JPH0520639A

JPH0520639A - 薄膜磁気ヘツドおよびその製造方法

Info

Publication number: JPH0520639A
Application number: JP19746391A
Authority: JP
Inventors: Takashi Noro; 隆野呂
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1991-07-12
Filing date: 1991-07-12
Publication date: 1993-01-29

Abstract

(57)【要約】【目的】薄膜磁気ヘッドにおいて、書き込み効率を上
げるために、ギャップ深さを小さくしても、トレーリン
グ側ポールが飽和しないようにする。【構成】リーディング側ポール１は、ギャップ深さ４
を残して角度θにてギャップ面から後退している。そし
て、この後退させた部分は、第１の絶縁層７で埋められ
て平坦化される。さらに、その上に、ギャップ層３、第
一層目のコイル５、第二の絶縁層８、第二層目のコイル
６、第三の絶縁層９、トレーリング側ポール２が形成さ
れる。このトレーリング側ポール２のギャップ面に接す
る部分は、少なくともギャップ深さ４よりも長くする。
これによって、ギャップ深さを相対的に小さくし、リー
ディング側ポールのギャップ近傍のみに、磁束を集中し
て飽和させ、媒体をシャープに磁化できるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク装置など
に用いて好適な薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来この種の薄膜磁気ヘッドは、概略図
４に示すように、基板上にパーマロイ等の軟磁性体から
なるリーディング側ポール１０を設けてなり、このリー
ディング側ポール１０上に、アルミナ、ＳｉＯ2等から
なるギャップ層１２を設け、さらにこのギャップ層１２
上に、フォトレジスト等からなる第一の絶縁層１４を設
けるとともに、この第一の絶縁層１４上に、銅等の第一
層目のコイル１７を設けてなる構成とされている。そし
て、この第一層目のコイル１７は、フォトレジスト等か
らなる第二の絶縁層１５で覆われ、またこの第二の絶縁
層１５上に、銅等からなる第二層目のコイル１８が設け
られ、この第二層目のコイル１８は、フォトレジスト等
からなる第三の絶縁層１６で覆われている。そして、こ
れらのギャップ層１２、第一の絶縁層１４、第二の絶縁
層１５、第三の絶縁層１６上に、パーマロイ等の軟磁性
体からなるトレーリング側ポール１１が設けられてい
る。

【０００３】このような従来の薄膜磁気ヘッドにおい
て、ギャップ深さ１３は、浮上面と前記第１の絶縁層１
４の浮上面側エッジとの距離であり、任意に決められて
いるものであった。また、このような薄膜磁気ヘッドに
おいては、前記第一層目のコイル１７と第二層目のコイ
ル１８とに電流を流すことにより、浮上面に漏れ磁界が
発生し、これにより媒体を磁化することで、書き込み等
を行なっているものであった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、磁気記録媒
体に対して高記録密度化を図るためには、高保磁力を有
する媒体が必要となるが、この高保磁力媒体を磁化する
にあたっては、大きな漏れ磁界が必要となる。

【０００５】そして、このような大きな漏れ磁界を発生
させるために、上述したような薄膜磁気ヘッドにあって
は、前記ギャップ深さ１３を短くして、書き込み効率を
向上させる必要がある。しかし、スロートハイトを小さ
くし過ぎると、トレーリング側ポール１１内部のギャッ
プ近傍に磁束が集中し、磁気的な飽和状態となる。この
トレーリング側ポール１１内部のギャップ近傍が飽和す
ると、図５に示すように書き込み磁界のトレーリング側
の勾配が緩やかになる。そして、媒体の磁化状態は、こ
の書き込み磁界のトレーリング側勾配で決定されるため
に、上述したように書き込み磁界のトレーリング側勾配
が緩やかになると、媒体の磁化遷移長が長くなり、ひい
ては再生波形の半値幅の増加、媒体ノイズの増加を引き
起こしてしまうもので、このような問題点を解決し得る
何らかの対策を講じることが望まれている。

