JPH05213684A - 窒化アルミニュウムのエッチング加工方法 - Google Patents

窒化アルミニュウムのエッチング加工方法

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JPH05213684A
JPH05213684A JP23266791A JP23266791A JPH05213684A JP H05213684 A JPH05213684 A JP H05213684A JP 23266791 A JP23266791 A JP 23266791A JP 23266791 A JP23266791 A JP 23266791A JP H05213684 A JPH05213684 A JP H05213684A
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JP
Japan
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aluminum nitride
etching
laser
workpiece
present
Prior art date
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Withdrawn
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JP23266791A
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English (en)
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Hiroyuki Sasaki
浩幸 佐々木
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Fujitsu Ltd
Fujitsu Integrated Microtechnology Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Fujitsu Integrated Microtechnology Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd, Fujitsu Integrated Microtechnology Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/0036Laser treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/53After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 窒化アルミニュウムからなるセラミックスの
エッチング加工方法に関し,化学的エッチングにより任
意形状を精密に加工することを目的とする。 【構成】 窒化アルミニュウムからなる被加工物1の表
面にレーザ光2を照射して該照射部を変質領域3とする
工程と,変質領域3を化学的エッチングにより選択的に
除去する工程とを有することを特徴として構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は窒化アルミニュウムから
なるセラミックス材料のエッチング加工方法に関する。
【0002】窒化アルミニュウムは高融点,高硬度の耐
蝕性,電気絶縁性に優れた材料として機械部品,電子機
器等に多量に使用されている。かかる部品等に使用され
るセラミックスは,部品等の小型,高性能化に伴い,よ
り精密な形状が要求されている。
【0003】しかし,セラミックス材料を焼成によって
成形するのでは,要求される高度の形状精度を満たすこ
とは困難である。また,精度のよい機械加工は,セラミ
ックスが耐硬度かつ難切削性であるため難しい。
【0004】このため,窒化アルミニュウムを任意の形
状に容易かつ精密に加工する方法が必要とされている。
【0005】
【従来の技術】従来,高硬度かつ高融点の窒化アルミニ
ュウムの加工は,機械加工が難しいため,照射したレー
ザ光の吸収を利用して照射部分を昇温し,蒸発,除去す
るレーザ加工により行われている。
【0006】しかし,レーザ加工は昇温による蒸発を利
用することから,加工できるのは単純な形状の加工に限
られ,複雑または微細な形状を精密に加工することは難
しいく,また,深い加工をすることができない。
【0007】さらに,化学的加工方法についても,窒化
アルミニュウムは耐腐食性が著しく良好なため,通常の
化学的エッチングによっては加工することができない。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上述の様に,従来のレ
ーザ加工方法は,昇温の制御の難しさから複雑又は微細
な形状を加工することができないという問題があった。
【0009】さらに,通常の化学的エッチングは窒化ア
ルミニュウム材料には適用できないという問題がある。
本発明は,レーザ光を照射して窒化アルミニュウムを化
学的にエッチングされる物質に変換することにより,化
学的エッチングを用いて任意の形状を精密に加工できる
窒化アルミニュウムのエッチング加工方法を提供するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の第一実施
例工程図であり,溝加工をされる被加工物の断面を表し
ている。
【0011】上記課題を解決するために,図1を参照し
て,本発明の構成は,窒化アルミニュウムからなる被加
工物1の表面にレーザ光2を照射して該照射部を変質領
域3とする工程と,該変質領域3を化学的エッチングに
より選択的に除去する工程とを有することを特徴として
構成する。
【0012】
【作用】本発明の構成では,図1を参照して,窒化アル
ミニュウムからなる被加工物1にレーザ光2を照射して
変質領域3とした後,化学的エッチングをして変質領域
3を除去する。
【0013】本発明の発明者は,窒化アルミニュウムに
