JPH05210060A

JPH05210060A - 光走査方法

Info

Publication number: JPH05210060A
Application number: JP4016208A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Yamaguchi; 勝己山口
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 1992-01-31
Filing date: 1992-01-31
Publication date: 1993-08-20

Abstract

(57)【要約】【目的】走査光学系の中央と両端との横倍率の違いを
容易に補正することができ、これにより、被走査面上の
走査線の間隔を全走査領域において一定にすることがで
きる光走査方法を提供する。【構成】複数の発光部を有する半導体レーザーアレイ
１から発光された光束２を偏向器５により偏向し走査光
学系７により被走査面８上に集光する光走査方法におい
て、調整手段１１により各光束２の副走査方向の間隔を
走査周波数に同期させて変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば、レーザープリ
ンタ、デジタル複写機、ファクシミリ等において、被走
査面にレーザー光を走査する場合に利用される光走査方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体レーザーから発光された光
束を回転する偏向器により被走査面上に走査する方法に
おいて、走査の高速化を図るために、走査方向と直交す
る副走査方向に複数の発光部が配列された半導体レーザ
ーアレイを光源として用いる発明がなされている。その
一例として、特開平１−２５０９２２号公報に記載され
た発明が提案されている。すなわち、図８に示すよう
に、半導体レーザーアレイ１からの光束２をコリメート
レンズ３により平行光束とし、副走査方向にパワーを有
するシリンダレンズを含む結像光学系４によりコリメー
トされた光束２を副走査方向に集光し主走査方向に長い
線状の光束にして偏向器５の偏向反射面６に結像し、こ
の偏向器５の回転により偏向された光束２をｆθレンズ
を含む走査光学系７により被走査面８に走査するもので
ある。また、有効走査領域外に偏向された光束を受光素
子９に反射するミラー１０が設けられている。

【０００３】ここで、半導体レーザーアレイ１と偏向器
５との間におけるコリメートレンズ３と結像光学系４と
による副走査方向の横倍率をβ₁、偏向器５と被走査面
８との間における走査光学系７による副走査方向の横倍
率をβ₂、コリメートレンズの焦点距離をｆ₁、結像光学
系４の焦点距離をｆ₂、半導体レーザーアレイ１の発光
部の間隔をｐとすると、β₁はｆ₂／ｆ₁で表わされ、全
光路中の横倍率βはβ₁とβ₂の積で表わされ、被走査面
８での副走査方向における光束の間隔ｐ’はβとｐとの
積で表わされる。便宜上横倍率はプラスとするが、半導
体レーザーアレイ１の発光部の間隔ｐは通常１００μｍ
程度であり、被走査面８上では光束の間隔ｐ’はβ倍と
なる。このβ値は通常は５倍程度である。この倍率は画
像形成の上で粗過ぎるため、半導体レーザーアレイ１の
発光部の配列角度を主走査方向に対してφなる角度をも
って傾斜させている。すなわち、被走査面８上における
走査線のピッチＬをβ・ｐ・sinφなる関係を基に記録
密度に対応させている。

