JPH05201726A - フッ素系エッチング剤からフッ化カルシウムを回収する方法 - Google Patents

フッ素系エッチング剤からフッ化カルシウムを回収する方法

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JPH05201726A
JPH05201726A JP28923491A JP28923491A JPH05201726A JP H05201726 A JPH05201726 A JP H05201726A JP 28923491 A JP28923491 A JP 28923491A JP 28923491 A JP28923491 A JP 28923491A JP H05201726 A JPH05201726 A JP H05201726A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】フッ化水素又はこれとフッ化アンモニウムを主
成分とするエッチング剤から、未反応炭酸カルシウム及
びシリカ含有量の極めて少ない高純度フッ化カルシウム
を回収すること。 【構成】上記エッチング剤に於けるフッ化アンモニウム
/フッ化水素のモル当量比が1.0以下の組成域におい
て、50℃以上の温度で炭酸カルシウムを反応せしめる
こと。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】フッ化水素、又はこれとフッ化ア
ンモニウムを主成分とし、これに種々の化学的機能促進
の添加成分を含有するエッチング剤は、半導体製造分野
とその関連分野のエッチング工程のみならず、諸金属材
料、単結晶材料、光学系材料等の表面処理分野にも広く
用いられ、その需要の増大と共に、環境浄化特に資源回
収の観点から、その回収技術の必要性が高まってきた。
【0002】従って本発明の目的は、上記エッチング剤
からフッ素をフッ化カルシウムとして純化回収する技術
を確立し、再びフッ化水素製造用、金属精錬用、窯業用
等の工業資源として有効利用を可能ならしめようとする
ものである。
【0003】
【従来の技術】フッ素含有排水をカルシウム塩を用いて
処理する方法については数多くの技術が開発されてき
た。
【0004】しかしながら、フッ化アンモニウム含有液
をカルシウム塩を用いて処理する場合の反応機構は未だ
詳細に研究されたことが無く、従って現在もなお困難な
問題として未解明のまま残っている。
【0005】先ず、フッ素系排水処理技術について見る
と次の如くである。ステンレス表面フッ酸洗浄排水処理
として特開昭51−19364号、リン酸工程排水から
のフッ素及びリン除去処理として特公昭56−1012
0号、特公昭57−38985号、特公昭59−843
8号、半導体工程排水処理として特公昭56−1447
92号、特公昭60−48191号、特公昭61−25
690号、特公昭63−270595号が提示されてい
る。これらは何れも過剰のカルシウム塩を用い、一次,
二次処理あるいは共存成分の分離又は分離処理の組み合
わせにより、排水を浄化することを目的としているた
め、生成するフッ化カルシウムの純化は達成し得ない。
【0006】ケイフッ化水素酸溶液からコロイダルシリ
カを回収する目的で炭酸カルシウムを用いてフッ化カル
シウムを生成せしめ、濾液中にシリカを分離する技術と
してUSP2,780,521号およびUSP2,780,523号が提示
されているが、回収されたフッ化カルシウム純分は乾体
当たりCaF2 92%、SiO2 0.52%に止まって
いる。
【0007】湿式リン酸工程排水浄化技術として特開昭
50−142496号が、炭酸カルシウムを2段階添加
する方法を提示しているが、回収固体は鉱酸洗浄により
過剰炭酸カルシウムを除去している。
【0008】フッ素を含む排ガスの処理技術として、排
ガスを苛性カリに吸収せしめ、生成するフッ化カリウム
に1.0±0.2当量の水酸化カルシウムを添加して反
応させ、フッ化カルシウムを主とする沈殿と水酸化カリ
ウムを主とする溶液層を分離した後、沈殿層に酸を加え
て、未反応アルカリCa(OH)2 ,KOHを中和処理
する技術として、特公昭57−47132号が開示され
ている。この技術では1.0当量添加時KF反応率は9
