JPH05206084A - ドライエッチング方法 - Google Patents
ドライエッチング方法Info
- Publication number
- JPH05206084A JPH05206084A JP1275892A JP1275892A JPH05206084A JP H05206084 A JPH05206084 A JP H05206084A JP 1275892 A JP1275892 A JP 1275892A JP 1275892 A JP1275892 A JP 1275892A JP H05206084 A JPH05206084 A JP H05206084A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ozone gas
- organic film
- etching
- plate
- organic substance
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 有機フィルムを除去するために、大気圧下の
容器にオゾンガスを流す方法において、面内のエッチン
グ速度のばらつきの問題と、非効率的なガスの供給方法
によるエッチング速度の問題を解決し、高速度，高均一
のエッチング処理を可能とすることを目的とする。 【構成】 有機フィルム２をエッチングする場合におい
て、有機フィルム２と対向する面に上板７をもってく
る。オゾンガスの導入は供給穴５から行い、オゾンガス
がクリアランス８を通過する間に有機フィルム２をエッ
チングし、排出穴６から排気される。このとき、有機フ
ィルム２を仕切るように板９をオゾンの流れ方向に対し
平行に設置するようにする。仕切り板９の上端は上板７
に接触するようにすることがあり、また有機フィルム２
を固定する枠１３に加熱ヒーター１２を設けることがあ
る。
容器にオゾンガスを流す方法において、面内のエッチン
グ速度のばらつきの問題と、非効率的なガスの供給方法
によるエッチング速度の問題を解決し、高速度，高均一
のエッチング処理を可能とすることを目的とする。 【構成】 有機フィルム２をエッチングする場合におい
て、有機フィルム２と対向する面に上板７をもってく
る。オゾンガスの導入は供給穴５から行い、オゾンガス
がクリアランス８を通過する間に有機フィルム２をエッ
チングし、排出穴６から排気される。このとき、有機フ
ィルム２を仕切るように板９をオゾンの流れ方向に対し
平行に設置するようにする。仕切り板９の上端は上板７
に接触するようにすることがあり、また有機フィルム２
を固定する枠１３に加熱ヒーター１２を設けることがあ
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は有機物の除去方法に関す
るものである。
るものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、有機物の除去方法の１手法とし
て、大気圧下でのオゾンガスによるエッチングが用いら
れているが、オゾンガスは被エッチング物にノズルある
いはシャワーヘッドを通して供給されている。
て、大気圧下でのオゾンガスによるエッチングが用いら
れているが、オゾンガスは被エッチング物にノズルある
いはシャワーヘッドを通して供給されている。
【０００３】以下に従来のエッチング方法について説明
する。図６は従来のシャワーヘッド板によるエッチング
方法を示す図である。図６において、１は有機物を保持
するヒーター付きの台である。２は被エッチング物の有
機物である。３はオゾンガスを放出させるためのシャワ
ーヘッド板である。４はオゾンガスのチャンバーであ
る。
する。図６は従来のシャワーヘッド板によるエッチング
方法を示す図である。図６において、１は有機物を保持
するヒーター付きの台である。２は被エッチング物の有
機物である。３はオゾンガスを放出させるためのシャワ
ーヘッド板である。４はオゾンガスのチャンバーであ
る。
【０００４】以上のように構成された従来の装置につい
て、以下にその動作について説明する。まず、有機物２
はヒーターの内蔵された加熱台１の上で一定温度まで加
熱される。次にチャンバー４にオゾンガスが供給されて
内圧分布が一定となりシャワーヘッド板３よりオゾンガ
スが被エッチング物の有機物に供給される。
て、以下にその動作について説明する。まず、有機物２
はヒーターの内蔵された加熱台１の上で一定温度まで加
熱される。次にチャンバー４にオゾンガスが供給されて
内圧分布が一定となりシャワーヘッド板３よりオゾンガ
スが被エッチング物の有機物に供給される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の構成では、チャンバー４の部分の内圧が一定にな
りにくく、シャワーヘッド面に均一なガスが供給されに
くい。なおかつ、シャワーヘッド部のガス穴のサイズお
よび分布などの条件により、均一なガス流量が被エッチ
ング物である有機物に供給されない場合が多い。シャワ
ーヘッド部に均一なガス流量が供給された場合でも、被
エッチング物とシャワーヘッドも空間で面内の圧力分布
が発生してオゾンガスの流線ベクトルが一定でなくな
り、面内のエッチング速度にばらつきが生じる。また、
エッチングに使用されたガスはシャワーヘッドから供給
されるガスに対して９０度横方向に排気されるので、こ