【０００４】また、被走査面８上の走査線のピッチを小
さくするために、次の方法が提案されている。図８の構
成を流用して説明するが、一つは、特開昭６０−２１３
９１７号公報及び特開昭６２−２２６１１７号公報に記
載されているように、半導体レーザーアレイ１から照射
された光束の副走査方向の間隔をプリズムにより小さく
する発明であり、他は特開昭５６−１０４３１５号公報
に記載されているように、半導体レーザーアレイ１から
照射された光束の副走査方向の間隔をイメージローテー
タにより小さくする発明である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来例は、被
走査面８上における走査線のピッチを小さくする目的は
達成されるが、その走査線のピッチは一義的に小さくな
るだけのものであり、次に述べる欠点を有する。すなわ
ち、半導体レーザーアレイ１と偏向器５との間では副走
査方向における光束２の間隔は一定に定められている。
ところが、偏向器５により光束２を偏向する過程では、
偏向角（走査領域）によって走査光学系７の副走査方向
の偏向反射面と被走査面８とを結びつける横倍角が微妙
に異なるため、副走査方向における光束２の間隔は、走
査領域の両端部において最大となり中央部において最小
となり、走査線曲りが生ずる。この状態を図９に示す。
この状態は、半導体レーザーアレイ１からｎ本の光束２
を照射し、被走査面８に一回の走査でｎ本のラインを走
査し、二回目にもｎ本（ｎ＋１ないし２ｎ）の走査線を
走査した状態を示すものである。隣接する走査線の間隔
の変位量をΔＬとすると、同一走査内における全走査線
の間隔の変位量は、走査領域の両端部において（ｎ−
１）・ΔＬとなる。これにより、一回目の走査と二回目
の走査の間、すなわち、ｎ本目の走査線とｎ＋１本目の
走査線との間の間隔は、走査領域の中央に対して逆に
（ｎ−１）・ΔＬだけ狭くなる。換言すれば、走査領域
の中央部において走査線間隔Ｌを均一とした時、走査領
域の両端部においては、走査線間隔Ｌが最小で（ｎ−
１）・ΔＬ分小さく、最大でΔＬ分大きくなり、走査線
間隔Ｌのバラツキがｎ・ΔＬにも達することとなる。こ
れにより、副走査方向にｎ・Ｌの周期で露光ムラが発生
し、画像を再生した場合に画像の濃度にムラが生ずる問
題がある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、複数
の発光部を有する半導体レーザーアレイから発光された
光束を、順次、コリメートレンズにより平行にし、偏向
器により偏向し、走査光学系により被走査面上に集光し
て照射して一括走査露光する光走査方法において、前記
半導体レーザーアレイと前記偏向器との間に配設した調
整手段により、各光束の副走査方向の間隔を走査周波数
に同期させて変化させるようにしたものである。

【０００７】請求項２の発明は、複数の発光部を有する
半導体レーザーアレイから発光された光束を、順次、コ
リメートレンズにより平行にし、このコリメートレンズ
からの各光束を結像光学系により偏向面と垂直な副走査
方向に集光し、偏向器により偏向し、走査光学系により
被走査面上に集光して照射して一括走査露光する光走査
方法において、前記結像光学系により主走査方向に沿う
線状に集光された各光束の副走査方向の間隔を、調整手
段により走査周波数に同期させて走査方向の中央におい
て最大とし走査領域の端部に向かうに従い次第に小さく
なるようにしたものである。

【０００８】請求項３の発明は、請求項１又は２におい
て、コリメートレンズと偏向器との間に配設されたプリ
ズムを調整手段として用い、このプリズムの傾き角を変
化させて各光束の間隔を調整するようにしたものであ
る。

【０００９】請求項４の発明は、請求項１又は２におい
て、コリメートレンズと偏向器との間に配設されたイメ
ージローテータを調整手段として用い、このイメージロ
ーテータを回動させて各光束の間隔を調整するようにし
たものである。

【００１０】請求項５の発明は、複数の発光部を有する
半導体レーザーアレイから発光された光束を、順次、コ
リメートレンズにより平行にし、このコリメートレンズ
からの各光束を結像光学系により偏向面と垂直な副走査
方向に集光し、偏向器により偏向し、走査光学系により
被走査面上に集光して照射して一括走査露光する光走査
方法において、前記半導体レーザーアレイを走査周波数
に同期させて光軸を中心として回動させることにより、
前記半導体レーザーアレイの発光部の偏向面に対する配
列角度を、走査領域の中央において最大とし走査領域の
端部に向かうに従い次第に小さくなるようにしたもので
ある。

【００１１】請求項６の発明は、請求項１，２，３，４
又は５において、偏向面と垂直な副走査方向において偏
向器の偏向反射面と被走査面とを共役関係に結び付ける
走査光学系により前記偏向器で偏向された光束を前記被
走査面に結像するようにしたものである。

