JPH05217880A - レジストコーター - Google Patents
レジストコーターInfo
- Publication number
- JPH05217880A JPH05217880A JP3341966A JP34196691A JPH05217880A JP H05217880 A JPH05217880 A JP H05217880A JP 3341966 A JP3341966 A JP 3341966A JP 34196691 A JP34196691 A JP 34196691A JP H05217880 A JPH05217880 A JP H05217880A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist
- turntable
- bearing
- substrate
- spindle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジストコーターのスピンドル用ベアリング
を保護するためのシール部分の摩擦熱や剪断熱によるレ
ジストコーターのターンテーブルの温度上昇を防止し
て、所定の厚さでレジストを基板に塗布できるようにす
る。 【構成】 レジストが塗布される基板１を載せて回転す
るターンテーブル４、ターンテーブル４に直結している
スピンドル軸５、スピンドル軸５をベアリング９を介し
て支持するためのスピンドルハウジング１０、及びベア
リング９をスピンドルハウジング１０に保持するための
ベアリング保持部材１１を含んでなるレジストコーター
に、ベアリング９を保護するためのシール手段として、
ラビリンス構造１６をターンテーブル４とベアリング９
との間に形成する。
を保護するためのシール部分の摩擦熱や剪断熱によるレ
ジストコーターのターンテーブルの温度上昇を防止し
て、所定の厚さでレジストを基板に塗布できるようにす
る。 【構成】 レジストが塗布される基板１を載せて回転す
るターンテーブル４、ターンテーブル４に直結している
スピンドル軸５、スピンドル軸５をベアリング９を介し
て支持するためのスピンドルハウジング１０、及びベア
リング９をスピンドルハウジング１０に保持するための
ベアリング保持部材１１を含んでなるレジストコーター
に、ベアリング９を保護するためのシール手段として、
ラビリンス構造１６をターンテーブル４とベアリング９
との間に形成する。
Description
【０００１】
【０００１】
【０００２】
【産業上の利用分野】この発明はレジストコーターに関
する。更に詳しくは、この発明はターンテーブルの温度
上昇を極めて小さくして所定の厚さでレジストを基板に
塗布することができるレジストコーターに関する。
する。更に詳しくは、この発明はターンテーブルの温度
上昇を極めて小さくして所定の厚さでレジストを基板に
塗布することができるレジストコーターに関する。
【０００３】
【０００２】
【０００４】
【従来の技術】光ディスクや半導体チップ等の製造にお
いては、ガラス基板やシリコンウエハなどにフォトレジ
ストを塗布することが広く行われている。このようなレ
ジストを塗布する場合には、レジストが塗布される基板
を載せて回転するターンテーブル、それに直結している
スピンドル軸、その軸をボールベアリングを介して支持
するためのスピンドルハウジング及びボールベアリング
をスピンドルハウジングに固定するためのベアリング保
持部材からなるレジストコーターが広く使用されてい
る。
いては、ガラス基板やシリコンウエハなどにフォトレジ
ストを塗布することが広く行われている。このようなレ
ジストを塗布する場合には、レジストが塗布される基板
を載せて回転するターンテーブル、それに直結している
スピンドル軸、その軸をボールベアリングを介して支持
するためのスピンドルハウジング及びボールベアリング
をスピンドルハウジングに固定するためのベアリング保
持部材からなるレジストコーターが広く使用されてい
る。
【０００５】
【０００３】このようなレジストコーターにおいては、
ターンテーブルに付着したレジスト液がボールベアリン
グに垂れ込んだり、また基板から振り飛ばされたレジス
ト飛沫がボールベアリングに侵入したりすることにより
ボールベアリングが破損したり、或いはその回転精度を
低下させたりするを防止するために、接触型のゴムシー
ルやテフロンシール、あるいは磁性流体シールが設けら
れている。
ターンテーブルに付着したレジスト液がボールベアリン
グに垂れ込んだり、また基板から振り飛ばされたレジス
ト飛沫がボールベアリングに侵入したりすることにより
ボールベアリングが破損したり、或いはその回転精度を
低下させたりするを防止するために、接触型のゴムシー
ルやテフロンシール、あるいは磁性流体シールが設けら
れている。
【０００６】
【０００４】
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
基板温度が１℃上昇するとレジスト液の溶媒の蒸発が早
まり、そのため膜厚が約２０オングストロームも増大し
てしまうので、フォトレジストを均一に基板に塗布する
ためにターンテーブルの温度を一定に保つことが望まれ
ている。
基板温度が１℃上昇するとレジスト液の溶媒の蒸発が早
まり、そのため膜厚が約２０オングストロームも増大し
てしまうので、フォトレジストを均一に基板に塗布する
ためにターンテーブルの温度を一定に保つことが望まれ
ている。
【０００８】
【０００５】しかしながら、従来のレジストコーターに
おいては、ターンテーブルの回転精度を向上させるため
にベアリングとターンテーブルとの距離を短くすること
が行われており、その短い距離のあいだに前述の接触型
ゴムシール、テフロンシール、磁性流体シールなどが設
けられているので、接触型シールの摩擦熱や磁性流体シ
ールの剪断熱がターンテーブルに伝導してしまい、その
結果ターンテーブルの温度が数度も上昇してしまうとい
う問題がある。
