JPH0521336A - ウエハの縁取り露光装置 - Google Patents

ウエハの縁取り露光装置

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JPH0521336A
JPH0521336A JP3201230A JP20123091A JPH0521336A JP H0521336 A JPH0521336 A JP H0521336A JP 3201230 A JP3201230 A JP 3201230A JP 20123091 A JP20123091 A JP 20123091A JP H0521336 A JPH0521336 A JP H0521336A
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wafer
resist
edge
exposure
spin chuck
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JP3201230A
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Katsuo Oshima
勝雄 大島
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Oki Electric Industry Co Ltd
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Oki Electric Industry Co Ltd
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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、露光強度を大きくしてもレジスト
が発泡することなく、かつ照射時間を短縮してスループ
ットを高め、パターンの寸法精度に影響を与えることな
く、ウエハに塗布したレジストの縁部の露光を可能にす
る。 【構成】 駆動部11に接続したスピンチャック12
と、スピンチャック12に載置されるウエハ51のレジ
ストの縁部側を露光する露光器13とよりなるウエハの
縁取り露光装置1に、ウエハ51のレジストの縁部側を
加熱する加熱器14を設けたものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハに塗布したレジ
ストの縁部側を露光するウエハの縁取り露光装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ウエハに塗布したレジストの縁部は、レ
ジスト欠けによる塵埃の発生を防止するために除去され
る。除去するには、まずパターンの露光を行う前または
露光後に、ウエハのレジスト塗布面の縁部側を露光す
る。その後パターンの現像時に露光した部分のレジスト
を除去する。
【0003】上記のようなウエハに塗布したレジストの
縁部側を露光する装置を図3により説明する。図に示す
如く、駆動部31にはスピンチャック32が接続されて
いる。このスピンチャック32に載置されるウエハ51
の縁部上方の一部には、ウエハ51の上面に塗布したレ
ジスト52の縁部側を露光する露光器33が設けられて
いる。この露光器33は、例えば、紫外線発生器34と
光伝送部35(例えば紫外線用の光ファイバケーブル)
と照射ヘッド36とにより構成されている。また上記照
射ヘッド36には移動機構37が設けられている。この
移動機構37によって、当該照射ヘッド36はウエハ5
1のオリエンテーションフラットOF(以下オリフラと
略記する)上方を移動する。
【0004】次に、上記ウエハの縁取り露光装置30で
ウエハ51に塗布したレジスト52の縁部側を露光する
方法の一例を図4により説明する。まずレジスト52を
塗布したウエハ51をスピンチャック32(図3参照)
に載置する。続いてスピンチャック32を例えば矢印イ
方向に回動するとともに露光器33(図3参照)によっ
てウエハ51の円弧側のレジスト部分52a(実線の斜
線で示す部分)を露光する。このとき照射ヘッド36の
下方にオリフラOF部分が来た場合には、ウエハ51を
回動させた状態で、移動機構37によって照射ヘッド3
6をウエハ51の半径方向に移動して、当該照射ヘッド
36をオリフラOFの上方に位置させる。このように照
射ヘッド36を移動させながら、ウエハ51のオリフラ
OFに沿って、レジスト52b(破線の斜線で示す部
分)に紫外線を照射する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記説
明したウエハの縁取り露光装置では、露光時間を短縮し
てスループットを高めようとすると、露光強度を強くし
なければならない。露光強度を強くするとレジストが発
泡するので、ウエハ表面のパーティクル数が増大する。
発泡を抑えるために露光強度を弱くして長時間露光を行
った場合には、スループットが非常に遅くなる。スルー
プットを遅くすることなくレジストの発泡を抑える方法
として、スピンチャックのウエハ載置面を加熱する方法
がある。この方法では、スピンチャックの内部にヒータ
を取りつけて、スピンチャックとともにウエハを加熱す
る。ところがスピンチャックのウエハ載置面を均一に加
熱することが困難なために、ウエハ上のレジストに加熱
むらが生じる。この結果、上記の如くに加熱したレジス
トで微細パターンを形成した場合には、微細パターンの
寸法ばらつきが大きくなる。
【0006】本発明は、パターンの寸法精度に影響を与
えることなく、ウエハに塗布したレジストの縁部側を露
光するウエハの縁取り露光装置を提供することを目的と
する。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたウエハの縁取り露光装置である。