れらの排気されるガスと一緒にシャワーヘッドから供給
された新鮮なガスも一部はエッチングに使われることな
く排出されるという問題を有していた。
従来の構成では、チャンバー４の部分の内圧が一定にな
りにくく、シャワーヘッド面に均一なガスが供給されに
くい。なおかつ、シャワーヘッド部のガス穴のサイズお
よび分布などの条件により、均一なガス流量が被エッチ
ング物である有機物に供給されない場合が多い。シャワ
ーヘッド部に均一なガス流量が供給された場合でも、被
エッチング物とシャワーヘッドも空間で面内の圧力分布
が発生してオゾンガスの流線ベクトルが一定でなくな
り、面内のエッチング速度にばらつきが生じる。また、
エッチングに使用されたガスはシャワーヘッドから供給
されるガスに対して９０度横方向に排気されるので、こ
れらの排気されるガスと一緒にシャワーヘッドから供給
された新鮮なガスも一部はエッチングに使われることな
く排出されるという問題を有していた。
【０００６】本発明は、上記従来問題点を解決するもの
で、容器内のオゾンガスの流れと温度分布を一定にする
エッチング方法を提供することを目的とする。
で、容器内のオゾンガスの流れと温度分布を一定にする
エッチング方法を提供することを目的とする。
【０００７】また、本発明の他の目的は、容器内のオゾ
ンガスの流れと温度分布を一定にするとともに、オゾン
ガスと被エッチング物である有機物を効率よく接触させ
るエッチング方法を提供するものである。
ンガスの流れと温度分布を一定にするとともに、オゾン
ガスと被エッチング物である有機物を効率よく接触させ
るエッチング方法を提供するものである。
【０００８】本発明の更に他の目的は、容器内のオゾン
ガスの流れと温度分布を一定にするとともに、効率的に
有機物を加熱するエッチング方法を提供するものであ
る。
ガスの流れと温度分布を一定にするとともに、効率的に
有機物を加熱するエッチング方法を提供するものであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】第一の発明は、オゾンガ
スの流れ方向に対し平行に有機物を仕切る板を備えるも
のである。
スの流れ方向に対し平行に有機物を仕切る板を備えるも
のである。
【００１０】第二の発明は、第一の発明の構成におい
て、有機物と有機物に対向する内壁とのクリアランス
に、有機物に対向する内壁と接触するように有機物を仕
切る板を設置するものである。
て、有機物と有機物に対向する内壁とのクリアランス
に、有機物に対向する内壁と接触するように有機物を仕
切る板を設置するものである。
【００１１】第三の発明は第一の発明または第二の発明
へ構成において有機物を固定する枠に加熱する機能を備
えるものである。
へ構成において有機物を固定する枠に加熱する機能を備
えるものである。
【００１２】
【作用】第一の発明によれば、ガスの流れ方向に平行に
板を設置することにより、ガス流れが一定方向に揃い圧
力分布が発生しなくなるのと同時に、板からの熱伝達に
よりフィルムが均熱され、均一なエッチングができる。
板を設置することにより、ガス流れが一定方向に揃い圧
力分布が発生しなくなるのと同時に、板からの熱伝達に
よりフィルムが均熱され、均一なエッチングができる。
【００１３】第二の発明によれば、有機物と有機物に対
向する内壁とのクリアランスに、有機物に対向する内壁
と接触するように有機物を仕切る板を設置することによ
り、エッチングに使用されるガスが被エッチング物のフ
ィルムに接触しやすくなり、エッチング速度が向上す
る。
向する内壁とのクリアランスに、有機物に対向する内壁
と接触するように有機物を仕切る板を設置することによ
り、エッチングに使用されるガスが被エッチング物のフ
ィルムに接触しやすくなり、エッチング速度が向上す
る。
【００１４】第三の発明によれば有機物を固定する枠を
加熱する機能をも備えたことにより、より均一なエッチ
ングが可能になる。
加熱する機能をも備えたことにより、より均一なエッチ
ングが可能になる。
【００１５】
（実施例１）以下、本発明の一実施例について、図面を
参照しながら説明する。
参照しながら説明する。
【００１６】図１において、１は有機物を保持するため
のヒーター付きの台である。２は被エッチング物の有機
フィルムである。５はオゾンガスの供給口である。６は
オゾンガスの排出口である。７は被エッチング物の有機
フィルムとのクリアランスを保つための上板である。８
はオゾンガスの流れるクリアランスである。９は有機物
を仕切る板である。
のヒーター付きの台である。２は被エッチング物の有機
フィルムである。５はオゾンガスの供給口である。６は
オゾンガスの排出口である。７は被エッチング物の有機
フィルムとのクリアランスを保つための上板である。８
はオゾンガスの流れるクリアランスである。９は有機物
を仕切る板である。
【００１７】以上のように構成されたドライエッチング
装置について、その動作を説明する。まず、ヒーター付
き試料台１に乗せられた有機フィルム２は、一定温度ま
で加熱される。次に、ガス供給口５からオゾンガスが供
給されクリアランス８の部分をオゾンガスが一定方向に
流れる。このときオゾンガスは有機フィルム２をエッチ
ングしてエッチングに使用されたガスは排出口６から排
気される。本実施例の実験条件を（表１）に示す。
装置について、その動作を説明する。まず、ヒーター付
き試料台１に乗せられた有機フィルム２は、一定温度ま
