JPH05214600A - 電解研磨方法及びその装置 - Google Patents

電解研磨方法及びその装置

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JPH05214600A
JPH05214600A JP4018901A JP1890192A JPH05214600A JP H05214600 A JPH05214600 A JP H05214600A JP 4018901 A JP4018901 A JP 4018901A JP 1890192 A JP1890192 A JP 1890192A JP H05214600 A JPH05214600 A JP H05214600A
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polishing
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Katsuji Tsutsumi
勝次 堤
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 被研磨物の異物やバリを簡単な装置構成で効
率的に除去して研磨する。 【構成】 上面が開放された容器１内に電解液２２とメ
ディア２３と被研磨物２４を収容し、容器１を揺動駆動
モータ１６にて揺動させるとともに振動モータ５にて振
動させながら容器１内に上方から挿入した電極リード線
２０にて電解液２２に直流電圧を印加することにより、
被研磨物２４のバリなどは電解作用にて効率的に除去
し、かつ容器１の揺動と振動によってメディア２３を被
研磨物２４表面に効率的にかつ均一に接触させて効率的
にかつ均一に研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被研磨物の異物やバリ
を効率的に除去して研磨する電解研磨方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】従来のバレル電解研磨方法としては、特
開昭５２−１３９６３０号公報や特開昭６１−６４９０
０号公報に開示されたものが知られている。
【０００３】特開昭５２−１３９６３０号公報のバレル
研磨方法は、電解液を収容した電解槽内に被研磨物を収
容した多孔回転ドラムを配置し、この多孔回転ドラムの
中央部に円筒電極を設け、回転ドラムの胴部を陽極に、
円筒電極を陰極に接続して被研磨物表面の異物を電解研
磨によって除去する方法である。
【０００４】また、特開昭６１−６４９００号公報のバ
レル電解研磨方法も、電解液を収容した電解槽内に被研
磨物を収容した多孔回転ドラムを配置し、この回転ドラ
ム内に陽極電極を入れて被研磨物に接触させ、電解槽を
陰極にして直流電圧を印加することによって異物を取り
除く方法である。この方法により、回転バレル研磨にお
ける共ずりによる磨滅や研磨メディア微粉の付着を無く
してバリや異物の付着のない被研磨物を得ている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記いずれ
の電解研磨方法においても、研磨効率を高めるために多
孔回転ドラムを用いているため、さらに回転部分を通し
て給電する必要があるために装置構成が複雑になるとい
う問題があり、また構成が複雑であるため電解液による
腐食に対する対策が極めて困難である等の問題があっ
た。
【０００６】本発明は、上記従来の問題点に鑑み、被研
磨物の異物やバリを簡単な装置構成で効率的に除去して
研磨できる電解研磨方法及びその装置を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の電解研磨方法
は、上面が開放された容器内に電解液とメディアと被研
磨物を収容し、容器を揺動させるとともに容器を振動さ
せながら電解液に直流電圧を印加することを特徴とす
る。