おいては、ターンテーブルの回転精度を向上させるため
にベアリングとターンテーブルとの距離を短くすること
が行われており、その短い距離のあいだに前述の接触型
ゴムシール、テフロンシール、磁性流体シールなどが設
けられているので、接触型シールの摩擦熱や磁性流体シ
ールの剪断熱がターンテーブルに伝導してしまい、その
結果ターンテーブルの温度が数度も上昇してしまうとい
う問題がある。
【０００９】
【０００６】この問題の解決のために、ターンテーブル
の温度上昇が基板に伝導しないように、ターンテーブル
上に０リングを突起させて基板がターンテーブルに接し
ないようにしながらバキュームチャックすることも行わ
れているが、０リングの精度が十分でないので基板の回
転時に面揺れを生じ、その結果レジストが均一に塗布で
きないという問題がある。
の温度上昇が基板に伝導しないように、ターンテーブル
上に０リングを突起させて基板がターンテーブルに接し
ないようにしながらバキュームチャックすることも行わ
れているが、０リングの精度が十分でないので基板の回
転時に面揺れを生じ、その結果レジストが均一に塗布で
きないという問題がある。
【００１０】
【０００７】この発明はこのような従来技術の課題を解
決しようとするものであり、スピンドル用ベアリングを
保護するためのシール部分の摩擦熱や剪断熱によりレジ
ストコーターのターンテーブルの温度上昇を防止して所
定の厚さでレジストを基板に塗布できるようにすること
を目的としている。
決しようとするものであり、スピンドル用ベアリングを
保護するためのシール部分の摩擦熱や剪断熱によりレジ
ストコーターのターンテーブルの温度上昇を防止して所
定の厚さでレジストを基板に塗布できるようにすること
を目的としている。
【００１１】
【０００８】
【００１２】
【課題を解決するための手段】この発明者は、上記の目
的が、ベアリング保護のための接触型のゴムシールやシ
リコンシール、磁性流体シールなどに代り、摩擦熱や剪
断熱等を生じない構造のシール手段としてラビリンス構
造を形成することにより達成できることいを見出し、こ
の発明をなすに至った。
的が、ベアリング保護のための接触型のゴムシールやシ
リコンシール、磁性流体シールなどに代り、摩擦熱や剪
断熱等を生じない構造のシール手段としてラビリンス構
造を形成することにより達成できることいを見出し、こ
の発明をなすに至った。
【００１３】
【０００９】即ち、この発明は、レジストが塗布される
基板を載せて回転するターンテーブル、該ターンテーブ
ルに直結しているスピンドル軸、該スピンドル軸をベア
リングを介して支持するためのスピンドルハウジング、
及び該ベアリングを該スピンドルハウジングに保持する
ためのベアリング保持部材を含んでなるレジストコータ
ーにおいて、該ベアリングを保護するためのシール手段
としてのラビリンス構造が該ターンテーブルと該ベアリ
ングとの間に形成されていることを特徴とするレジスト
コーターを提供する。
基板を載せて回転するターンテーブル、該ターンテーブ
ルに直結しているスピンドル軸、該スピンドル軸をベア
リングを介して支持するためのスピンドルハウジング、
及び該ベアリングを該スピンドルハウジングに保持する
ためのベアリング保持部材を含んでなるレジストコータ
ーにおいて、該ベアリングを保護するためのシール手段
としてのラビリンス構造が該ターンテーブルと該ベアリ
ングとの間に形成されていることを特徴とするレジスト
コーターを提供する。
【００１４】
【００１０】この発明を特徴づけるラビリンス構造に関
し、ターンテーブルとベアリングとの間に形成され、更
にラビリンス構造の外側と内側とで気体の出入りが実質
的に起こらないようにする限り、即ちターンテーブルに
付着したレジスト液がボールベアリングに垂れ込んだ
り、また基板から振り飛ばされたレジスト飛沫がボール
ベアリングに侵入したりすることがいようにする限り、
どのようにラビリンス構造を形成するかは必要に応じて
適宜決定することができる。例えば、ベアリング保持部
材とスピンドル軸とから形成してもよいし、ベアリング
保持部材とターンテーブルとから形成してもよいし、或
いはターンテーブルとスピンドルハウジングとから形成
してもよい。
し、ターンテーブルとベアリングとの間に形成され、更
にラビリンス構造の外側と内側とで気体の出入りが実質
的に起こらないようにする限り、即ちターンテーブルに
付着したレジスト液がボールベアリングに垂れ込んだ
り、また基板から振り飛ばされたレジスト飛沫がボール
ベアリングに侵入したりすることがいようにする限り、
どのようにラビリンス構造を形成するかは必要に応じて
適宜決定することができる。例えば、ベアリング保持部
材とスピンドル軸とから形成してもよいし、ベアリング
保持部材とターンテーブルとから形成してもよいし、或
いはターンテーブルとスピンドルハウジングとから形成
してもよい。
【００１５】
【００１１】
【００１６】
【作用】この発明のレジストコーターは、ベアリングを
保護するために非接触型のシール手段としてラビリンス
構造を有するので、ターンテーブルの回転時においても
従来のようにシール手段に基づく発熱、即ち接触型のゴ
ムシールやテフロンシールなどの摩擦熱や磁性流体の剪
断熱が生じることがない。従って、シール手段が発生さ
せた熱によりターンテーブルの温度が上昇することを防
止することが可能となる。
保護するために非接触型のシール手段としてラビリンス
構造を有するので、ターンテーブルの回転時においても
従来のようにシール手段に基づく発熱、即ち接触型のゴ
ムシールやテフロンシールなどの摩擦熱や磁性流体の剪
断熱が生じることがない。従って、シール手段が発生さ
せた熱によりターンテーブルの温度が上昇することを防
止することが可能となる。
【００１７】
【００１２】
【００１８】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて具
体的に説明する。なお、前述の従来例も含めて各図中、
