JPH0520643A - 薄膜磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ヘッド列３１の切断両面３４ａ、３４ｂに切り込み３５
を形成して、切断面３４ａ、３４ｂに生じた加工変質層
の内部応力を緩和し、ヘッド列３１の反りを解消する。
このことによりヘッド列３１は反りのない状態でラップ
キャリア２２に仮固定されることとなるので、研磨後の
ヘッド列３１における薄膜磁気ヘッド素子２０のポール
ハイトＬを均一に形成することができる。従って所要精
度のポールハイトＬを有する薄膜磁気ヘッドを歩留まり
良く安定的に製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は薄膜磁気ヘッドの製造方
法に関し、より詳しくは磁気ディスク装置、磁気テープ
装置等に用いられる記録再生用の薄膜磁気ヘッドの製造
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、一般的な薄膜磁気ヘッドは、例え
ば図４に示したように基板１１の上に下部磁性体ポール
１２が形成され、下部磁性体ポール１２の上に非磁性ギ
ャップ１３、絶縁層１４、コイル１５、絶縁層１６及び
上部磁性体ポール１７がこの順に積層されて製造され
る。このような薄膜磁気ヘッドにおいて、磁性媒体との
対向面１８から絶縁層１４又は絶縁層１６までの距離Ｌ
はポールハイトと呼ばれ、薄膜磁気ヘッドの記録再生特
性を決定する重要なパラメータの一つとなっている。例
えばポールハイトＬが長すぎると、下部磁性体ポール１
２と上部磁性体ポール１７との間で直接漏れる磁束が増
加して対向面１８に到達する磁束が減少し、薄膜磁気ヘ
ッドの記録再生特性が低下する。またポールハイトＬが
０より小さくなると、非磁性ギャップ１３が実効的に大
きくなり、分解能が低下する。従ってポールハイトＬを
０に近い値にすることが製造上の要点であり、最近の高
密度化に伴ってポールハイトＬは０〜１μｍ未満程度の
精度が要求されている。

【０００３】このようなポールハイトＬを得るために、
従来においては図５に示した如く、複数個の薄膜磁気ヘ
ッド素子２０を有する薄膜ヘッドウエハ（図示せず）を
短冊状に切断し、これによって得たヘッド列２１をステ
ンレス等の単一材料で構成されたラップキャリア２２に
熱溶融性接着剤２３で仮固定した後、媒体対向面１８を
研磨加工することが行なわれている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが薄膜ヘッドウ
エハを短冊状に切断してヘッド列２１を得る際、ヘッド
列２１の切断面２４ａ、２４ｂの極表面層に例えば３μ
ｍ程度の加工変質層が生じて内部応力が発生し、各切断
面２４ａ、２４ｂでの内部応力の差によってヘッド列２
１に反りが生じてしまうという課題があった。このた
め、上記した従来の方法でヘッド列２１をラップキャリ
ア２２に仮固定した後も、図５に示したようにヘッド列
２１が反った状態となっていた。この状態で研磨加工を
行なうと、ヘッド列２１の両端の薄膜磁気ヘッド素子２
０と中央の薄膜磁気ヘッド素子２０とのポールハイトＬ
に１〜２μｍ程度の大きな差が生じ、従って所要の精度
のポールハイトＬを歩留まり良く安定して得ることがで
きなかった。

【０００５】また、反りが生じたヘッド列２１を強制的
に直線に伸ばした状態でラップキャリア２２に熱溶融性
接着剤２３で仮固定した場合、表面応力が生じ、最終的
に製品にした段階で外観寸法、とくにスライダ面の平面
度に問題が生じるため、この場合も歩留まりが低下して
いた。本発明は上記した課題に鑑みなされたものであ
り、切断面に生じる応力を緩和することができ、ヘッド
列の反りを解消することができる薄膜磁気ヘッドの製造
方法を提供することを目的としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ために本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法は、薄膜
ヘッドウエハ表面に、一列に並べられた複数個の薄膜磁
気ヘッド素子からなる複数の薄膜磁気ヘッド列を形成
し、該ヘッド列を列毎に切り離して熱溶融性接着剤でラ
ップキャリアに接着し、この後前記ヘッド列の各薄膜磁
気ヘッド素子の媒体対向面を研磨加工する薄膜磁気ヘッ
ドの製造方法において、前記ヘッド列の長手方向切断面
に複数個の切り込みを入れた後、熱溶融性接着剤でラッ
プキャリアに接着することを特徴としている。

【０００７】

【作用】上記記載の方法によれば、ヘッド列の長手方向
切断面に複数個の切り込みを入れるので、前記ヘッド列
の切断面に生じた加工変質層の内部応力が緩和されて前
記ヘッド列の反りが解消され、前記ヘッド列はラップキ
ャリアに平行に接着される。従って研磨加工後のヘッド
列の両端、中央の各薄膜磁気ヘッド素子のポールハイト
は均一となる。