【０００８】好適には、容器を、揺動端を除くほぼ全揺
動行程でほぼ等速で揺動させる。
【０００９】又、本発明の電解研磨装置は、上面が開放
された容器と、容器を振動させる振動手段と、容器を揺
動させる揺動手段と、容器の上面開口から容器内に挿入
された電極リード線とを備えたことを特徴とする。
【００１０】
【作用】本発明の電解研磨方法及びその装置によれば、
上面を開放された容器を用いているので装置構成、特に
電解液を収容する容器構成や給電構成が極めて簡単にな
り、電解液による腐食対策も簡単になる。しかも、その
容器を揺動させるとともに振動させながら電解研磨を行
うので、被研磨物の表面から鋭く突出しているバリなど
は電荷が集中するため電解作用にて効率的に除去でき、
かつ容器の揺動と振動によってメディアが被研磨物表面
に効率的にかつ均一に接触するため上記電解作用が促進
されるとともに、被研磨物表面の異物等も効率的にかつ
均一に除去でき、さらに被研磨物の形状に凹部等があっ
ても研磨することができる。尚、特開昭５３−７３４３
３号公報には、技術分野の異なる電解メッキの技術手段
として、メッキ槽の中に回転バレルを配置したメッキ法
において電解液中に超音波振動子を配置して振動を付与
することにより導通頻度を高めたものが開示されている
が、このような方法では単一の容器を用いる本発明には
適用できないだけでなく、電解液の振動がメディアに吸
収されるため効果を発揮しない。これに対しては、本発
明では容器を全体的に振動させているため電解液、メデ
ィア及び被研磨物に対して確実に振動を付与することが
できる。
【００１１】又、メディアには電解研磨作用に重点をお
いて導電性を付与したものを用いても、揺動バレルの研
磨作用に重点をおいて研磨材を有するものや艶出し用の
セラミック製のものを用いてもよい。
【００１２】更に、容器をほぼ等速で揺動させると、被
研磨物およびメディアが８の字状に流動して効果的に攪
拌でき、研磨効率を向上できる。
【００１３】
【実施例】以下本発明の一実施例の電解研磨装置につい
て図１〜図３を参照しながら説明する。
【００１４】図１において、１は電解槽兼研磨バレルと
して機能する上面開放の容器で、図３に示すように、軸
芯方向両端の多角形状の端板２と、これら端板２の各辺
に対応する幅を有しそれぞれの両端が端板２に結合され
た複数枚の側面板３と、側面板３、３間の継ぎ目をシー
ルする補強兼シール板４をボルト締結した組立式容器に
て構成されている。この容器１の底部には適当な補強部
材付き取付ブラケット６を介して振動モータ５が取付け
られ、容器１全体を振動させるように構成されている。
容器１の端板２の上部に支持ブラケット７が取付けら
れ、防振弾性体８を介して揺動支持枠９上に支持されて
いる。揺動支持枠９はその両側の揺動軸１０がフレーム
１１に軸受１２ａ、１２ｂ、１２ｃを介して揺動自在に
支持されている。一方の揺動軸１０の一端に取付けられ
た歯付きプーリ１３ａと減速機１５の出力軸に取付けら
れた歯付きプーリ１３ｂとが歯付きベルト１４にて連結
されている。又、この減速機１５は高始動・高加速トル
ク特性を持つ高抵抗かご形モータから成る揺動駆動モー
タ１６に歯付きプーリ１７ａ、１７ｂと歯付きベルト１
８を介して連結されている。さらに、この揺動駆動モー
タ１６は大きな制動力が得られる直流発電制動機能を備
えており、起動・逆転・停止を頻繁に行なって容器１を
揺動させることができる。１９は洗浄槽１の揺動角を検
出するセンサである。２０はフレーム１１の上部から容
器１内に挿入された電極リード線、２１はそのコンタク
トである。又、容器１内には電解液２２と研磨用のメデ
ィア２３と被研磨物２４が収容されている。本実施例の
メディア２３は、導電性を持たせて電解作用を促進する
とともに研磨作用が得られるように、導電性ゴムに研磨
材を充填したものを用いている。艶出しに重点を置く場
合にはセラミック製のものを用いるとよい。このように
メディア２３としては重点とする機能に応じて適当な組