【００１２】

【作用】請求項１の発明によれば、各光束の副走査方向
の間隔を走査周波数に同期させて調整手段で変化させる
ことにより、走査光学系の中央と両端との横倍率の違い
を補正することができ、これにより、同一走査内で生じ
る被走査面上の走査線の間隔を全走査領域において一定
にすることができ、これにより、濃度ムラのない高品位
の画像を得ることができ、また、偏向器より半導体レー
ザーアレイ側に調整手段を設けたので、調整手段の小型
化が図れる。

【００１３】請求項２の発明によれば、コリメートレン
ズで平行にされた各光束のそれぞれを、結像光学系によ
り副走査方向に集光するとともに、副走査方向における
光束の間隔を調整手段により走査領域の中央においては
最大とし走査領域の端部に向かうに従い次第に小さくす
ることにより、走査光学系の中央と両端との横倍率の違
いを容易に補正することができ、これにより、被走査面
上における走査線の間隔を一定にすることができる。ま
た、副走査方向における光束の間隔の変化のさせ方が単
純なので調整手段の構造及び制御を簡略化することがで
きる。さらに、結像光学系で光束を偏向反射面において
副走査方向に集光することにより、偏向器の小型化を図
ることができる。

【００１４】請求項３の発明によれば、コリメートレン
ズで平行化された各光束の副走査方向の間隔をプリズム
の傾き角により調整することができ、半導体レーザーア
レイの発光部の配列方向と偏向器における結像点の配列
方向と被走査面上の結像点の配列方向とを副走査方向に
揃えることにより、走査における同期検知及び同期検知
信号に基づく位相同期制御を容易に行うことができる。

【００１５】請求項４の発明によれば、コリメートレン
ズで平行化された光束をイメージローテータで調整する
ことにより、同様の目的のために半導体レーザーアレイ
を回動させた場合に比して半導体レーザーアレイの回動
角に対してイメージローテータを２分の１の小さい回動
角で回動させればよいことになり、これにより、光束の
副走査方向の間隔を調整する制御を容易にすることがで
き、しかも、光束の配列方向がイメージローテータによ
り制御可能なので、半導体レーザーアレイの組付精度を
緩くすることができる。

【００１６】請求項５の発明によれば、走査周波数に同
期させて半導体レーザーアレイを回動させることにより
光束の副走査方向の間隔を調整することができるため、
他の光学系を変えることなく目的を達成することがで
き、また、半導体レーザーアレイは小型軽量であるため
簡易な構造で回動させることができる。

【００１７】請求項６の発明によれば、走査光学系によ
り偏向器の偏向反射面の面倒れによるピッチむらをも補
正することができ、より高品位の画像を得ることができ
る。

【００１８】

【実施例】本発明の第一の実施例を図１ないし図３に基
づいて説明する。図８において説明した部分と同一部分
は同一符号を用い説明も省略する（以下同様）。まず、
構造について説明する。コリメートレンズ３と結像光学
系４との間の光路中には調整手段としてのプリズム１１
が設けられている。このプリズム１１は図示しない駆動
部に駆動されて傾き角が変化される。その変化は偏向器
５の回転運動に同期して、換言すれば、走査周波数に同
期して駆動部を駆動することにより行われるものであ
る。前記結像光学系４は、少なくとも副走査方向にパワ
ーを有するシリンダレンズが用いられている。ｆθレン
ズを含む走査光学系７は、偏向面と垂直な副走査方向に
おいて偏向器５の偏向反射面６と被走査面８とを共役関
係に結び付けるように構成されている。すなわち、走査
光学系７は、走査方向においては偏向器５の偏向反射面
６で偏向された平行な光束を各像高（走査方向の全域）
において均一に被走査面８上に結像するとともに、偏向
器５の偏向反射面６の面倒れを補正する機能を有してい
る。