0%であり、未反応物を多く含有するため塩酸中和が必
要であり、また残存フッ素イオン濃度は約900ppm
と高濃度であり、1.2当量の過剰当量添加により20
0ppmに低減されている。
【0009】また含フッ素アンモニア性廃液の処理技術
として消石灰を二段添加する方法が特開昭58−463
55号に開示されている。すなわち第1段でフッ素に対
しわずかに少ない消石灰を添加して高品位フッ化カルシ
ウムを沈殿分離し、第2段で残存するフッ素に2当量の
消石灰をさらに添加して低品位フッ化カルシウムを沈殿
分離してこれを第1段工程に戻し、残液を蒸留してアン
モニアを回収する方法である。
【0010】しかしながら、本発明の対象としているフ
ッ化水素、またはこれとフッ化アンモニウムを含む処理
液に対しては、消石灰を用いる方法は不適当である。す
なわち、エッチング液中に存在するケイフッ化水素イオ
ンは、消石灰と反応してシリカ分はほとんどすべて生成
するフッ化カルシウム中に含有され、その高純度化を阻
害する。
【0011】このように、従来技術の何れも後述するよ
うな本発明が解決しようとする領域及び達成しようとす
る目的を満足するものではない。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、フッ化水
素、又はフッ化水素とフッ化アンモニウムを主成分とす
るエッチング剤から、炭酸カルシウムを用いて純粋なフ
ッ化カルシウムを回収することを目的としているが、解
決しなければならない課題の一つは未反応の炭酸カルシ
ウムの含有率を極小ならしめることであり、他の一つは
通常エッチングプロセスから導入されて来るケイフッ化
水素酸と炭酸カルシウムの反応により生成するシリカの
含有率を極小ならしめることである。夫々の課題の問題
点をさらに述べる。
【0013】対象とするエッチング剤の組成領域:
【0014】例えばフッ化水素・フッ化アンモニウム系
エッチング剤の主要応用分野である半導体製造プロセス
では、50%HFと40%NH4F を原液として極めて
多様なエッチング組成が用いられている。図1にはその
代表例を●印組成で示している。フッ化水素濃度0.5
%付近からフッ化アンモニウム濃度40%まで、各種エ
ッチング剤の、フッ化アンモニウム/フッ化水素モル当
量比は0から無限大にわたり、したがって溶液中のフッ
素の化学種も、未解離HF,F- イオン,HF2 -イオン
と各種存在し、炭酸カルシウムとの反応機構も単一では
ない。炭酸カルシウムの反応率を最適化しうる組成領域
の有無について、従来研究された例はないので本発明は
まずこれを明らかにしなければならない。
【0015】
【図1】
【0016】回収されたフッ化カルシウムに未反応炭酸
カルシウムが含有されるときの資源価値を最も代表的な
利用の用途であるフッ化水素製造原料について示すと次
の如くである。フッ化カルシウムと硫酸を加熱してフッ
化水素酸を発生せしめる反応1[化1]に併行して、共
存炭酸カルシウムは反応2[化2]を進行する。()内
は物量比を示している。
【0017】
【化1】
【0018】
【化2】
【0019】すなわち、炭酸カルシウムは硫酸を消費
し、フッ化水素ガスに水分と炭酸ガスを含有せしめると
同時に、その処理のために種々物量,熱量の消費を伴
う。このため、仮にフッ化カルシウムに1.0%の炭酸
カルシウムが含有されると、フッ化カルシウム純分で約
3%に相当するコスト損失を招くことになる。したがっ
て炭酸カルシウム反応率の最適化は、回収プロセスのみ
ならず、再利用プロセスも含めて重要な経済的な問題で
ある。
【0020】エッチング剤中のケイフッ化水素:
【0021】フッ素系エッチング剤は特にシリコン化合
物に対する反応性に優れているため、単結晶シリコン,
シリコン半導体デバイスを始め、石英,ガラスその他シ
リコン含有物質のエッチングやクリーニングに用いら
れ、エッチング液中にケイフッ化水素酸が存在している
ことが多い。エッチング剤中フッ素イオンとカルシウム
塩の反応に併行して、反応3[化3]によるケイフッ化
水素イオンからシリカの析出が知られている。
【0022】
【化3】
【0023】シリカ分の含有される回収フッ化カルシウ
ムを、フッ化水素製造原料に利用するときの資源価値に