【０００８】なお、このヘッド列の長手方向切断面の切
り込みは、レーザ加工やミクロトーム等のように１μｍ
単位の切り込み深さを制御することができるものを用い
る。また切り込みの条件は、切り込み深さが３〜５μ
ｍ、幅が０．２ｍｍ、間隔が３〜１０ｍｍ程度とするこ
とが望ましいが、切り込み深さについては加工変質層以
上とすることが必要である。このとき加工変質層の厚さ
は、切断条件等により変わるため、それに伴って切り込
み深さも変える必要がある。

【０００９】

【実施例】以下、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方
法の実施例を図面に基づいて説明する。なお、従来例と
同一機能を有する構成部品には同一の符号を付すことと
する。図１は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法で
製造されるヘッド列の一例を示した模式的平面図であ
り、図２はヘッド列の模式的側面図である。図１及び図
２に示したように本実施例においては、従来と同様に複
数個の薄膜磁気ヘッド素子２０を有する薄膜ヘッドウエ
ハを短冊状に切断し、これによって得たヘッド列３１の
長手方向切断面３４ａ、３４ｂに、例えばレーザ加工等
により深さ３〜５μｍ程度、幅０．２ｍｍ程度の切り込
み３５を複数個形成する。またこのヘッド列３１の長さ
が通常の２インチ程度である場合には、上記切り込み３
５を３〜１０ｍｍ程度の間隔で切断両面３４ａ、３４ｂ
に形成する。このことによって切断面３４ａ、３４ｂに
生じた加工変質層の内部応力が緩和され、ヘッド列３１
は反りが無く良好な形状となる。次いで、この反りが無
く良好な形状となったヘッド列３１とラップキャリア２
２とをホットプレート等に置いて概ね１００〜１３０℃
に加熱し、この後ヘッド列３１をラップキャリア２２に
熱溶融性接着剤２３で仮接着する。なおこのとき、図３
に示したように熱溶融性接着剤２３の固化後もヘッド列
３１は反りのない状態でラップキャリア２２に仮固定さ
れる。

【００１０】そして反りのない状態で仮固定されたヘッ
ド列３１の媒体対向面１８を研磨加工すれば、ヘッド列
３１の両端、中央の各薄膜磁気ヘッド素子２０のポール
ハイトＬを均一に、かつ所要の精度で形成することがで
きる。この結果、ポールハイトＬの制御不良による歩留
まり低下を１５％程度改善することができる。このよう
に本実施例に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法によれば、
切断両面３４ａ、３４ｂに切り込み３５を形成すること
によって切断面３４ａ、３４ｂに生じた加工変質層の内
部応力を緩和し、ヘッド列３１を反りのない状態でラッ
プキャリア２２に仮固定するので、研磨後のヘッド列３
１の各薄膜磁気ヘッド素子２０のポールハイトＬの差を
極めて小さくすることができ、所要精度のポールハイト
Ｌを有する薄膜磁気ヘッドを歩留まり良く安定的に製造
することができる。

【００１１】

【発明の効果】以上の説明により明らかなように、本発
明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法にあっては、ヘッド
列の長手方向切断面に複数個の切り込みを入れるので、
ヘッド列の反りを解消することができ、研磨後のヘッド
列における各薄膜磁気ヘッド素子のポールハイトの差を
極めて小さくすることができる。従って、所要精度のポ
ールハイトを有する薄膜磁気ヘッドを歩留まり良く安定
的に製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法で製造
されるヘッド列の一例を示した模式的平面図である。

【図２】ヘッド列の模式的側面図である。

【図３】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造方法におけ
る一工程を模式的に示した平面図である。

【図４】一般的な薄膜磁気ヘッドの構成を模式的に示し
た断面図である。

【図５】従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法における一工
程を模式的に示した説明図である。

【符号の説明】

１８ 媒体対向面 ２０ 薄膜磁気ヘッド素子 ２２ ラップキャリア ２３ 熱溶融性接着剤 ３１ ヘッド列 ３４ａ、３４ｂ 切断面 ３５ 切り込み

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 薄膜ヘッドウエハ表面に、一列に並べら
   れた複数個の薄膜磁気ヘッド素子からなる複数の薄膜磁
   気ヘッド列を形成し、該ヘッド列を列毎に切り離して熱
   溶融性接着剤でラップキャリアに接着し、この後前記ヘ
   ッド列の各薄膜磁気ヘッド素子の媒体対向面を研磨加工
   する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、前記ヘッド列
   の長手方向切断面に複数個の切り込みを入れた後、熱溶
   融性接着剤でラップキャリアに接着することを特徴とす
   る薄膜磁気ヘッドの製造方法。