【００１９】実際の露光に際しては、半導体レーザーア
レイ１からの照射された複数の光束２をコリメートレン
ズ３により平行光束とし、結像光学系４により各光束２
を副走査方向に集光し主走査方向に沿って線状に細くし
た光束２を偏向器５の偏向反射面６に照射する。そし
て、偏向器５を回転させることにより偏向反射面６によ
り偏向された光束２を走査光学系７により被走査面８に
集光して照射して一括走査露光する。この時に、偏向器
５の回転運動に同期させて、換言すれば、走査周波数に
同期させて駆動部を駆動してプリズム１１の傾き角を変
化させる。すなわち、図２に示すように、走査領域の中
央においてはプリズム１１を実線に示す位置に変位さ
せ、各光束２の副走査方向の間隔を最大となるｄ₀ に設
定し、光束２が走査領域の端部に向かうに従いプリズム
１１を仮想線に示す位置に変位させ、各光束２の副走査
方向の間隔を最小となるｄ₁ に設定する。これにより、
走査光学系７の倍率誤差を補正して、同一走査内で生じ
る被走査面８上の走査線の間隔を全走査領域において一
定にすることができ、これにより、濃度ムラのない高品
位の画像を得ることができる。

【００２０】また、コリメートレンズ３で平行化された
各光束２の副走査方向の間隔をプリズム１１で小さくす
ることができるので、半導体レーザーアレイ１の発光部
の配列方向と偏向器５における結像点の配列方向と被走
査面８上の結像点の配列方向とを副走査方向に揃えて偏
向器５を小型化することができる。また、この時走査に
おける同期検知及び同期検知信号に基づく位相同期制御
を容易に行うことができる。

【００２１】次いで、本発明の第二の実例を図４及び図
５に基づいて説明する。本実施例は、コリメートレンズ
３と結像光学系４との間に設けた調整手段としてのイメ
ージローテータ１２を走査周波数に応じて回動させて光
束２の副走査方向の間隔を調整するようにしたものであ
る。ここで、図５（ａ）にイメージローテータ１２の側
面図を示し、図５（ｂ）にイメージローテータ１２の平
面図を示すが、イメージローテータ１２に線分１３，１
５が入射されると、まず、入射面で屈折され、続いて、
底面で全反射され、さらに、出射面で屈折されて線分１
４，１６になる。すなわち、イメージローテータ１２は
底面に対して垂直方向の成分のみを反転する作用を示
す。したがって、その底面に対してθ度傾いた線分は２
θ反転され、底面に対して−θ度傾いた線分に変換され
る。また、同じ線分に対してイメージローテータ１２を
Δθだけ回動させれば線分を２Δθ回動させることがで
きる。そこで、走査領域の中央において走査線のピッチ
がＬになるようにイメージローテータ１２の底面及び半
導体レーザーアレイ１の発光部の配列角を設定してお
き、各光束２が走査領域の端部に向かう時にイメージロ
ーテータ１２を走査周波数に同期させてΔθだけ回動さ
せることにより、被走査面８における全走査領域の走査
線のピッチを一定にすることができる。

【００２２】また、コリメートレンズ３で平行にされた
各光束２のそれぞれを、結像光学系４により副走査方向
に集光するとともに、副走査方向における光束２の間隔
をイメージローテータ１２で調整することにより、副走
査方向における光束の間隔を変化させる構造及び制御を
簡略化することができる。さらに、偏向器５より半導体
レーザーアレイ１側に設けた結像光学系４で光束２を副
走査方向に集光することにより、偏向器５の小型化を図
ることができる。さらに、コリメートレンズ３で平行化
された光束２をイメージローテータ１２で調整すること
により、同様の目的のために半導体レーザーアレイ１を
回動させた場合に比して半導体レーザーアレイ１の回動
角に対してイメージローテータ１２を２分の１の小さい
回動角で回動させればよいことになり、これにより、光
束２の副走査方向の間隔を調整する制御を容易にするこ
とができ、しかも、光束の配列方向がイメージローテー
タ１２により制御可能なので、半導体レーザーアレイ１
の組付精度を緩くすることができる。

【００２３】なお、前記第一、第二の実施例において、
調整手段としてのプリズム１１又はイメージローテータ
１２は平行光束中に配設されているので、光学系の結像
関係に影響を及ぼすことはない。