【０００６】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、薄膜磁気ヘッドによる書き込み効率を上げ
るためにギャップ深さを小さくしても、トレーリング側
ポールが飽和しないようにしてなる薄膜磁気ヘッドおよ
びその製造方法を得ることを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような要請に応える
ために本発明に係る薄膜磁気ヘッドは、リーディング側
ポールの浮上面から遠ざかった部分を、浮上面に対して
垂直な面から離れるように構成することにより、このリ
ーディング側ポールにギャップ深さを設けるようにした
ものである。

【０００８】また、本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造
方法は、基板に窪みを設け、この窪みを設けた部分と設
けていない部分とに跨るように、磁性膜を形成すること
によって、薄膜磁気ヘッドにおけるリーディング側ポー
ルを形成するようにし、さらにリーディング側に磁性膜
を形成した後、絶縁膜を、少なくとも前記基板の窪みの
深さよりも厚く形成し、次に前記リーディング側磁性膜
のギャップに接する部分が露出するまで平坦にラップ
し、次にギャップ層、コイル、絶縁層、トレーリング側
磁性膜を順次設けることによって、薄膜磁気ヘッドを形
成するようにしたものである。

【０００９】

【作用】本発明によれば、リーディング側ポールを、浮
上面からたとえば 1mm以内でギャップ面から後退させる
ことによってギャップ深さを設け、かつトレーリング側
ポールがギャップ面と接している部分を、リーディング
側ポールに設けられたギャップ深さよりも長くすること
により、ギャップ深さを短くしたときに、磁束の集中を
リーディング側ポール内で生じさせ、リーディング側ポ
ールのギャップ近傍は飽和するが、トレーリング側ポー
ルのギャップ近傍は飽和しないようにし、これによって
媒体をシャープに磁化し、薄膜磁気ヘッドにおいて書き
込み効率を上げることが可能となる。

【００１０】

【実施例】図１は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一実施
例を示すものであり、同図において、基板上のリーディ
ング側ポール１は、ＧＡＰ対向面側において、浮上面か
ら、ある任意の高さに至っては、浮上面と垂直であり、
それ以後浮上面に対して、図１において角度θで示した
角度を有している。この角度θは、０°＜θ＜９０°の
範囲内にある。また、前記浮上面と垂直な部分を、ギャ
ップ深さ４とする。すなわち、従来例でトレーリング側
ポールが有していたギャップ深さを、本発明によれば、
リーディング側ポール１が有することになる。

【００１１】ここで、図１において、符号１はリーディ
ング側ポール、２はトレーリング側ポール、３はギャッ
プ層、４はギャップ深さで、また５は第一層目のコイ
ル、６は第二層目のコイル、７は第一の絶縁層、８は第
二の絶縁層、９は第三の絶縁層である。

【００１２】また、上述したリーディング側ポール１
は、図３において(a)〜(e) で示した製造工程によって
製造し得るものである。すなわち、同図(a) に示される
アルミナ等の基板２０を、イオンエッチング等により同
図(b) に示すように、角度θをもつように部分的に除去
する。このとき、除去する深さは、たとえば 1mmとし、
θはたとえば３０°とする。次に、前記エッチングを施
した基板２０上に、同図(c) に示したように、メッキ、
スパッタ等により、後にリーディング側ポール１となる
パーマロイ等の軟磁性体層２１を形成する。すると、軟
磁性体層２１の上面は、基板２０と同じ角度θの部分を
有する。そして、全てのウエハプロセスが終了した後、
浮上面側からラッピングを始め、Ａ−Ａの位置にてラッ
ピングを終了すれば、所要のギャップ深さ１４を有する
リーディング側ポール１となる。ここで、軟磁性体層２
１上には、同図(d) に示すように、アルミナ等の第１の
絶縁層２２（図１における符号７で示した第１の絶縁層
に相当する）を形成した後、上面からラッピングして平
坦にし、同図(e) に示すように、軟磁性体層２１を露出
させる。

【００１３】なお、その後の製造方法は、従来例と同じ
である。すなわち、同図(e) の状態において、その上部
にアルミナ等のギャップ層３を形成し、それぞれ二層づ
つのコイル、絶縁層を形成した後、トレーリング側ポー
ル２が形成される。このとき、トレーリング側ポール２
が、ギャップ層と接している長さは、ギャップ深さ４よ
りも長くなければならない。