で加熱される。次に、ガス供給口５からオゾンガスが供
給されクリアランス８の部分をオゾンガスが一定方向に
流れる。このときオゾンガスは有機フィルム２をエッチ
ングしてエッチングに使用されたガスは排出口６から排
気される。本実施例の実験条件を（表１）に示す。
【００１８】
【表１】
【００１９】本実施例によるエッチング特性と従来のエ
ッチング特性を（表２）に比較して示している。
ッチング特性を（表２）に比較して示している。
【００２０】
【表２】
【００２１】この（表２）から明らかなように、本実施
例によるドライエッチングは、エッチング均一性の点で
優れた効果が得られる。
例によるドライエッチングは、エッチング均一性の点で
優れた効果が得られる。
【００２２】以上のように、本実施例によれば、ガスの
流れ方向に仕切り板を設置することにより、ガス流れが
一定方向に揃い圧力分布が発生しなくなるのと同時に、
板からの熱伝達によりフィルムが均熱されるため、均一
性の良いエッチングをすることができる。
流れ方向に仕切り板を設置することにより、ガス流れが
一定方向に揃い圧力分布が発生しなくなるのと同時に、
板からの熱伝達によりフィルムが均熱されるため、均一
性の良いエッチングをすることができる。
【００２３】（実施例２）以下、本発明の第２の実施例
について図面を参照しながら説明する。
について図面を参照しながら説明する。
【００２４】図２において、１は有機フィルムを保持す
るためのヒーター付きの台である。２は被エッチング物
の有機フィルムである。５はオゾンガスの供給口であ
る。６はオゾンガスの排出口である。７は被エッチング
物のフィルムとのクリアランスを保つための上板であ
る。以上は図１の構成と同様なものである。図１の構成
と異なるのは、１０のスペーサーを適宜交換してクリア
ランスの高さを調整し、仕切り板９の上端が上板（有機
フィルム２に対向する壁）７に接触するようにし、これ
によって仕切り板９と上板７と被エッチング物の有機フ
ィルム２とで囲まれたスペース１１を設定するようにし
た点にある。
るためのヒーター付きの台である。２は被エッチング物
の有機フィルムである。５はオゾンガスの供給口であ
る。６はオゾンガスの排出口である。７は被エッチング
物のフィルムとのクリアランスを保つための上板であ
る。以上は図１の構成と同様なものである。図１の構成
と異なるのは、１０のスペーサーを適宜交換してクリア
ランスの高さを調整し、仕切り板９の上端が上板（有機
フィルム２に対向する壁）７に接触するようにし、これ
によって仕切り板９と上板７と被エッチング物の有機フ
ィルム２とで囲まれたスペース１１を設定するようにし
た点にある。
【００２５】本実施例の実験条件を（表３）に示す。
【００２６】
【表３】
【００２７】本実施例による実験結果を（図３）に示
す。以上のように、本実施例によれば、有機物と有機物
に対向する内壁とのクリアランスに、有機物に対向する
壁と接触するように有機物を仕切る板を設置することに
より、エッチングに使用されるオゾンガスが被エッチン
グ物のフィルムに接触しやすくなり、エッチング速度を
向上させることができる。
す。以上のように、本実施例によれば、有機物と有機物
に対向する内壁とのクリアランスに、有機物に対向する
壁と接触するように有機物を仕切る板を設置することに
より、エッチングに使用されるオゾンガスが被エッチン
グ物のフィルムに接触しやすくなり、エッチング速度を
向上させることができる。
【００２８】（実施例３）以下本発明の第３の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。
ついて図面を参照しながら説明する。
【００２９】図４において、１は有機フィルムを保持す
るためのヒーター付きの台である。２は被エッチング物
の有機フィルムである。５はオゾンガスの供給口であ
る。６はオゾンガスの排出口である。７は被エッチング
物のフィルムとのクリアランスを保つための板である。
８はオゾンガスの流れるクリアランスで、以上は図１の
構成と同様なものである。図１の構成と異なるのはフィ
ルムを固定する枠１３に加熱用ヒーター１２を設置した
点である。
るためのヒーター付きの台である。２は被エッチング物
の有機フィルムである。５はオゾンガスの供給口であ
る。６はオゾンガスの排出口である。７は被エッチング
物のフィルムとのクリアランスを保つための板である。
８はオゾンガスの流れるクリアランスで、以上は図１の
構成と同様なものである。図１の構成と異なるのはフィ
ルムを固定する枠１３に加熱用ヒーター１２を設置した
点である。
【００３０】本実施例の実験条件を（表４）に示す。
【００３１】
【表４】
【００３２】本実施例による実験結果を（図５）に示
す。以上のように、本実施例によれば、有機物を固定す
る枠を加熱することにより、被エッチング物のフィルム
を反応に適した温度に設定することができ、効率の良い
エッチングを行うことができる。
す。以上のように、本実施例によれば、有機物を固定す
る枠を加熱することにより、被エッチング物のフィルム
を反応に適した温度に設定することができ、効率の良い
エッチングを行うことができる。
【００３３】
【発明の効果】以上のように、第一の発明は、ガスの流
れ方向に平行に板を設置することにより、ガス流れが一
定方向に揃い圧力分布が発生しなくなるのと同時に、板