成のものを適宜選択して用いればよい。
【００１５】次に、以上の構成による電解研磨動作を説
明する。容器１内に電解液２２とメディア２３と被研磨
物２４を収容し、振動モータ５にて容器１の全体を振動
させるとともに揺動駆動モータ１６を正逆反転駆動して
容器１を揺動させ、電極リード線２０、２０間、又は電
極リード線２０と容器１との間に直流電圧を印加する
と、被研磨物２４の表面から鋭く突出しているバリなど
は電荷が集中するため電解作用にて効率的に除去され
る。又、容器１の全体が振動しながら揺動しているの
で、メディア２３が振動しながら大きく流動して攪拌さ
れ、被研磨物２４の表面に効率的にかつ均一に接触する
ため、メディア２３に導電性を持たせた場合には補助電
極として作用するため上記電解作用が促進されるととも
に、メディア２３の研磨作用によって被研磨物２４の表
面のスケール等の異物も効率的にかつ均一に除去され
る。さらに、メディア２３の上記のような挙動により被
研磨物２４が凹部を有するような形状であっても、その
凹部内も均一に研磨することができる。更に、揺動駆動
モータ５の高始動・高加速トルク特性を生かして容器１
をほぼ等速で揺動させると、被研磨物２４およびメディ
ア２３を８の字状に流動させて効果的に攪拌することが
できるため、研磨効率を一層向上できる。
【００１６】又、容器１は上面を開放され、この容器１
内に電解液２２、メディア２３及び被研磨物２４を収容
しているので、電解槽内に多孔回転ドラムを配設するも
の比して、装置構成、特に電解液を収容する容器構成や
給電構成が極めて簡単になり、電解液による腐食対策も
簡単になる。
【００１７】
【発明の効果】本発明の電解研磨方法及び装置によれ
ば、上面を開放された容器を用いているので装置構成、
特に電解液を収容する容器構成や給電構成が極めて簡単
になり、電解液による腐食対策も簡単になり、しかもそ
の容器を揺動させるとともに振動させながら電解研磨を
行うので、被研磨物の表面から鋭く突出しているバリな
どは電解作用にて効率的に除去でき、かつ容器の揺動と
振動によってメディアが被研磨物表面に効率的にかつ均
一に接触するため上記電解作用が促進されるとともに被
研磨物表面の異物等も効率的にかつ均一に除去でき、ま
た被研磨物の形状に凹部等があっても研磨することがで
き、更に容器をほぼ等速で揺動させると、被研磨物およ
びメディアが８の字状に流動して効果的に攪拌でき、研
磨効率を一層向上できる等、大なる効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例の電解研磨装置の概略構成を
示す部分断面正面図である。
【図２】図１の側面図である。
【図３】同実施例の容器の側面図である。
【符号の説明】
１ 容器 ５ 振動モータ １６ 揺動駆動モータ ２０ 電極リード線 ２２ 電解液 ２３ メディア ２４ 被研磨物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２５Ｆ 7/00 Ｍ 8414−4Ｋ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 上面が開放された容器内に電解液とメデ
    ィアと被研磨物を収容し、容器を揺動させるとともに容
    器を振動させながら電解液に直流電圧を印加することを
    特徴とする電解研磨方法。
  2. 【請求項２】 容器を、揺動端を除くほぼ全揺動行程で
    ほぼ等速で揺動させることを特徴とする請求項１記載の
    電解研磨方法。
  3. 【請求項３】 上面が開放された容器と、容器を振動さ
    せる振動手段と、容器を揺動させる揺動手段と、容器の
    上面開口から容器内に挿入された電極リード線とを備え
    たことを特徴とする電解研磨装置。
JP4018901A 1992-02-04 1992-02-04 電解研磨方法及びその装置 Pending JPH05214600A (ja)