ついて述べれば次の如くである。シリカ及びフッ化カル
シウムは硫酸と吸熱反応し、次式4[化4]によりケイ
フッ化水素酸を生成する。()内は物量比を示す。
【0024】
【化4】
【0025】すなわち、例えばフッ化カルシウムに、
1.0%のシリカが含有されるとき、3.9%のCaF
2 ,4.9%のH2SO4 および熱量を消費し、なお副
生する2.4%のH2SiF6 を除害処理するプロセス
及び原材料の消費を必要とし、総合的にフッ化カルシウ
ム純分で約10〜15%に相当するコスト損失を招く。
したがって、回収フッ化カルシウム中シリカ含有率を最
小化することは、再利用価値に極めて大きく寄与するの
である。
【0026】
【課題を解決するための手段】フッ化水素およびフッ化
アンモニウムを主成分とするエッチング剤の組成と炭酸
カルシウムの反応性の関係は、従来明らかにされていな
い。図1には全組成域を、フッ化アンモニウムモル濃度
/フッ化水素モル濃度([NH4F]/[HF]で表
す)で整理しているが、この中から代表的な3組成につ
いての化学反応式5〜9[化5]〜[化9]を示すと下
記の如くである。
【0027】HF−H2O2成分系:[NH4F]/[H
F]=0
【0028】
【化5】
【0029】HF−NH4F−H2O3成分系:[NH4
F]/[HF]=1
【0030】
【化6】
【0031】
【化7】
【0032】NH4F−H2O2成分系:[NH4F]/
[HF]=∞
【0033】
【化8】
【0034】
【化9】
【0035】夫々の組成において、反応の原系と生成系
のイオン種は異なっており、反応は夫々の反応速度及び
反応平衡恒数において進行するであろうことが予想され
る。発明者は全組成域すなわち各[NH4F]/[H
F]比および各濃度における反応調査を行い、得られた
知見を図2に示した。但し、図2は以下の条件で測定し
たものである。
【0036】炭酸カルシウム添加量:CaCO3 純分で
液中フッ素に1.00当量 反応条件:液温70℃で炭酸カルシウム添加。 夫々の濃度における反応熱により、最高85℃に昇温す
る条件下に1時間保持後、固液分離
【0037】
【図2】
【0038】炭酸カルシウムは処理液中フッ素に化学当
量添加され、反応温度は70℃である。この結果から、
[NH4F]/[HF]比が1.0以下の組成域におい
て、処理液中全HF濃度1.0〜10.0%の範囲にわ
たり97%以上の反応率を達成し得ることが明らかとな
った。
【0039】また、処理液中に予めフッ化カルシウムが
存在しているとき、種子作用により、反応率が上昇する
効果がある。
【0040】図3は反応率に対する温度効果を示してい
る。この結果から液温は50℃以上好ましくは70℃以
上で処理するのが効果的であることが明らかである。但
し、図3中の記号は夫々以下のことを示す。また、Ca
CO3 の純分として液中全HFに対して1.00当量添
加、各温度で1時間保持した。
【0041】
【0042】
【図3】
【0043】次に、ケイフッ化水素酸と炭酸カルシウム
の反応性についての基礎的研究結果について示す。化学
反応は反応10[化10]の如くであり、右辺に生成す
るSiO2 が反応後の液中に溶解するか析出するかは、
生成フッ化カルシウムを分離した溶液中SiO2 濃度分
析によって知ることが出来る。
【0044】
【化10】
【0045】図4は、フッ化水素・ケイフッ化水素酸2
成分系について、調査した結果を示しており、HFとH
2SiF6がF濃度において等濃度存在していても、全フ
ッ素がCaF2 として分離された液中に、SiO2 濃度
は初濃度のまま残存していることが認められ、炭酸カル
シウムを用いることによる精製効果が明確に認められ
た。但し、図4におけるa,b,c及びその測定条件は
夫々以下のとおりである。
【0046】a:[化11]
【0047】
【化11】
【0048】b:[化12]
【0049】
【化12】
【0050】c:[化13]
【0051】
【化13】
【0052】液組成: HF 500ppm H2SiF6 600ppm (HF 500ppm,SiO2 250ppm) 反応温度:室温
【0053】
【図4】
【0054】図5は、HF−NH4F−H2O3成分系全
域にわたってSiO2 濃度変化を調査した結果である。