同一符号は同一または同等の構成要素を表している。
体的に説明する。なお、前述の従来例も含めて各図中、
同一符号は同一または同等の構成要素を表している。
【００１９】
【００１３】図１は、この発明のレジストコーターの好
ましい態様の概略断面図である。
ましい態様の概略断面図である。
【００２０】
【００１４】このレジストコーターは、レジストが塗布
される基板１を載せて回転するターンテーブル４、ター
ンテーブル４に直結しているスピンドル軸５、スピンド
ル軸５をボールベアリング９を介して支持するためのス
ピンドルハウジング１０、及びボールベアリング９をス
ピンドルハウジング１０に保持するためのベアリング保
持部材１１から構成される。
される基板１を載せて回転するターンテーブル４、ター
ンテーブル４に直結しているスピンドル軸５、スピンド
ル軸５をボールベアリング９を介して支持するためのス
ピンドルハウジング１０、及びボールベアリング９をス
ピンドルハウジング１０に保持するためのベアリング保
持部材１１から構成される。
【００２１】
【００１５】ターンテーブル４には、レジストが塗布さ
れる基板１をバキュームチャックして固定するために、
その表面にＯリング２とバキュームチャック用溝３が設
けられている。また、ターンテーブル４はスピンドル５
にネジ６で固定されており、スピンドル軸５の底部には
バキュームライン（図示せず）に連結するためのロータ
ーリージョイント７が設けられている。スピンドル軸５
の駆動は、駆動用モーター（図示せず）の駆動を伝える
ベルト８でプーリー１８を回転させることにより行われ
る。なお、ターンテーブル４の上方には、基板１にレジ
スト液を供給するためのレジストノズル１５が設けられ
ている。
れる基板１をバキュームチャックして固定するために、
その表面にＯリング２とバキュームチャック用溝３が設
けられている。また、ターンテーブル４はスピンドル５
にネジ６で固定されており、スピンドル軸５の底部には
バキュームライン（図示せず）に連結するためのロータ
ーリージョイント７が設けられている。スピンドル軸５
の駆動は、駆動用モーター（図示せず）の駆動を伝える
ベルト８でプーリー１８を回転させることにより行われ
る。なお、ターンテーブル４の上方には、基板１にレジ
スト液を供給するためのレジストノズル１５が設けられ
ている。
【００２２】
【００１６】スピンドル軸５はボールベアリング９を介
してスピンドルハウジング１０により支持されており、
ボールベアリング９はベアリングをターンテーブル４側
から押さえるベアリング保持部材１１でスピンドルハウ
ジング１０に保持されている。ベアリング保持部材１１
は、スピンドルハウジング１０にネジ１３で固定されて
いる。スピンドルハウジング１０は、ベースプレート１
２にネジ１４で固定されており、レジスト飛沫がスピン
ドルハウジング１０に付着しないようにチャンバー１７
に収められている。
してスピンドルハウジング１０により支持されており、
ボールベアリング９はベアリングをターンテーブル４側
から押さえるベアリング保持部材１１でスピンドルハウ
ジング１０に保持されている。ベアリング保持部材１１
は、スピンドルハウジング１０にネジ１３で固定されて
いる。スピンドルハウジング１０は、ベースプレート１
２にネジ１４で固定されており、レジスト飛沫がスピン
ドルハウジング１０に付着しないようにチャンバー１７
に収められている。
【００２３】
【００１７】このレジストコーターを用いてガラス基板
にレジスト例えば紫外線硬化型フォトレジストを塗布す
る場合には、まずターンテーブル４上に基板１を載置し
てバキュームチャックする。
にレジスト例えば紫外線硬化型フォトレジストを塗布す
る場合には、まずターンテーブル４上に基板１を載置し
てバキュームチャックする。
【００２４】
【００１８】ついで基板１の上方に位置するレジストノ
ズル１５からレジスト液を基板１に供給しながらそのレ
ジストノズルを移動させて基板１のほぼ全面にレジスト
液を供給する。
ズル１５からレジスト液を基板１に供給しながらそのレ
ジストノズルを移動させて基板１のほぼ全面にレジスト
液を供給する。
【００２５】
【００１９】次にスピンドル軸５を回転させて、不要な
レジスト液を遠心力で振り切り、乾燥のため回転を数分
間続け、レジストの膜厚が固定した後に回転を止める。
この場合、ターンテーブル４とスピンドル用のベアリン
グ９との間に非接触のシール手段であるラビリンス構造
１６が形成されているので、シール手段の発熱によるタ
ーンテーブルの温度上昇を防止することができる。した
がって、レジスト被膜の膜厚を一定に保つことが可能と
なる。しかも、ラビリンス構造の内側と外側とでは気体
の出入りが実質的にないので、基板１やターンテーブル
４からレジスト液が垂れてベアリング９に入り込んだ
り、或いは基板１が回転することにより生じたレジスト
飛沫がベアリング９に侵入することも防止できる。
レジスト液を遠心力で振り切り、乾燥のため回転を数分
間続け、レジストの膜厚が固定した後に回転を止める。
この場合、ターンテーブル４とスピンドル用のベアリン
グ９との間に非接触のシール手段であるラビリンス構造
１６が形成されているので、シール手段の発熱によるタ
ーンテーブルの温度上昇を防止することができる。した
がって、レジスト被膜の膜厚を一定に保つことが可能と
なる。しかも、ラビリンス構造の内側と外側とでは気体
の出入りが実質的にないので、基板１やターンテーブル
４からレジスト液が垂れてベアリング９に入り込んだ
り、或いは基板１が回転することにより生じたレジスト
飛沫がベアリング９に侵入することも防止できる。
【００２６】
【００２０】図１に示したレジストコーターにおいて
は、ターンテーブル４とベアリング保持部材１１とから
ラビリンス構造１６を形成しているが、これに限らず、
例えば図２に示すように、ベアリング保持部材１１とス
ピンドル軸５とからラビリンス構造１６を形成してもよ
いし、或いは図３に示すように、ターンテーブル４とス