【００２４】さらに、本発明の第三の実施例を図６及び
図７に基づいて説明する。図７は半導体レーザーアレイ
１の回動動作を示す正面図で、複数の発光部を×印をも
って示す。本実施例は、複数の発光部を有する半導体レ
ーザーアレイ１から発光された光束２を、順次、コリメ
ートレンズ３により平行にし、このコリメートレンズ３
からの各光束２を結像光学系４により偏向面と垂直な副
走査方向に集光し、偏向器５により偏向し、走査光学系
７により被走査面８上に集光して照射して一括走査露光
する光走査方法において、前記半導体レーザーアレイ１
を走査周波数に同期させて光軸を中心として回動させる
ことにより、半導体レーザーアレイ１の発光部の偏向面
に対する配列角度を、走査領域の中央において最大とし
走査領域の端部に向かうに従い次第に小さくなるように
した方法である。

【００２５】すなわち、半導体レーザーアレイ１は図示
しない駆動部により光軸を中心に回動自在に保持されて
いる。ここで、半導体レーザーアレイ１と偏向器５との
間におけるコリメートレンズ３と結像光学系４とによる
副走査方向の横倍率をβ₁ 、偏向器５と被走査面８との
間における副走査方向の横倍率をβ₂ 、コリメートレン
ズの焦点距離をｆ₁ 、結像光学系の焦点距離をｆ₂ 、半
導体レーザーアレイ１の発光部の間隔をｐ、被走査面８
での所望の走査線のピッチをＬとすると、β₁はｆ₂ ／
ｆ₁ で表わされる。そして、光束２が被走査面８上の走
査領域の中央に向かう時には、図７に実線で示すよう
に、半導体レーザーアレイ１の発光部の配列方向を主走
査方向からφ₀ 度だけ傾けるように半導体レーザーアレ
イ１を設定する。この時のφ₀ の値はsin~¹(Ｌ・ｆ₁／
ｆ₂・β₂・Ｐ）である。また、光束２が走査領域の端部
に向かう時には、図７に仮想線をもって示すように、半
導体レーザーアレイ１の発光部をφ₁ 度だけ傾けるよう
に半導体レーザーアレイ１を回動させる。このφ₁ の値
はφ₀ よりも小さい値である。このように、光束２が走
査領域の端部に向かう時には、発光部の間隔の副走査方
向の成分を僅かに小さくすることにより、被走査面８上
における走査線のピッチがＬなる正規の値に定められ
る。

【００２６】また、半導体レーザーアレイ１を回動させ
ることにより光束２の副走査方向の間隔を調整すること
ができるため、他の光学系４，７を変えることなく目的
を達成することができる。また、半導体レーザーアレイ
１は小型軽量であるため簡易な構造で回動させることが
できる。

【００２７】前記実施例において、結像光学系４はシリ
ンダレンズのみで構成したがこれに限られるものではな
く、他のレンズと組み合わせてもよく、主走査方向にお
いては偏向面内でアフォーカルで、副走査方向において
は偏向面と直交する面内でコリメートされた光束を線状
に結像するものであればよい。また、走査光学系７は副
走査方向において偏向反射面６と被走査面８とを共役関
係に結び付けるように構成したが、例えば、偏向器とし
てガルバノメータスキャナやピラミダルミラーを用いた
場合、或いは、偏向器として回転多面鏡を用いても偏向
反射面の加工精度が充分に高い場合には、走査光学系７
に面倒れ補正機能をもたせる必要はない。この場合に
は、球面のみをもつ光学系を走査光学系とすることがで
きる。そして、このように面倒れ補正機能を備えていな
い走査光学系を用いた場合においても、走査領域による
走査線のピッチの差異をプリズムやイメージローテータ
等の調整手段により、或いは、半導体レーザーアレイを
回動させる手段により補正することができる。