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CA002100227A CA2100227A1 (en) 1992-02-04 1993-07-09 Method and apparatus for surface polishing
GB9314269A GB2279894B (en) 1992-02-04 1993-07-09 Method and apparatus for surface polishing
DE4325472A DE4325472A1 (de) 1992-02-04 1993-07-29 Verfahren und Vorrichtung zum Oberflächenpolieren
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US08/084,819 US5580300A (en) 1992-02-04 1993-06-30 Method and apparatus for surface polishing
CA002100227A CA2100227A1 (en) 1992-02-04 1993-07-09 Method and apparatus for surface polishing
GB9314269A GB2279894B (en) 1992-02-04 1993-07-09 Method and apparatus for surface polishing
DE4325472A DE4325472A1 (de) 1992-02-04 1993-07-29 Verfahren und Vorrichtung zum Oberflächenpolieren
FR9309354A FR2708502B1 (fr) 1992-02-04 1993-07-29 Procédé et appareil de polissage de surface.

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010100920A (ja) * 2008-10-27 2010-05-06 Tdk Corp ダミーメディアのリサイクル方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4445333A1 (de) * 1994-12-19 1996-06-20 Moeller Feinmechanik Gmbh & Co Glättverfahren
US5730645A (en) * 1995-11-24 1998-03-24 Park; Joon Hard coated abrasive medium with selected density
IT238331Y1 (it) * 1997-05-30 2000-10-16 Hyppocampus Srl Macchina per trattamenti di asciugatura,lucidatura e rigenerazione diposate ed oggetti metallici da tavola
US7328712B1 (en) 2000-02-15 2008-02-12 Quantum Global Technologies Cleaning bench for removing contaminants from semiconductor process equipment
US6530388B1 (en) 2000-02-15 2003-03-11 Quantum Global Technologies, Llc Volume efficient cleaning systems
US6926016B1 (en) * 2001-02-15 2005-08-09 Quantum Global Technologies, Llc System for removing contaminants from semiconductor process equipment
DE10065840C1 (de) * 2000-12-29 2002-05-02 Gerhard Bauer Verfahren und Vorrichtung zum Trocknen und/oder Polieren von Gegenständen
DE102010052778B4 (de) * 2010-11-30 2013-01-17 Otec Präzisionsfinish GmbH Verfahren zum elektrochemischen Polieren von metallenen Gegenständen und hierfür geeignete Elektrolytlösung
DE102017122040A1 (de) * 2017-09-22 2019-03-28 Eoswiss Engineering Sàrl Verfahren zum elektrochemischen Polieren von Werkstücken
CN111926317B (zh) * 2020-08-19 2022-05-13 龙泉市陈栋剑铺 一种刀剑酸渗呈色工艺及其加工设备
US20230390864A1 (en) 2020-10-28 2023-12-07 Nikon Corporation Optical processing apparatus
CN112588705A (zh) * 2020-12-18 2021-04-02 如东联亿机电有限公司 一种清洗机清洗孔位定位装置及其定位方法
DE102021110026B4 (de) 2021-04-21 2022-12-22 Oka-Tech Gmbh Vorrichtung zum Behandeln von Gegenständen mit einer Behandlungsflüssigkeit
CN115121533A (zh) * 2022-07-29 2022-09-30 重庆恒伟林汽车零部件有限公司 一种汽车底盘铝制零部件清洗装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US929804A (en) * 1908-05-29 1909-08-03 Thomas Thompson Egg-washer.
FR1036749A (fr) * 1950-09-14 1953-09-10 Appareil oscillant en forme de berceau, pour laver ou mélanger des objets
DE924341C (de) * 1953-04-28 1955-10-20 Amag Hilpert Pegnitzhuette A G Verfahren zum Putzen von Werkstuecken
DE1220095B (de) * 1960-09-02 1966-06-30 Wilhelm Lepper Dr Ing Geschirrspuelmaschine
FR1327624A (fr) * 1962-07-03 1963-05-17 Procédé et machine pour laver la vaisselle
DE1628484A1 (de) * 1965-08-21 1970-08-13 Franco Becagli Geschirrspuelmaschine
CH463307A (de) * 1966-11-26 1968-09-30 Tipton Mfg Co Verfahren zum Feinbearbeiten von Oberflächen
US3607478A (en) * 1967-12-14 1971-09-21 Bosch Gmbh Robert Method of treating semiconductor elements of circular outline
DE2748615C2 (de) * 1977-10-29 1987-01-08 Richard 5202 Hennef Steimel Verfahren zum Entölen, Rommeln, Waschen und Trocknen insbesondere von Gegenständen mit Sacklöchern und Zentrifuge zur Durchführung des Verfahrens
JPS55150986A (en) * 1979-05-11 1980-11-25 Fujitsu Ltd Method of controlling operation of robot
US4499692A (en) * 1982-06-16 1985-02-19 Roto-Finish Company, Inc. Dual motion vibratory finishing machine and method
JPS6142575A (ja) * 1984-08-03 1986-03-01 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 不飽和ポリエステル樹脂塗料の製造方法
US4709507A (en) * 1985-09-19 1987-12-01 General Kinematics Corporation Tumbling apparatus
GB2195236A (en) * 1986-08-18 1988-04-07 Lu Fei Wu Dishwasher
JPH03202037A (ja) * 1989-12-29 1991-09-03 Nec Home Electron Ltd 自動食器洗い器
US5237778A (en) * 1990-09-24 1993-08-24 Baer William F Counter-flow buffer and cleaner
JP2745892B2 (ja) * 1991-09-13 1998-04-28 株式会社村田製作所 小型パーツのメッキ方法
JPH0678873A (ja) * 1992-09-07 1994-03-22 Tsutsumi Seisakusho:Kk 洗浄方法及び洗浄装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010100920A (ja) * 2008-10-27 2010-05-06 Tdk Corp ダミーメディアのリサイクル方法

Also Published As

Publication number Publication date
GB2279894B (en) 1996-12-18
CA2100227A1 (en) 1995-01-10
DE4325472A1 (de) 1995-02-02
GB9314269D0 (en) 1993-08-18
GB2279894A (en) 1995-01-18
FR2708502B1 (fr) 1996-07-05
FR2708502A1 (fr) 1995-02-10
US5580300A (en) 1996-12-03

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