ピンドルハウジング１０とからラビリンス構造１６を形
成してもよい。
は、ターンテーブル４とベアリング保持部材１１とから
ラビリンス構造１６を形成しているが、これに限らず、
例えば図２に示すように、ベアリング保持部材１１とス
ピンドル軸５とからラビリンス構造１６を形成してもよ
いし、或いは図３に示すように、ターンテーブル４とス
ピンドルハウジング１０とからラビリンス構造１６を形
成してもよい。
【００２７】
【００２１】このように、この発明においては、レジス
トコーターどの部分の部材でラビリンス構造を形成する
か、またその凹凸の数、深さや間隙の幅等は必要に応じ
て適宜決定することができるが、一般には空気の出入り
が実質的の起こらない程度のラビリンス構造とすること
が好ましい。このようなラビリンス構造における凹凸の
重なりの程度は３〜１５ｍｍ、好ましくは５〜１０ｍｍ
であり、間隙の幅は０．０３〜０．０５ｍｍ程度とする
ことが好ましい。
トコーターどの部分の部材でラビリンス構造を形成する
か、またその凹凸の数、深さや間隙の幅等は必要に応じ
て適宜決定することができるが、一般には空気の出入り
が実質的の起こらない程度のラビリンス構造とすること
が好ましい。このようなラビリンス構造における凹凸の
重なりの程度は３〜１５ｍｍ、好ましくは５〜１０ｍｍ
であり、間隙の幅は０．０３〜０．０５ｍｍ程度とする
ことが好ましい。
【００２８】
【００２２】なお、ターンテーブル４やベアリング保持
部材１１等を熱伝導率の低いセラミックなどの材料で形
成することにより、ターンテーブル４の温度上昇を更に
低減することができる。
部材１１等を熱伝導率の低いセラミックなどの材料で形
成することにより、ターンテーブル４の温度上昇を更に
低減することができる。
【００２９】
【００２３】
【００３０】
【発明の効果】この発明のレジストコーターによれば、
スピンドル用ベアリングを保護するためのシール部分の
摩擦熱や剪断熱によりレジストコーターのターンテーブ
ルの温度上昇を防止できる。したがって、均一な厚さで
レジストを基板に塗布できる。しかも、レジストコータ
ーのベアリングへのレジストの垂れ込みやレジスト飛沫
の侵入を防止することもできる。
スピンドル用ベアリングを保護するためのシール部分の
摩擦熱や剪断熱によりレジストコーターのターンテーブ
ルの温度上昇を防止できる。したがって、均一な厚さで
レジストを基板に塗布できる。しかも、レジストコータ
ーのベアリングへのレジストの垂れ込みやレジスト飛沫
の侵入を防止することもできる。
【図１】図１はこの発明のレジストコーターの概略断面
図である。
図である。
【図２】図２はこの発明のレジストコーターのラビリン
ス構造部分の部分概略断面図である。
ス構造部分の部分概略断面図である。
【図３】図３はこの発明のレジストコーターのラビリン
ス構造部分の部分概略断面図である。
ス構造部分の部分概略断面図である。
１ 基板 ２ Ｏリング ３ バキュームチャック用溝 ４ ターンテーブル ５ スピンドル軸 ６、１３、１４ ネジ ７ ロータリージョイント ８ ベルト ９ ボールベアリング １０ スピンドルハウジング １１ ベアリング保持部材 １２ ベースプレート １５ レジストノズル １６ ラビリンス構造 １７ チャンバー １８ プーリー
【手続補正書】
【提出日】平成４年１１月１０日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】 この問題の解決のために、ターンテーブ
ルの温度上昇が基板に伝導しないように、ターンテーブ
ル上にＯリングを突起させて基板がターンテーブルに接
しないようにしながらバキュームチャックすることも行
われているが、Ｏリングの精度が十分でないので基板の
回転時に面揺れを生じ、その結果レジストが均一に塗布
できないという問題がある。
ルの温度上昇が基板に伝導しないように、ターンテーブ
ル上にＯリングを突起させて基板がターンテーブルに接
しないようにしながらバキュームチャックすることも行
われているが、Ｏリングの精度が十分でないので基板の
回転時に面揺れを生じ、その結果レジストが均一に塗布
できないという問題がある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００８】
【課題を解決するための手段】 この発明者は、上記の
目的が、ベアリング保護のための接触型のゴムシールや
シリコンシール、磁性流体シールなどに代り、摩擦熱や
剪断熱等を生じない構造のシール手段としてラビリンス
構造を形成することにより達成できることを見出し、こ
の発明をなすに至った。
目的が、ベアリング保護のための接触型のゴムシールや
シリコンシール、磁性流体シールなどに代り、摩擦熱や
剪断熱等を生じない構造のシール手段としてラビリンス
構造を形成することにより達成できることを見出し、こ
の発明をなすに至った。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】 この発明を特徴づけるラビリンス構造に
関し、ターンテーブルとベアリングとの間に形成され、
更にラビリンス構造の外側と内側とで気体の出入りが実
質的に起こらないようにする限り、即ちターンテーブル
に付着したレジスト液がボールベアリングに垂れ込んだ
り、また基板から振り飛ばされたレジスト飛沫がボール
ベアリングに侵入したりすることがないようにする限
り、どのようにラビリンス構造を形成するかは必要に応
じて適宜決定することができる。例えば、ベアリング保
持部材とスピンドル軸とから形成してもよいし、ベアリ
ング保持部材とターンテーブルとから形成してもよい
し、或いはターンテーブルとスピンドルハウジングとか
ら形成してもよい。
関し、ターンテーブルとベアリングとの間に形成され、
更にラビリンス構造の外側と内側とで気体の出入りが実
質的に起こらないようにする限り、即ちターンテーブル
に付着したレジスト液がボールベアリングに垂れ込んだ
り、また基板から振り飛ばされたレジスト飛沫がボール