レーザ光2を照射したとき生成する変質領域3が,アル
ミニュウムのエッチングに通常用いられるエッチャン
ト,例えば硝酸,酢酸及び燐酸の混合液に溶解すること
を実験により明らかにしたのである。
【0014】従って,窒化アルミニュウムの化学的エッ
チングがレーザ光照射により可能となるのである。さら
に,レーザ光は選択的に照射できるから,エッチングも
また選択的になされ,その結果レーザ光の走査線に沿っ
て任意の形状のエッチング加工をすることができるので
ある。
【0015】本発明の発明者は,レーザ照射により生ず
る変質領域3は,電気の良導体であり黒色をなすことか
ら,窒化アルミニュウムがレーザ光2の照射を受けて化
学反応を起こし,アルミニュウムに富む物質に変換され
たものと考えている。
【0016】即ち,本発明におけるレーザ照射の効果
は,温度上昇を利用するものではなく,主に化学反応を
促進する点にある。従って,従来のレーザ加工で必要と
された昇温の制御は本発明では不要であり,このため複
雑,微細な加工が精密になされるのである。
【0017】
【実施例】本発明を実施例に沿って説明する。本発明の
第一実施例は被加工物の表面に溝加工を施すものであ
る。
【0018】先ず,図1(a)を参照して,窒化アルミ
ニュウムの板である被加工物1をXYテーブル上に載置
し,その上からレーザ光2を照射し,1cm/秒の速さ
で走査する。
【0019】レーザは,例えばQスイッチ方式の出力2
W,繰り返し周波数15kHzのYAGレーザを用いる
ことができる。このレーザ光照射により,図1(b)を
参照して,照射部分に窒化アルミニュウムが変質した変
質領域3が溝状に生ずる。
【0020】かかる変質領域は,本例の条件下では深さ
50μm,幅20μmであった。次いで,図1(c)を
参照して,アルミニュウムのエッチャント4,例えば硝
酸,酢酸及び燐酸の混合液を被加工物の表面にシャワー
状に注ぎ,変質領域3をエッチングして除去し,溝5を
形成する。
【0021】なお,エッチャントに浸漬しても良いのは
当然であるが,シャワーとすることで,続けて同一被加
工物を加工する場合に,XYテーブルに再度被加工物を
載置する工程を省略できるから精密な加工を連続して行
うことができる。
【0022】次いで,図1(d)を参照して,溝5の上
から再びレーザ光2を照射し,図1(e)を参照して,
溝5の底に変質領域3を形成する。次いで,図1(f)
を参照して,エッチャント4を被加工物1に注ぎ変質領
域3を除去して深い溝5を形成する。
【0023】この工程により,幅20μm,深さ100
μmの溝が窒化アルミニュウム板の表面に形成される。
さらに上記工程を繰り返して,溝を深く加工することに
より窒化アルミニュウム板を任意形状に切断することも
できるのは当然である。
【0024】図2は本発明の第二実施例断面図であり,
加工装置の構成の主要部を示している。第二実施例で
は,被加工物1は,XYテーブル上に置かれた容器5の
底に載置される。
【0025】容器5には,エッチャント4が被加工物1
を覆うまで入れられ,さらに下面がエッチャント4に浸
り,上面が空中に露呈するように設置された石英板10
がエッチャント4の表面に水平に設けられる。
【0026】レーザ光2は,レーザ6を光源として被加
工物1の直上に設けられたミラー7で反射され,レンズ
8で集光され石英板10を透過して被加工物1の表面に
照射する。
【0027】ここで,石英板10は,エッチャント4の
液面に生ずる波によるレーザ光の偏向を防ぐ。本実施例
では,レーザ光の照射と同時にエッチングが進行するか
ら,連続して加工を進めることができる。
【0028】なお,ミラー7,レンズ8は本発明の必須
の要件ではないが,加工装置の取扱を容易にし,また加
工を精密にするものである。
【0029】
【発明の効果】本発明によれば,レーザ光を照射して窒
化アルミニュウムを化学的にエッチングできる物質に変
換することができるから,化学的エッチングを用いて任
意の形状を精密に加工できる窒化アルミニュウムのエッ
チング加工方法を提供でき,機械部品,電子機器の性能
向上に寄与するところが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第一実施例工程図
【図2】 本発明の第二実施例断面図
【符号の説明】
1 被加工物 2 レーザ光 3 変質領域 4 エッチャント 5 溝 6 レーザ 7 ミラー 8 レンズ 9 XYテーブル 10 石英板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 窒化アルミニュウムからなる被加工物
    (1)の表面にレーザ光(2)を照射して該照射部を変
    質領域(3)とする工程と,該変質領域(3)を化学的
    エッチングにより選択的に除去する工程とを有すること
    を特徴とする窒化アルミニュウムのエッチング加工方
    法。
JP23266791A 1991-09-12 1991-09-12 窒化アルミニュウムのエッチング加工方法 Withdrawn JPH05213684A (ja)

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JPH05213684A true JPH05213684A (ja) 1993-08-24

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JP23266791A Withdrawn JPH05213684A (ja) 1991-09-12 1991-09-12 窒化アルミニュウムのエッチング加工方法

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015185606A (ja) * 2014-03-20 2015-10-22 三菱マテリアル株式会社 パワーモジュール用基板の製造方法

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Effective date: 19981203