JPH0521982B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0521982B2 JPH0521982B2 JP60265070A JP26507085A JPH0521982B2 JP H0521982 B2 JPH0521982 B2 JP H0521982B2 JP 60265070 A JP60265070 A JP 60265070A JP 26507085 A JP26507085 A JP 26507085A JP H0521982 B2 JPH0521982 B2 JP H0521982B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- bombarded
- filament
- crucible
- steam
- amount
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26507085A JPS62127463A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 溶融物質の蒸気噴出装置の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26507085A JPS62127463A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 溶融物質の蒸気噴出装置の制御方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62127463A JPS62127463A (ja) | 1987-06-09 |
| JPH0521982B2 true JPH0521982B2 (https=) | 1993-03-26 |
Family
ID=17412171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26507085A Granted JPS62127463A (ja) | 1985-11-27 | 1985-11-27 | 溶融物質の蒸気噴出装置の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62127463A (https=) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2623819A1 (fr) * | 1987-11-26 | 1989-06-02 | Thomson Csf | Four a bombardement electronique pour evaporation sous vide |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5928701B2 (ja) * | 1980-09-30 | 1984-07-14 | 三和機工株式会社 | 杭圧入機におけるモンケン支持装置 |
-
1985
- 1985-11-27 JP JP26507085A patent/JPS62127463A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62127463A (ja) | 1987-06-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6579428B2 (en) | Arc evaporator, method for driving arc evaporator, and ion plating apparatus | |
| SE501888C2 (sv) | En metod och en apparat för generering av en urladdning i egna ångor från en radiofrekvenselektrod för kontinuerlig självförstoftning av elektroden | |
| JPH10509833A (ja) | プラズマ処理用線形アーク放電発生装置 | |
| JPH0633453B2 (ja) | 陰極スパツタリング処理により基板に薄層を被着する装置 | |
| US6259210B1 (en) | Power control apparatus for an ION source having an indirectly heated cathode | |
| JPH05331640A (ja) | イオン化蒸着装置 | |
| JP5836027B2 (ja) | イオンプレーティング装置および方法 | |
| JPH0521982B2 (https=) | ||
| JP3080945B1 (ja) | 高効率プラズマガス中凝縮クラスター堆積装置 | |
| JP2001307650A (ja) | イオン源の運転方法およびイオンビーム照射装置 | |
| US6342132B1 (en) | Method of controlling gas density in an ionized physical vapor deposition apparatus | |
| JP4054525B2 (ja) | 間接加熱される陰極を有するイオン源の出力制御装置 | |
| JP2620474B2 (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JP2006117978A (ja) | 物品処理装置 | |
| JP2823834B2 (ja) | 蒸着装置におけるるつぼ部機構 | |
| JP3135864B2 (ja) | イオン・プラズマ型電子銃とその制御方法 | |
| JPH05339720A (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JPS63238266A (ja) | スパツタリング装置 | |
| JPH062121A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPS6357938B2 (https=) | ||
| JP2733628B2 (ja) | イオン発生装置 | |
| JPS6428362A (en) | Method and device for forming thin insulating film | |
| JPH0732126B2 (ja) | Icb蒸着装置 | |
| JPH036369A (ja) | イオンプレーティング方法およびイオンプレーティング装置 | |
| JP2017014600A (ja) | 真空蒸着装置 |