ベアリングに侵入したりすることがないようにする限
り、どのようにラビリンス構造を形成するかは必要に応
じて適宜決定することができる。例えば、ベアリング保
持部材とスピンドル軸とから形成してもよいし、ベアリ
ング保持部材とターンテーブルとから形成してもよい
し、或いはターンテーブルとスピンドルハウジングとか
ら形成してもよい。
【手続補正４】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】
【手続補正書】
【提出日】平成５年４月６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の詳細な説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はレジストコーターに関
する。更に詳しくは、この発明はターンテーブルの温度
上昇を極めて小さくして所定の厚さでレジストを基板に
塗布することができるレジストコーターに関する。
する。更に詳しくは、この発明はターンテーブルの温度
上昇を極めて小さくして所定の厚さでレジストを基板に
塗布することができるレジストコーターに関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクや半導体チップ等の製造にお
いては、ガラス基板やシリコンウエハなどにフォトレジ
ストを塗布することが広く行われている。このようなレ
ジストを塗布する場合には、レジストが塗布される基板
を載せて回転するターンテーブル、それに直結している
スピンドル軸、その軸をボールベアリングを介して支持
するためのスピンドルハウジング及びボールベアリング
をスピンドルハウジングに固定するためのベアリング保
持部材からなるレジストコーターが広く使用されてい
る。
いては、ガラス基板やシリコンウエハなどにフォトレジ
ストを塗布することが広く行われている。このようなレ
ジストを塗布する場合には、レジストが塗布される基板
を載せて回転するターンテーブル、それに直結している
スピンドル軸、その軸をボールベアリングを介して支持
するためのスピンドルハウジング及びボールベアリング
をスピンドルハウジングに固定するためのベアリング保
持部材からなるレジストコーターが広く使用されてい
る。
【０００３】このようなレジストコーターにおいては、
ターンテーブルに付着したレジスト液がボールベアリン
グに垂れ込んだり、また基板から振り飛ばされたレジス
ト飛沫がボールベアリングに侵入したりすることにより
ボールベアリングが破損したり、或いはその回転精度を
低下させたりするを防止するために、接触型のゴムシー
ルやテフロンシール、あるいは磁性流体シールが設けら
れている。
ターンテーブルに付着したレジスト液がボールベアリン
グに垂れ込んだり、また基板から振り飛ばされたレジス
ト飛沫がボールベアリングに侵入したりすることにより
ボールベアリングが破損したり、或いはその回転精度を
低下させたりするを防止するために、接触型のゴムシー
ルやテフロンシール、あるいは磁性流体シールが設けら
れている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
基板温度が１℃上昇するとレジスト液の溶媒の蒸発が早
まり、そのため膜厚が約２０オングストロームも増大し
てしまうので、フォトレジストを均一に基板に塗布する
ためにターンテーブルの温度を一定に保つことが望まれ
ている。
基板温度が１℃上昇するとレジスト液の溶媒の蒸発が早
まり、そのため膜厚が約２０オングストロームも増大し
てしまうので、フォトレジストを均一に基板に塗布する
ためにターンテーブルの温度を一定に保つことが望まれ
ている。
【０００５】しかしながら、従来のレジストコーターに
おいては、ターンテーブルの回転精度を向上させるため
にベアリングとターンテーブルとの距離を短くすること
が行われており、その短い距離のあいだに前述の接触型
ゴムシール、テフロンシール、磁性流体シールなどが設
けられているので、接触型シールの摩擦熱や磁性流体シ
ールの剪断熱がターンテーブルに伝導してしまい、その
結果ターンテーブルの温度が数度も上昇してしまうとい
う問題がある。
おいては、ターンテーブルの回転精度を向上させるため
にベアリングとターンテーブルとの距離を短くすること
が行われており、その短い距離のあいだに前述の接触型
ゴムシール、テフロンシール、磁性流体シールなどが設
けられているので、接触型シールの摩擦熱や磁性流体シ
ールの剪断熱がターンテーブルに伝導してしまい、その
結果ターンテーブルの温度が数度も上昇してしまうとい
う問題がある。
【０００６】この問題の解決のために、ターンテーブル
の温度上昇が基板に伝導しないように、ターンテーブル
上にＯリングを突起させて基板がターンテーブルに接し
ないようにしながらバキュームチャックすることも行わ
れているが、Ｏリングの精度が十分でないので基板の回
転時に面揺れを生じ、その結果レジストが均一に塗布で
きないという問題がある。
の温度上昇が基板に伝導しないように、ターンテーブル
上にＯリングを突起させて基板がターンテーブルに接し
ないようにしながらバキュームチャックすることも行わ
れているが、Ｏリングの精度が十分でないので基板の回
転時に面揺れを生じ、その結果レジストが均一に塗布で
きないという問題がある。
【０００７】この発明はこのような従来技術の課題を解
決しようとするものであり、スピンドル用ベアリングを
保護するためのシール部分の摩擦熱や剪断熱によりレジ
ストコーターのターンテーブルの温度上昇を防止して所
定の厚さでレジストを基板に塗布できるようにすること
を目的としている。
決しようとするものであり、スピンドル用ベアリングを
保護するためのシール部分の摩擦熱や剪断熱によりレジ
ストコーターのターンテーブルの温度上昇を防止して所
定の厚さでレジストを基板に塗布できるようにすること
を目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明者は、上記の目