処理液中全HF濃度は1.0%〜2.0%,SiO2
度は200ppm〜400ppmであり、液温70℃に
おいてF濃度に化学当量の炭酸カルシウムを添加し、生
成するフッ化カルシウムを分離した液中からのSiO2
除去率を示している。炭酸カルシウムによる精製効果
は、[NH4F]/[HF]比が変化しても全くこれに
依存しないことを明らかにすることが出来た。同一条件
で、炭酸カルシウムに代えて水酸化カルシウムを用いる
時は、ほとんどのSiO2 はフッ化カルシウム中に含有
され、SiO2 除去率は極めて大きい値となることを図
中に対比して示した。尚、図5に於ける条件は以下の通
り。
【0055】炭酸カルシウム又は水酸化カルシウム添加
量: CaCO3 またはCa(OH)2 純分で液中フッ素に
1.00当量 反応条件:液温70℃で炭酸カルシウム又は水酸化カル
シウム添加。 1時間保持後、固液分離。 反応原液中全HF濃度:1.0〜2.0% 反応原液中SiO2 濃度:0.02〜0.04%
【0056】
【図5】
【0057】以上により、本発明の目的を達成するため
に必要な手段の基本的条件を明らかにすることが出来
た。
【0058】
【発明の構成並びに作用】フッ化水素、又は/及びフッ
化アンモニウム系エッチング剤を使用する工程の組成、
濃度条件は、夫々の業種において各様であり、また必要
に応じて変化してゆくと思われるが、図1に示した組成
域を離れることはない。この組成域において[NH
4F]/[HF]が1.0以下の領域において、炭酸カ
ルシウムを用いて高純度フッ化カルシウムの回収が可能
である。
【0059】一般に半導体製造プロセスは、HF−H2
O 2成分系エッチング工程とHF−NH4F−H2O3
成分系エッチング工程が併存しており、全体としての平
均組成は[NH4F]/[HF] が1.0以下となるの
が常であり、回収系列の統合により本発明の適用が可能
である。その他の業種において、[NH4F]/[H
F]が1.0以上の場合においても、他の[NH4F]
/[HF] が1.0以下或いはHF−H2O 2成分系
処理業種と統合処理が可能な場合は本発明の適用が可能
である。
【0060】エッチング剤の移送方向と炭酸カルシウム
の移送方向を向流とする反応方式を用いるときは、更に
広い組成域において高純度フッ化カルシウムの回収が可
能である。この向流反応方式を実施する具体的手段とし
て、回分式多段処理設備あるいは連続式向流処理設備の
いづれを用いてもよい。多段回分式の例として3段処理
を図6について示す。
【0061】
【図6】
【0062】炭酸カルシウムは第1段に供給された後固
液分離して第2段に供給し、反応後再び固液分離して第
3段に供給されエッチング剤と接触した後、回収フッ化
カルシウムとして回収される。
【0063】処理されるエッチング剤は第3段反応槽中
で第2段反応槽で回収されたフッ化カルシウムと接触
し、未分解炭酸カルシウムと反応せしめた後、第2段反
応槽に供給され、第1段反応槽から供給される炭酸カル
シウムと反応せしめた後、第1段反応槽に供給され、新
たに供給される炭酸カルシウムと接触した後排出され
る。
【0064】処理液はフッ素濃度が低く、第3段反応槽
を用いなくても、フッ化カルシウム純分が充分高く、或
いは第1段反応槽を用いずとも排出液中フッ素濃度が充
分低いとき、第1段あるいは第3段を省略し得ることは
勿論である。
【0065】連続式向流処理設備を例示すると図7の如
くである。処理槽は2段の多孔板によって3室に構成さ
れ、各室に撹拌機を備えている。処理液は処理槽の下室
に供給され、上室から排出される。炭酸カルシウムは上
室に供給され、中室を通り下室に向かい、完全にフッ化
カルシウムとなって下室から回収される。すなわち回分
式多段処理設備の第1段、第2段、第3段と連続式向流
処理設備の上室、中室、下室の向流機能は対応してい
る。エッチング剤中フッ素に化学当量の炭酸カルシウム
は、先ず第1段あるいは上室で、処理液中未反応のフッ
素濃度を低減した後、第2段あるいは中室に供給され、
反応平衡に達した後、第3段あるいは下室に供給され、
エッチング剤原液と接触して未反応炭酸カルシウムがフ
ッ化カルシウムに転化され、高純度フッ化カルシウムと
して回収される。