からの熱伝達によりフィルムが均熱されるため、均一性
の良いエッチングをすることができる。
れ方向に平行に板を設置することにより、ガス流れが一
定方向に揃い圧力分布が発生しなくなるのと同時に、板
からの熱伝達によりフィルムが均熱されるため、均一性
の良いエッチングをすることができる。
【００３４】また、第二の発明によれば、有機物と有機
物に対向する内壁とのクリアランスに、有機物に対向す
る内壁と接触するように有機物を仕切る板を設置するこ
とにより、エッチングに使用されるオゾンガスが被エッ
チング物のフィルムに接触しやすくなり、エッチング速
度を向上させることができる。
物に対向する内壁とのクリアランスに、有機物に対向す
る内壁と接触するように有機物を仕切る板を設置するこ
とにより、エッチングに使用されるオゾンガスが被エッ
チング物のフィルムに接触しやすくなり、エッチング速
度を向上させることができる。
【００３５】更に、第３の発明によれば、有機物を固定
する枠を加熱することにより、被エッチング物のフィル
ムを反応に適した温度に設定することができ、効率の良
いエッチングを行うことができる。
する枠を加熱することにより、被エッチング物のフィル
ムを反応に適した温度に設定することができ、効率の良
いエッチングを行うことができる。
【図１】本発明の第１の実施例におけるドライエッチン
グ装置の、左が正面断面を示し、右は側面断面を示す断
面図
グ装置の、左が正面断面を示し、右は側面断面を示す断
面図
【図２】同第２の実施例におけるドライエッチング装置
の、左が正面断面を示し、右は側面断面を示す断面図
の、左が正面断面を示し、右は側面断面を示す断面図
【図３】同実施例における実験結果を示す図
【図４】本発明の第３の実施例におけるドライエッチン
グ装置の、左が正面断面を示し、右が側面断面を示す断
面図
グ装置の、左が正面断面を示し、右が側面断面を示す断
面図
【図５】同実施例における実験結果を示す図
【図６】従来の有機物ドライエッチング装置の構成図
１ 台 ２ 有機フィルム ７ 上板（壁） ８ クリアランス ９ 仕切り板 １２ ヒータ １３ 枠
Claims (3)
- 【請求項１】 有機物を除去するために、大気圧下の容
器にオゾンガスを導入するドライエッチング方法におい
て、オゾンガスの流れ方向に対し平行に有機物を仕切る
板を備えたことを特徴とするドライエッチング方法。 - 【請求項２】 有機物と有機物に対向する壁とのクリア
ランスに、有機物に対向する壁と接触するように有機物
を仕切る板を設置するようにする請求項１記載のドライ
エッチング方法。 - 【請求項３】 有機物を固定する枠を加熱する機能を備
えさせるようにする請求項１または２記載のドライエッ
チング方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1275892A JPH05206084A (ja) | 1992-01-28 | 1992-01-28 | ドライエッチング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1275892A JPH05206084A (ja) | 1992-01-28 | 1992-01-28 | ドライエッチング方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05206084A true JPH05206084A (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=11814311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1275892A Pending JPH05206084A (ja) | 1992-01-28 | 1992-01-28 | ドライエッチング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05206084A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015016235A1 (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-05 | Ａｓｔｉ株式会社 | マイクロニードルアレイとマイクロニードルアレイ製造方法 |
-
1992
- 1992-01-28 JP JP1275892A patent/JPH05206084A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2015016235A1 (ja) * | 2013-07-30 | 2015-02-05 | Ａｓｔｉ株式会社 | マイクロニードルアレイとマイクロニードルアレイ製造方法 |
| JPWO2015016235A1 (ja) * | 2013-07-30 | 2017-03-02 | Ａｓｔｉ株式会社 | マイクロニードルアレイとマイクロニードルアレイ製造方法 |
| US10500386B2 (en) | 2013-07-30 | 2019-12-10 | Asti Corporation | Microneedle array manufacturing method |
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