的が、ベアリング保護のための接触型のゴムシールやシ
リコンシール、磁性流体シールなどに代り、摩擦熱や剪
断熱等を生じない構造のシール手段としてラビリンス構
造を形成することにより達成できることを見出し、この
発明をなすに至った。
的が、ベアリング保護のための接触型のゴムシールやシ
リコンシール、磁性流体シールなどに代り、摩擦熱や剪
断熱等を生じない構造のシール手段としてラビリンス構
造を形成することにより達成できることを見出し、この
発明をなすに至った。
【０００９】即ち、この発明は、レジストが塗布される
基板を載せて回転するターンテーブル、該ターンテーブ
ルに直結しているスピンドル軸、該スピンドル軸をベア
リングを介して支持するためのスピンドルハウジング、
及び該ベアリングを該スピンドルハウジングに保持する
ためのベアリング保持部材を含んでなるレジストコータ
ーにおいて、該ベアリングを保護するためのシール手段
としてのラビリンス構造が該ターンテーブルと該ベアリ
ングとの間に形成されていることを特徴とするレジスト
コーターを提供する。
基板を載せて回転するターンテーブル、該ターンテーブ
ルに直結しているスピンドル軸、該スピンドル軸をベア
リングを介して支持するためのスピンドルハウジング、
及び該ベアリングを該スピンドルハウジングに保持する
ためのベアリング保持部材を含んでなるレジストコータ
ーにおいて、該ベアリングを保護するためのシール手段
としてのラビリンス構造が該ターンテーブルと該ベアリ
ングとの間に形成されていることを特徴とするレジスト
コーターを提供する。
【００１０】この発明を特徴づけるラビリンス構造に関
し、ターンテーブルとベアリングとの間に形成され、更
にラビリンス構造の外側と内側とで気体の出入りが実質
的に起こらないようにする限り、即ちターンテーブルに
付着したレジスト液がボールベアリングに垂れ込んだ
り、また基板から振り飛ばされたレジスト飛沫がボール
ベアリングに侵入したりすることがないようにする限
り、どのようにラビリンス構造を形成するかは必要に応
じて適宜決定することができる。例えば、ベアリング保
持部材とスピンドル軸とから形成してもよいし、ベアリ
ング保持部材とターンテーブルとから形成してもよい
し、或いはターンテーブルとスピンドルハウジングとか
ら形成してもよい。
し、ターンテーブルとベアリングとの間に形成され、更
にラビリンス構造の外側と内側とで気体の出入りが実質
的に起こらないようにする限り、即ちターンテーブルに
付着したレジスト液がボールベアリングに垂れ込んだ
り、また基板から振り飛ばされたレジスト飛沫がボール
ベアリングに侵入したりすることがないようにする限
り、どのようにラビリンス構造を形成するかは必要に応
じて適宜決定することができる。例えば、ベアリング保
持部材とスピンドル軸とから形成してもよいし、ベアリ
ング保持部材とターンテーブルとから形成してもよい
し、或いはターンテーブルとスピンドルハウジングとか
ら形成してもよい。
【００１１】
【作用】この発明のレジストコーターは、ベアリングを
保護するために非接触型のシール手段としてラビリンス
構造を有するので、ターンテーブルの回転時においても
従来のようにシール手段に基づく発熱、即ち接触型のゴ
ムシールやテフロンシールなどの摩擦熱や磁性流体の剪
断熱が生じることがない。従って、シール手段が発生さ
せた熱によりターンテーブルの温度が上昇することを防
止することが可能となる。
保護するために非接触型のシール手段としてラビリンス
構造を有するので、ターンテーブルの回転時においても
従来のようにシール手段に基づく発熱、即ち接触型のゴ
ムシールやテフロンシールなどの摩擦熱や磁性流体の剪
断熱が生じることがない。従って、シール手段が発生さ
せた熱によりターンテーブルの温度が上昇することを防
止することが可能となる。
【００１２】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて具
体的に説明する。なお、前述の従来例も含めて各図中、
同一符号は同一または同等の構成要素を表している。
体的に説明する。なお、前述の従来例も含めて各図中、
同一符号は同一または同等の構成要素を表している。
【００１３】図１は、この発明のレジストコーターの好
ましい態様の概略断面図である。
ましい態様の概略断面図である。
【００１４】このレジストコーターは、レジストが塗布
される基板１を載せて回転するターンテーブル４、ター
ンテーブル４に直結しているスピンドル軸５、スピンド
ル軸５をボールベアリング９を介して支持するためのス
ピンドルハウジング１０、及びボールベアリング９をス
ピンドルハウジング１０に保持するためのベアリング保
持部材１１から構成される。
される基板１を載せて回転するターンテーブル４、ター
ンテーブル４に直結しているスピンドル軸５、スピンド
ル軸５をボールベアリング９を介して支持するためのス
ピンドルハウジング１０、及びボールベアリング９をス
ピンドルハウジング１０に保持するためのベアリング保
持部材１１から構成される。
【００１５】ターンテーブル４には、レジストが塗布さ
れる基板１をバキュームチャックして固定するために、
その表面にＯリング２とバキュームチャック用溝３が設
けられている。また、ターンテーブル４はスピンドル５
にネジ６で固定されており、スピンドル軸５の底部には
バキュームライン（図示せず）に連結するためのロータ
ーリージョイント７が設けられている。スピンドル軸５
の駆動は、駆動用モーター（図示せず）の駆動を伝える
ベルト８でプーリー１８を回転させることにより行われ
る。なお、ターンテーブル４の上方には、基板１にレジ
スト液を供給するためのレジストノズル１５が設けられ
ている。
れる基板１をバキュームチャックして固定するために、
その表面にＯリング２とバキュームチャック用溝３が設
けられている。また、ターンテーブル４はスピンドル５
