以下、ＳＥＭ画面データと
略称する）と、この半導体装置を製造するのに用いたマ
スクパターンを形成するのに用いたＣＡＤデータとの位
置合わせを行い、ＳＥＭ画面データの所望の部分を選択
する。つぎにこのＳＥＭ画面データの選択した部分に対
応するＣＡＤデータを配線が切断されたように擬似的に
変造する。ついでこの配線が切断されたように擬似的に
変造したＣＡＤデータとこの部分に対応する論理回路の
配線情報を検索すると、ＣＡＤデータに加えた擬似的に
変造した配線カットが論理回路上に欠陥として表示され
るので、ＳＥＭ画面データの所望の部分がこの欠陥部に
対応していることを発見することが可能となる。

【００１１】

【実施例】以下図１〜図３により本発明の一実施例につ
いて詳細に説明する。図１はＳＥＭによる半導体装置の
回路パターンの走査状況を示す図、図２は本発明による
一実施例のＳＥＭ画面データの表示状況を示す図、図３
は本発明による一実施例のＣＡＤデータに形成した擬似
欠陥の表示状況を示す図である。

【００１２】まず図１に示すように走査型電子顕微鏡３
を用いて半導体装置６に形成されている回路パターン上
を走査し、図２に示すように走査型電子顕微鏡により得
られたＳＥＭ画面データ１の選択した部分を表示装置４
に表示する。

【００１３】つぎにこのＳＥＭ画面データ１の選択した
部分に対応する、この半導体装置を製造するのに用いた
マスクパターンを形成するのに用いたＣＡＤデータ２と
の位置合わせを行い、図３に示すようにこのＣＡＤデー
タ２の部分を表示装置５に表示する。

【００１４】ここで図２に示すＳＥＭ画面データ１の選
択した部分1aに対応するＣＡＤデータ２を配線が切断さ
れたように擬似的に変造して疑似欠陥2aをつくる。そし
てこの配線が切断されたように擬似的に変造したＣＡＤ
データと、この部分に対応する論理回路の配線情報の検
索を行うと、ＣＡＤデータ２に加えた擬似的に変造した
擬似欠陥2aが論理回路の配線情報に欠陥として示される
ので、ＳＥＭ画面データ１の選択した部分1aがこの論理
回路の配線情報の欠陥部に対応していることを見出すこ
とが可能となる。

【００１５】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように本発明に
よれば、マスクパターンを形成するのに用いる設計デー
タに、論理回路の配線情報が正しく変換されているかど
うかを判定することが可能な検査機能を有するツールを
利用し、極めて簡単な方法により半導体装置の回路パタ
ーンと論理回路の配線情報との間の対応を検索すること
が可能となる利点があり、著しい経済的及び、信頼性向
上の効果が期待できる半導体装置の回路パターンと論理
回路の配線情報との間の対応を検索する方法の提供が可
能である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 ＳＥＭによる半導体装置の回路パターンの走
査状況を示す図、

【図２】 本発明による一実施例のＳＥＭ画面データの
表示状況を示す図、

【図３】 本発明による一実施例のＣＡＤデータに形成
した擬似欠陥の表示状況を示す図、

【符号の説明】

１はＳＥＭ画面データ、1aは選択した部分、２はＣＡＤ
データ、2aは擬似欠陥、３は走査型電子顕微鏡、４は表
示装置、５は表示装置、６は半導体装置、

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 論理回路の配線情報に基づいてマスクパ
   ターンを形成する場合に、該マスクパターンを形成する
   のに用いる設計データに、前記配線情報が正しく変換さ
   れているかどうかを判定することが可能な検査機能を有
   するツールを利用して行う半導体装置の回路パターンと
   論理回路の配線情報との間の対応を検索する方法であっ
   て、 走査型電子顕微鏡で読み取った半導体装置に形成されて
   いる回路パターンの走査型電子顕微鏡の画面データと、
   設計データ、即ち、半導体装置を製造するのに用いるマ
   スクパターンを形成するのに用いたＣＡＤデータとの位
   置関係の対応を取る工程と、 前記設計データと、該設計データを作成するのに用いた
   論理回路の配線情報とを対応付ける工程と、 を有し、半導体装置の回路パターンと論理回路の配線情
   報との間の対応を検索することができることを特徴とす
   る半導体装置の回路パターンと論理回路の配線情報との
   間の対応を検索する方法。