【００２８】さらに、上述の説明は、半導体レーザーア
レイ１を用いて複数のレーザービームを得るものである
が、本発明はこれに限定されるものではなく、シングル
ビームの半導体レーザーを複数個用い、これらの半導体
レーザーからのシングルビームを合成して複数のレーザ
ービームを得るようにした光走査装置においても適用可
能である（請求項５は除く）。

【００２９】

【発明の効果】請求項１の発明は、複数の発光部を有す
る半導体レーザーアレイから発光された光束を、順次、
コリメートレンズにより平行にし、偏向器により偏向
し、走査光学系により被走査面上に集光して照射して一
括走査露光する光走査方法において、前記半導体レーザ
ーアレイと前記偏向器との間に配設した調整手段により
各光束の副走査方向の間隔を、走査周波数に同期させて
変化させるようにしたので、走査光学系の中央と両端と
の横倍率の違いを補正することができ、これにより、同
一走査内で生じる被走査面上の走査線の間隔を全走査領
域において一定にすることができ、これにより、濃度ム
ラのない高品位の画像を得ることができ、また、偏向器
より半導体レーザーアレイ側に調整手段を設けたので、
調整手段の小型化を図ることができる等の効果を有す
る。

【００３０】請求項２の発明は、複数の発光部を有する
半導体レーザーアレイから発光された光束を、順次、コ
リメートレンズにより平行にし、このコリメートレンズ
からの各光束を結像光学系により偏向面と垂直な副走査
方向に集光し、偏向器により偏向し、走査光学系により
被走査面上に集光して照射して一括走査露光する光走査
方法において、前記結像光学系により主走査方向に沿う
線状に集光された各光束の副走査方向の間隔を、調整手
段により走査周波数に同期させて走査方向の中央におい
て最大とし走査領域の端部に向かうに従い次第に小さく
なるようにしたので、走査光学系の中央と両端との横倍
率の違いを容易に補正することができ、これにより、被
走査面上における走査線の間隔を一定にすることがで
き、また、副走査方向における光束の間隔の変化のさせ
方が単純なので、調整手段の構造及び制御を簡略化する
ことができ、さらに、結像光学系で光束を偏向反射面に
おいて副走査方向に集光することにより、偏向器の小型
化を図ることができる等の効果を有する。

【００３１】請求項３の発明は、請求項１又は２におい
て、コリメートレンズと偏向器との間に配設されたプリ
ズムを調整手段として用い、このプリズムの傾き角を変
化させて各光束の間隔を調整するようにしたので、半導
体レーザーアレイの発光部の配列方向と偏向器における
結像点の配列方向と被走査面上の結像点の配列方向とを
副走査方向に揃えることにより、走査における同期検知
及び同期検知信号に基づく位相同期制御を容易に行うこ
とができる等の効果を有する。

【００３２】請求項４の発明は、請求項１又は２におい
て、コリメートレンズと偏向器との間に配設されたイメ
ージローテータを調整手段として用い、このイメージロ
ーテータを回動させて各光束の間隔を調整するようにし
たので、同様の目的のために半導体レーザーアレイを回
動させた場合に比して半導体レーザーアレイの回動角に
対してイメージローテータを２分の１の小さい回動角で
回動させればよいことになり、これにより、光束の副走
査方向の間隔を調整する制御を容易にすることができ、
しかも、光束の配列方向がイメージローテータにより制
御可能なので、半導体レーザーアレイの組付精度を緩く
することができる等の効果を有する。

【００３３】請求項５の発明は、複数の発光部を有する
半導体レーザーアレイから発光された光束を、順次、コ
リメートレンズにより平行にし、このコリメートレンズ
からの各光束を結像光学系により偏向面と垂直な副走査
方向に集光し、偏向器により偏向し、走査光学系により
被走査面上に集光して照射して一括走査露光する光走査
方法において、前記半導体レーザーアレイを走査周波数
に同期させて光軸を中心として回動させることにより、
前記半導体レーザーアレイの発光部の偏向面に対する配
列角度を、走査領域の中央において最大とし走査領域の
端部に向かうに従い次第に小さくなるようにしたので、
走査周波数に同期させて半導体レーザーアレイを回動さ
せることにより光束の副走査方向の間隔を調整すること
ができ、これにより、他の光学系を変えることなく目的
を達成することができ、また、半導体レーザーアレイは
小型軽量であるため簡易な構造で回動させることができ
る等の効果を有する。