【００１４】そして、上述したようにして製造される薄
膜磁気ヘッドによれば、リーディング側ポール１にギャ
ップ深さ４を設けることで、このギャップ深さ４を短く
したときに、磁束の集中がリーディング側ポール１内で
起こり、リーディング側ポール１のギャップ近傍は飽和
するが、トレーリング側ポール２のギャップ近傍は飽和
しないようにすることができる。したがって、トレーリ
ング側での書き込み磁界の勾配は、図２から明らかなよ
うに、急峻となるため、媒体の磁化遷移長が短くなり、
その結果再生波形の半値幅は小さくなり、媒体ノイズも
小さくできるものである。

【００１５】なお、本発明は上述した実施例構造には限
定されず、薄膜磁気ヘッド各部の形状、構造等を適宜変
形、変更し得ることは勿論であり、種々の変形例が考え
られよう。

【００１６】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る薄膜磁
気ヘッドおよびその製造方法によれば、リーディング側
ポールにギャップ深さを設けることにより、ギャップ深
さを短くしたときに、磁束の集中がリーディング側ポー
ル内で起こり、リーディング側ポールのギャップ近傍は
飽和するが、トレーリング側ポールのギャップ近傍は飽
和しない。したがって、トレーリング側での書き込み磁
界の勾配が急峻となるため、媒体の磁化遷移長が短くな
り、その結果再生波形の半値幅は小さくなり、媒体ノイ
ズも小さくでき、媒体をシャープに磁化し、薄膜磁気ヘ
ッドでの書き込み効率を向上させ得る等の種々優れた利
点を奏する。また、本発明によれば、このような利点を
奏する薄膜磁気ヘッドを、比較的簡単な製造工程によっ
て、簡単にしかも適切に製造し得るものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一実施例を示す
概略断面図である。

【図２】本発明の書き込み磁界の分布状態を示す特性図
である。

【図３】本発明に係る薄膜磁気ヘッドの製造工程を(a)
〜(e)により説明するための概略断面図である。

【図４】従来の薄膜磁気ヘッドの概略断面図である。

【図５】従来例での書き込み磁界の分布状態を示す特性
図である。

【符号の説明】

１リーディング側ポール２トレーリング側ポール３ギャップ層４ギャップ深さ５第一層目のコイル６第二層目のコイル７第一の絶縁層８第二の絶縁層９第三の絶縁層２０基板２１軟磁性体層２２第一の絶縁層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】媒体走行方向に対しリーディング側に配
置されたポールおよびトレーリング側に配置されたポー
ルと、これらリーディング側ポールとトレーリング側の
ポールとの間に挾まれ浮上面に露出するギャップ層とを
備え、該浮上面から遠ざかった部分で前記リーディング
側ポールと前記トレーリング側ポールの間隙を、前記浮
上面に露出するギャップ層の厚みよりも厚くすること
で、ギャップ深さを設けてなる薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記リーディング側ポールの浮上面から遠ざかった
部分を、浮上面に対して垂直な面から離れるように構成
することにより、前記ギャップ深さを設けたことを特徴
とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】請求項１記載の薄膜磁気ヘッドにおい
て、基板に窪みを設け、この窪みを設けた部分と設けて
いない部分とに跨るように、磁性膜を形成することによ
って、薄膜磁気ヘッドにおけるリーディング側ポールを
形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】請求項１記載の薄膜磁気ヘッドまたは請
求項２記載の薄膜磁気ヘッドの製造方法において、リー
ディング側に磁性膜を形成した後、絶縁膜を、少なくと
も前記基板の窪みの深さよりも厚く形成し、次に前記リ
ーディング側磁性膜のギャップに接する部分が露出する
まで平坦にラップし、次にギャップ層、コイル、絶縁
層、トレーリング側磁性膜を順次設けることによって、
薄膜磁気ヘッドを形成することを特徴とする薄膜磁気ヘ
ッドの製造方法。