にネジ６で固定されており、スピンドル軸５の底部には
バキュームライン（図示せず）に連結するためのロータ
ーリージョイント７が設けられている。スピンドル軸５
の駆動は、駆動用モーター（図示せず）の駆動を伝える
ベルト８でプーリー１８を回転させることにより行われ
る。なお、ターンテーブル４の上方には、基板１にレジ
スト液を供給するためのレジストノズル１５が設けられ
ている。
【００１６】スピンドル軸５はボールベアリング９を介
してスピンドルハウジング１０により支持されており、
ボールベアリング９はベアリングをターンテーブル４側
から押さえるベアリング保持部材１１でスピンドルハウ
ジング１０に保持されている。ベアリング保持部材１１
は、スピンドルハウジング１０にネジ１３で固定されて
いる。スピンドルハウジング１０は、ベースプレート１
２にネジ１４で固定されており、レジスト飛沫がスピン
ドルハウジング１０に付着しないようにチャンバー１７
に収められている。
してスピンドルハウジング１０により支持されており、
ボールベアリング９はベアリングをターンテーブル４側
から押さえるベアリング保持部材１１でスピンドルハウ
ジング１０に保持されている。ベアリング保持部材１１
は、スピンドルハウジング１０にネジ１３で固定されて
いる。スピンドルハウジング１０は、ベースプレート１
２にネジ１４で固定されており、レジスト飛沫がスピン
ドルハウジング１０に付着しないようにチャンバー１７
に収められている。
【００１７】このレジストコーターを用いてガラス基板
にレジスト例えば紫外線硬化型フォトレジストを塗布す
る場合には、まずターンテーブル４上に基板１を載置し
てバキュームチャックする。
にレジスト例えば紫外線硬化型フォトレジストを塗布す
る場合には、まずターンテーブル４上に基板１を載置し
てバキュームチャックする。
【００１８】ついで基板１の上方に位置するレジストノ
ズル１５からレジスト液を基板１に供給しながらそのレ
ジストノズルを移動させて基板１のほぼ全面にレジスト
液を供給する。
ズル１５からレジスト液を基板１に供給しながらそのレ
ジストノズルを移動させて基板１のほぼ全面にレジスト
液を供給する。
【００１９】次にスピンドル軸５を回転させて、不要な
レジスト液を遠心力で振り切り、乾燥のため回転を数分
間続け、レジストの膜厚が固定した後に回転を止める。
この場合、ターンテーブル４とスピンドル用のベアリン
グ９との間に非接触のシール手段であるラビリンス構造
１６が形成されているので、シール手段の発熱によるタ
ーンテーブルの温度上昇を防止することができる。した
がって、レジスト被膜の膜厚を一定に保つことが可能と
なる。しかも、ラビリンス構造の内側と外側とでは気体
の出入りが実質的にないので、基板１やターンテーブル
４からレジスト液が垂れてベアリング９に入り込んだ
り、或いは基板１が回転することにより生じたレジスト
飛沫がベアリング９に侵入することも防止できる。
レジスト液を遠心力で振り切り、乾燥のため回転を数分
間続け、レジストの膜厚が固定した後に回転を止める。
この場合、ターンテーブル４とスピンドル用のベアリン
グ９との間に非接触のシール手段であるラビリンス構造
１６が形成されているので、シール手段の発熱によるタ
ーンテーブルの温度上昇を防止することができる。した
がって、レジスト被膜の膜厚を一定に保つことが可能と
なる。しかも、ラビリンス構造の内側と外側とでは気体
の出入りが実質的にないので、基板１やターンテーブル
４からレジスト液が垂れてベアリング９に入り込んだ
り、或いは基板１が回転することにより生じたレジスト
飛沫がベアリング９に侵入することも防止できる。
【００２０】図１に示したレジストコーターにおいて
は、ターンテーブル４とベアリング保持部材１１とから
ラビリンス構造１６を形成しているが、これに限らず、
例えば図２に示すように、ベアリング保持部材１１とス
ピンドル軸５とからラビリンス構造１６を形成してもよ
いし、或いは図３に示すように、ターンテーブル４とス
ピンドルハウジング１０とからラビリンス構造１６を形
成してもよい。
は、ターンテーブル４とベアリング保持部材１１とから
ラビリンス構造１６を形成しているが、これに限らず、
例えば図２に示すように、ベアリング保持部材１１とス
ピンドル軸５とからラビリンス構造１６を形成してもよ
いし、或いは図３に示すように、ターンテーブル４とス
ピンドルハウジング１０とからラビリンス構造１６を形
成してもよい。
【００２１】このように、この発明においては、レジス
トコーターどの部分の部材でラビリンス構造を形成する
か、またその凹凸の数、深さや間隙の幅等は必要に応じ
て適宜決定することができるが、一般には空気の出入り
が実質的の起こらない程度のラビリンス構造とすること
が好ましい。このようなラビリンス構造における凹凸の
重なりの程度は３〜１５ｍｍ、好ましくは５〜１０ｍｍ
であり、間隙の幅は０．０３〜０．０５ｍｍ程度とする
ことが好ましい。
トコーターどの部分の部材でラビリンス構造を形成する
か、またその凹凸の数、深さや間隙の幅等は必要に応じ
て適宜決定することができるが、一般には空気の出入り
が実質的の起こらない程度のラビリンス構造とすること
が好ましい。このようなラビリンス構造における凹凸の
重なりの程度は３〜１５ｍｍ、好ましくは５〜１０ｍｍ
であり、間隙の幅は０．０３〜０．０５ｍｍ程度とする
ことが好ましい。
【００２２】なお、ターンテーブル４やベアリング保持
部材１１等を熱伝導率の低いセラミックなどの材料で形
成することにより、ターンテーブル４の温度上昇を更に
低減することができる。
部材１１等を熱伝導率の低いセラミックなどの材料で形
成することにより、ターンテーブル４の温度上昇を更に
低減することができる。
【００２３】
【発明の効果】この発明のレジストコーターによれば、
スピンドル用ベアリングを保護するためのシール部分の
摩擦熱や剪断熱によりレジストコーターのターンテーブ
ルの温度上昇を防止できる。したがって、均一な厚さで