【0066】
【図7】
【0067】回収フッ化カルシウムの一部を、第1段あ
るいは上室にフィードバックして、フッ化カルシウム生
成の種子とすることにより、回収フッ化カルシウムの結
晶粒子性状を良好ならしめ、沈降性・固液分離性を高
め、また再利用価値を高めることが可能である。
【0068】以下に本発明の構成並びに効果を具体的に
実施例によって述べる。
【0069】炭酸カルシウムは比表面積2000〜60
00cm2/gの粉末を20〜30%濃度スラリーとし
て用いた。エッチング剤に対する添加量はCaCO3
分として液中フッ素量に対し正確に1.00当量とし
た。比較例として水酸化カルシウムを用いる場合も、C
a(OH)2 純分として化学当量とした。ただし、向流
反応方式においては、「1.00当量−排出未反応フッ
素当量」とすることは勿論である。
【0070】回収フッ化カルシウムは固液分離後水洗を
行って反応液成分を除去し、連続処理のときは水洗液は
処理液にリターンした。
【0071】反応液中フッ素濃度は、フッ素蒸留分離−
フッ素イオンメーター法により、シリカ濃度はICPマ
ススペクトロメトリーで測定した。回収フッ化カルシウ
ムは600℃加熱して無水物とした後、フッ化カルシウ
ム純分はフッ素蒸留分離−トリウム滴定法、未反応炭酸
カルシウム分は酢酸溶解法、シリカはICPスペクトロ
メトリーにより測定した。
【0072】
【実施例1】
【0073】フッ化水素酸系エッチング剤を70℃に加
温し、炭酸カルシウムスラリーを添加して1時間反応せ
しめた後、固液分離してフッ化カルシウムを回収した。
【0074】フッ化アンモニウムを含有しない組成域の
ため、炭酸カルシウムの反応率は高く、またシリカ分は
殆ど液中に残存し、回収フッ化カルシウムの純分は9
9.7%に達した。比較として水酸化カルシウムスラリ
ーを添加し同一条件で処理した値を示したが、シリカ分
は殆ど回収フッ化カルシウム中に含有され約分は98.
8%であった。
【0075】Run1:炭酸カルシウムによる実施例 Run2:水酸化カルシウムによる比較例
【0076】
【表1】
【0077】
【実施例2】
【0078】フッ化水素・フッ化アンモニウム系エッチ
ング剤を70℃に加温し、炭酸カルシウムスラリーを加
え1時間反応せしめた後、固液分離してフッ化カルシウ
ムを回収した。
【0079】[NH4F]/[HF]1.00以下のと
き、フッ化カルシウム純分は97%以上であり、シリカ
分は殆ど液中に残存した。水酸化カルシウムスラリーを
用いた場合は比較例に示すように、シリカ分は殆どフッ
化カルシウムと共に回収された。
【0080】Run1,Run2:炭酸カルシウムによ
る実施例 ※Run3,Run4:水酸化カルシウムによる比較例
【0081】
【表2】
【0082】
【実施例3】
【0083】回分式3段向流処理設備を用いて、エッチ
ング剤と炭酸カルシウムを向流方向に供給してフッ化カ
ルシウム回収処理を行った。処理液の各槽滞留時間は1
時間であった。
【0084】このような向流処理により回収フッ化カル
シウムの純分は単段処理の場合より著しく向上し、エッ
チング剤組成が[NH4F]/[HF]比で最大である
フッ化アンモニウム組成のときでも99.5%に達し、
しかもシリカ除去効果は単独処理の場合と全く同様であ
った。また処理温度が常温であっても第3段処理槽で未
分解炭酸カルシウム除去が効果的に達成された。排出液
中未反応フッ素濃度は第1段処理槽で効果的に低減され
た。
【0085】
【表3】
【0086】
【実施例4】
【0087】連続式向流処理設備を用いて、エッチング
剤と炭酸カルシウムを向流方向に供給してフッ化カルシ
ウム回収処理を行った。処理温度は70℃、処理液の各
室滞留時間は1時間であった。
【0088】連続向流処理と回分式3段向流処理は設備
は異なるが、本質的な向流反応様式は同一であって、全
く同様の効果が得られることが表4の実施例で明らかと
なった。
【0089】
【表4】
【0090】
【実施例5】
【0091】フッ化水素又はフッ化水素・フッ化アンモ
ニウム系エッチング剤に、種々のエッチング助剤が配合
されている系の排水について、夫々炭酸カルシウムを加
えて70℃で反応せしめ、1時間後に固液分離してフッ