すなわち、駆動部に接続したスピンチャックと、スピン
チャックに載置されるウエハのレジストの縁部側を露光
する露光器とよりなるウエハの縁部露光装置に、露光器
に対してウエハの回動方向とは反対側にウエハのレジス
トの縁部側を加熱する加熱器を設けたものである。
【0008】
【作用】上記構成のウエハの縁取り露光装置では、露光
器に対してウエハの回動方向とは反対側にレジストの縁
部側を加熱する加熱器を設けたことにより、レジストの
縁部側は、加熱した状態で露光される。このときパター
ンが形成される部分のレジストは加熱されない。
【0009】
【実施例】本発明の実施例を図1の概略構成図および図
2に示す図1中のA−A線矢視図により説明する。図に
示すように、駆動部11にはスピンチャック12が接続
されている。スピンチャック12に載置されるウエハ5
1の縁部側の上方の一部には、露光器13が設けられて
いる。この露光器13に対してウエハ51の回動方向
(矢印ア方向)とは反対側に隣接した状態で、ウエハ5
1の上面に塗布したレジスト52の縁部側に赤外線を照
射して加熱する加熱器14が設けられている。
【0010】上記加熱器14は、例えば、赤外線発生器
15と、赤外線発生器15より発生させた赤外線を伝送
する光ファイバケーブル16と、光ファイバケーブル1
6の先端側に接続した照射ヘッド17とによりなる。さ
らに上記照射ヘッド17には移動機構18が設けられて
いる。この移動機構18によって、当該照射ヘッド17
はウエハ51のオリエンテーションフラットOF(以下
オリフラと略記する)上方を移動する。
【0011】また上記露光器13は、従来の技術中で説
明したと同様に、紫外線発生器19と、光ファイバケー
ブル20と、照射ヘッド21とによりなる。さらに上記
照射ヘッド21には、前述の従来の技術で説明したと同
様に当該照射ヘッド21を移動させる移動機構22が設
けられている。
【0012】次に、上記構成のウエハの縁取り露光装置
1の動作を説明する。まずレジスト52を塗布したウエ
ハ51をスピンチャック12に載置する。次いでスピン
チャック12を矢印ア方向に、例えば30rpm程度で
回動する。この状態で、加熱器14によってウエハ51
の円弧側のレジスト部分52a(実線の斜線で示す部
分)に赤外線RLを照射する。このとき照射ヘッド21
の下方にオリフラOF部分が来た場合には、ウエハ51
を回動させた状態で、移動機構22によって照射ヘッド
21をウエハ51の半径方向に移動して、当該照射ヘッ
ド21をオリフラOFの上方に位置させる。このように
照射ヘッド36を移動させながら、ウエハ51のオリフ
ラOF部分に沿って、レジスト52b(破線の斜線で示
す部分)に赤外線RLを照射する。上記赤外線の照射に
よって、レジスト52は、例えば50℃ないし70℃程
度に加熱される。そして、赤外線RLを照射して加熱し
た状態のレジストに露光器13で紫外線VLを照射し
て、感光する。感光は、前述した従来の技術で説明した
と同様に行う。したがって、ここでの詳細な説明は省略
する。
【0013】上記照射ヘッド17の設置位置は、レジス
ト52に赤外線RLを照射して加熱したレジスト52が
紫外線VLを照射するときに冷めない位置ならば、上記
説明した位置に限定されない。
【0014】
【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
レジストの縁部側のみを加熱する加熱器を設けたので、
レジストの縁部側のみが加熱される。このため、パター
ン形成部は加熱されないので、パターン形成部のパター
ンの寸法精度を低下させることなく、ウエハの縁取り露
光ができる。しかも、レジストが発泡を起こさない程度
の露光強度で短時間に露光することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例の概略説明図である。
【図2】図1中のA−A線矢視図である。
【図3】従来例の概略説明図である。
【図4】従来例の露光方法の説明図である。
【符号の説明】
1 ウエハの縁取り露光装置 11 駆動部 12 スピンチャック 13 露光器 14 加熱器 51 ウエハ

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 駆動部に接続したスピンチャックと、 前記スピンチャックに載置されるウエハのレジストの縁
    部側を露光する露光器とよりなるウエハの縁取り露光装
    置において、 前記露光器に対して前記ウエハの回動方向とは反対側
    に、当該ウエハのレジストの縁部側を加熱する加熱器を
    設けたことを特徴とするウエハの縁取り露光装置。
JP3201230A 1991-07-15 1991-07-15 ウエハの縁取り露光装置 Expired - Fee Related JP3015525B2 (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19980020620A (ko) * 1996-09-10 1998-06-25 김광호 반도체소자 제조장치 및 이를 이용한 반도체 소자 제조방법
JP2008160083A (ja) * 2006-11-20 2008-07-10 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および方法

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KR19980020620A (ko) * 1996-09-10 1998-06-25 김광호 반도체소자 제조장치 및 이를 이용한 반도체 소자 제조방법
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