レジストを基板に塗布できる。しかも、レジストコータ
ーのベアリングへのレジストの垂れ込みやレジスト飛沫
の侵入を防止することもできる。
スピンドル用ベアリングを保護するためのシール部分の
摩擦熱や剪断熱によりレジストコーターのターンテーブ
ルの温度上昇を防止できる。したがって、均一な厚さで
レジストを基板に塗布できる。しかも、レジストコータ
ーのベアリングへのレジストの垂れ込みやレジスト飛沫
の侵入を防止することもできる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/16 ５０２ Ｇ１１Ｂ 7/26 7215−5Ｄ
Claims (4)
- 【請求項１】 レジストが塗布される基板を載せて回転
するターンテーブル、該ターンテーブルに直結している
スピンドル軸、該スピンドル軸をベアリングを介して支
持するためのスピンドルハウジング、及び該ベアリング
を該スピンドルハウジングに保持するためのベアリング
保持部材を含んでなるレジストコーターにおいて、該ベ
アリングを保護するためのシール手段としてのラビリン
ス構造が該ターンテーブルと該ベアリングとの間に形成
されていることを特徴とするレジストコーター。 - 【請求項２】 該ラビリンス構造が該ベアリング保持部
材と該ターンテーブルとから形成されている請求項１記
載のレジストコーター。 - 【請求項３】 該ラビリンス構造が該ベアリング保持部
材と該スピンドル軸とから形成されている請求項１記載
のレジストコーター。 - 【請求項４】 該ラビリンス構造が該ターンテーブルと
該スピンドルハウジングとから形成されている請求項１
記載のレジストコーター。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3341966A JPH05217880A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | レジストコーター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3341966A JPH05217880A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | レジストコーター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05217880A true JPH05217880A (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=18350145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3341966A Pending JPH05217880A (ja) | 1991-11-29 | 1991-11-29 | レジストコーター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05217880A (ja) |
-
1991
- 1991-11-29 JP JP3341966A patent/JPH05217880A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US3853091A (en) | Thin film coating apparatus | |
| US6332723B1 (en) | Substrate processing apparatus and method | |
| JPH0590238A (ja) | 回転式基板処理装置の基板回転保持具 | |
| US4385083A (en) | Apparatus and method for forming a thin film of coating material on a substrate having a vacuum applied to the edge thereof | |
| JP2006508787A (ja) | 層の厚さを制御するための方法および装置 | |
| JP2003092343A (ja) | 基板保持機構、ならびにそれを用いた基板処理装置および基板処理方法 | |
| JPH0992615A (ja) | 半導体ウェハの冷却装置 | |
| JP2000208591A (ja) | 回転式基板処理装置 | |
| JPH05217880A (ja) | レジストコーター | |
| JP2690862B2 (ja) | 真空チャック装置からのワークの取り外し方法及びワークの取り外し装置 | |
| JP4570001B2 (ja) | 液供給装置 | |
| JP2802636B2 (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
| JP2975140B2 (ja) | 回転処理装置 | |
| JPH06244167A (ja) | ウェハーエッジの加工方法とその装置 | |
| JP2883467B2 (ja) | 回転処理装置 | |
| JP2940620B2 (ja) | 液処理装置 | |
| JPS6245378A (ja) | 塗布装置 | |
| JP2892533B2 (ja) | 塗布方法および塗布装置 | |
| KR100615083B1 (ko) | 스핀 코터 및 이를 이용한 웨이퍼 에지 포토레지스트 제거방법 | |
| JPH04200771A (ja) | 回転処理装置 | |
| JP2906001B2 (ja) | 処理装置 | |
| JP2840182B2 (ja) | 基板への回転式塗布方法並びに基板への回転式塗布装置 | |
| JPH1041209A (ja) | 基板現像方法及びその装置 | |
| JPH05259063A (ja) | 半導体基板のスピンコーティング方法 | |
| JPS60100434A (ja) | 半導体基板の絶縁被膜処理装置 |