化カルシウムを回収した。夫々のエッチング助剤の代表
的な配合組成を表5に示し、処理原液組成を表6に示し
た。エッチング助剤の配合されていない場合と比較し
て、反応状況及び炭酸カルシウム反応率に全く差異を認
めず、これら助剤の共存時にも本発明の適用が可能であ
ることが明らかとなった。
【0092】
【表5】
【0093】
【表6】
【0094】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1はフッ化水素−フッ化アンモニウム−水3
元素組成の組成図である。
【0095】
【図2】図2はフッ化水素・フッ化アンモニウム組成域
における炭酸カルシウムの反応性を示す説明図である。
【0096】
【図3】図3は反応率と温度との関係を示すグラフであ
る。
【0097】
【図4】図4はフッ化水素酸・ケイフッ化水素酸等モル
組成域の組成図である。
【0098】
【図5】図5はフッ化水素・フッ化アンモニウム系エッ
チング剤と炭酸カルシウム又は水酸化カルシウムの反応
において生成するフッ化カルシウム中へのシリカの析出
率を示すグラフである。
【0099】
【図6】図6は回分式3段処理の1例を示すフローシー
トである。
【0100】
【図7】図7は連続式向流処理の1例を示すフローシー
トである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大見 忠弘 宮城県仙台市青葉区米ヶ袋2丁目1番17− 301 (72)発明者 原田 宙幸 東京都練馬区西大泉2−25−43 (72)発明者 三木 正博 大阪府大阪市阿倍野区帝塚山一丁目23番14 −521 (72)発明者 福留 敏郎 大阪府南河内郡千早赤阪村大字小吹68− 335 (72)発明者 前野 又五郎 大阪府和泉市光明台2−42−6 (72)発明者 寺沢 則男 東京都千代田区内神田1丁目1番14号 日 立プラント建設株式会社内 (72)発明者 恵藤 良弘 東京都新宿区西新宿3丁目4番7号 栗田 工業株式会社内 (72)発明者 阪田 正博 東京都新宿区西新宿3丁目4番7号 栗田 工業株式会社内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】フッ化水素、又はフッ化水素およびフッ化
    アンモニウムを主成分とするエッチング剤から、フッ素
    をフッ化カルシウムとして回収する方法において、フッ
    化アンモニウム/フッ化水素のモル当量比が1.0以下
    の組成域において、50℃以上の温度で炭酸カルシウム
    を反応せしめて、未反応炭酸カルシウム含有率が約3%
    以下であり、シリカ含有率の少ない高純度フッ化カルシ
    ウムを回収することを特徴とするフッ化カルシウムを回
    収する方法。
  2. 【請求項2】フッ化水素、又はフッ化水素およびフッ化
    アンモニウムを主成分とするエッチング剤から、フッ素
    をフッ化カルシウムとして回収する方法において、エッ
    チング剤の移送方向と炭酸カルシウムの移送方向を向流
    としながら反応せしめて、未反応炭酸カルシウム含有率
    が約1%以下であり、シリカ含有率の少ない高純度フッ
    化カルシウムを回収する方法。
  3. 【請求項3】フッ化水素、又はフッ化水素およびフッ化
    アンモニウムを主成分とし、これに不溶性カルシウム塩
    を形成しないエッチング助剤、例えば硝酸,塩酸,酢
    酸,過酸化水素,界面活性剤等を夫々あるいは混合して
    配合されたエッチング剤から、請求項1または請求項2
    の処理によって高純度フッ化カルシウムを回収する方
    法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009196858A (ja) * 2008-02-22 2009-09-03 Ebara Corp 合成蛍石回収方法及び回収装置
JP2017531625A (ja) * 2014-09-12 2017-10-26 ジェネンテック, インコーポレイテッド アントラサイクリンジスルフィド中間体、抗体−薬物複合体、及び方法

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