【００３４】請求項６の発明は、請求項１，２，３，４
又は５において、偏向面と垂直な副走査方向において偏
向器の偏向反射面と被走査面とを共役関係に結び付ける
走査光学系により前記偏向器で偏向された光束を前記被
走査面に結像するようにしたので、走査光学系により偏
向器の偏向反射面の面倒れによるピッチむらをも補正す
ることができ、より高品位の画像を得ることができる等
の効果を有する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第一の実施例を示す斜視図である。

【図２】プリズムの変位動作を示す側面図である。

【図３】被走査面上の走査線を示す説明図である。

【図４】本発明の第二の実施例を示す斜視図である。

【図５】（ａ）はイメージローテータの側面図、（ｂ）
はイメージローテータの平面図である。

【図６】本発明の第三の実施例を示す斜視図である。

【図７】半導体レーザーアレイの回動動作を示す正面図
である。

【図８】従来例を示す斜視図である。

【図９】被走査面上の走査線を示す説明図である。

【符号の説明】

１半導体レーザーアレイ２光束３コリメートレンズ４結像光学系５偏向器６偏向反射面７走査光学系８被走査面１１プリズム１２イメージローテータ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の発光部を有する半導体レーザーア
レイから発光された光束を、順次、コリメートレンズに
より平行にし、偏向器により偏向し、走査光学系により
被走査面上に集光して照射して一括走査露光する光走査
方法において、前記半導体レーザーアレイと前記偏向器
との間に配設した調整手段により、各光束の副走査方向
の間隔を走査周波数に同期させて変化させるようにした
ことを特徴とする光走査方法。
【請求項２】複数の発光部を有する半導体レーザーア
レイから発光された光束を、順次、コリメートレンズに
より平行にし、このコリメートレンズからの各光束を結
像光学系により偏向面と垂直な副走査方向に集光し、偏
向器により偏向し、走査光学系により被走査面上に集光
して照射して一括走査露光する光走査方法において、前
記結像光学系により主走査方向に沿う線状に集光された
各光束の副走査方向の間隔を、調整手段により走査周波
数に同期させて走査方向の中央において最大とし走査領
域の端部に向かうに従い次第に小さくなるようにしたこ
とを特徴とする光走査方法。
【請求項３】コリメートレンズと偏向器との間に配設
されたプリズムを調整手段として用い、このプリズムの
傾き角を変化させて各光束の間隔を調整するようにした
ことを特徴とする請求項１又は２記載の光走査方法。
【請求項４】コリメートレンズと偏向器との間に配設
されたイメージローテータを調整手段として用い、この
イメージローテータを回動させて各光束の間隔を調整す
るようにしたことを特徴とする請求項１又は２記載の光
走査方法。
【請求項５】複数の発光部を有する半導体レーザーア
レイから発光された光束を、順次、コリメートレンズに
より平行にし、このコリメートレンズからの各光束を結
像光学系により偏向面と垂直な副走査方向に集光し、偏
向器により偏向し、走査光学系により被走査面上に集光
して照射して一括走査露光する光走査方法において、前
記半導体レーザーアレイを走査周波数に同期させて光軸
を中心として回動させることにより、前記半導体レーザ
ーアレイの発光部の偏向面に対する配列角度を、走査領
域の中央において最大とし走査領域の端部に向かうに従
い次第に小さくなるようにしたことを特徴とする光走査
方法。
【請求項６】偏向面と垂直な副走査方向において偏向
器の偏向反射面と被走査面とを共役関係に結び付ける走
査光学系により前記偏向器で偏向された光束を前記被走
査面に結像するようにしたことを特徴とする請求項１，
２，３，４又は５記載の光走査方法。