JPH05198268A - バケット型イオン源装置 - Google Patents

バケット型イオン源装置

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Publication number
JPH05198268A
JPH05198268A JP2723892A JP2723892A JPH05198268A JP H05198268 A JPH05198268 A JP H05198268A JP 2723892 A JP2723892 A JP 2723892A JP 2723892 A JP2723892 A JP 2723892A JP H05198268 A JPH05198268 A JP H05198268A
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JP
Japan
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potential
lid plate
power supply
source device
arc power
Prior art date
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Pending
Application number
JP2723892A
Other languages
English (en)
Inventor
Koji Miyake
浩二 三宅
Hideaki Tawara
英明 田原
Katsuo Matsubara
克夫 松原
Shuichi Nogawa
修一 野川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissin Electric Co Ltd
Original Assignee
Nissin Electric Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05198268A publication Critical patent/JPH05198268A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 熱フィラメントを電子放出源とするバケット
型イオン源装置において、プラズマ中のイオンによる蓋
板のスパッタに伴う装置寿命の低下,イオンビームの不
純物混入を防止して熱フィラメントの長寿命化を図る。 【構成】 直流放電用のアーク電源13の正極に接続さ
れたアークチャンバ筺体1のイオンビーム引出電極群4
に対向する側の開口部に、電気的絶縁体19を介して蓋
板8を取付け、この蓋板8を筺体1から電気的に絶縁す
る。また、筺体1のイオンビーム引出電極群4に対向す
る側の開口部に電気的絶縁体19を介して蓋板8を取付
け、アーク電源13の負極と蓋板8との間に蓋板8を筺
体1内のプラズマ電位より低くアーク電源13の負極の
カソード電位より高い電位に保持するスパッタ抑制電源
21(電位固定手段)を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、熱フィラメントを電子
放出源とするバケット型イオン源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、イオンビームスパッタリング,イ
オンビームミキシング,イオンアシスト等に用いられる
この種バケット型イオン源装置は、図4に示すように構
成される。同図において、1はステンレス等の非磁性体
金属製のアークチャンバ筐体、2は筐体1が形成する放
電室、3は放電室2にカスプ磁場を発生する環状体構成
の複数個の永久磁石、4は筐体1の右側開口部に設けら
れたイオンビーム引出電極群であり、メッシュ状の正電
極5,負電極6及びアースされた接地電極7からなる。
【0003】8は電極群4に対向する筐体1の左側開口
部に取付けられた筐体1と同一金属製の蓋板、9は蓋板
8に形成されたガス導入口、10は放電室2内に設けら
れた電子放出源としての熱フィラメント、11は正,負
の両極が蓋板8に取付けられた電気的絶縁体12を介し
て熱フィラメント10の両端それぞれに接続されたフィ
ラメント電源である。
【0004】13は正極が筐体1に接続された直流放電
用のアーク電源であり、負極がフィラメント電源11の
負極に接続されている。14は正極がアーク電源13の
負極に接続された加速電源であり、負極はアースされて
いる。15は加速電源14の正極と正電極5との間に設
けられた高抵抗値の抵抗、16は負極が負電極6に接続
された減速電源であり、正極はアースされている。
【0005】そして、ガス導入口9から放電室2内に中
性ガスを導入し、フィラメント電源11により熱フィラ
メント10を通電加熱して一次電子(熱電子)eを発生
させ、かつ、アーク電源13の直流電圧により筐体1を
アノード電位,熱フィラメント10をカソード電位する
と、直流放電により中性ガスが電離してプラズマ17が
生成され、このプラズマ17は永久磁石3が形成する磁
場により閉じ込められて高密度化される。さらに、引出
電極群4によりプラズマ17中のイオンガスが引出さ
れ、イオンビーム18が形成される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】前記図4の従来装置の
場合、引出電極群4に対向する側の蓋板8が筐体1と同
様、アーク電源13の正極のアノード電位に固定される
ため、熱フィラメント10から放出される一次電子eの
一部が蓋板8に吸引されて電離効率が低下する。
【0007】したがって、所望ビーム電流量のイオンビ
ーム18を得るために多量の電子放出が必要になり、熱
フィラメント10を流れる電流量が多く、このフィラメ
ント10の長寿命化が図れない問題点がある。本発明
は、熱フィラメントの長寿命化を図ることを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明のバケット型イオン源装置においては、請
求項1の場合、直流放電用のアーク電源の正極に接続さ
れたアークチャンバ筐体のイオンビーム引出電極群に対
向する側の開口部に、電気的絶縁体を介して蓋板を取付
け、この蓋板を筐体から電気的に絶縁する。
【0009】また、請求項2の場合、直流放電用のアー
ク電源の正極に接続されたアークチャンバ筐体のイオン
ビーム引出電極群に対向する側の開口部に、電気的絶縁
体を介して蓋板を取付け、アーク電源の負極と蓋板との
間に、この蓋板を筐体内のプラズマ電位より低くアーク
電源の負極のカソード電位より高い電位に保持する電位
固定手段を設ける。
【0010】
【作用】前記のように構成された本発明のバケット型イ
オン源装置の場合、請求項1の構成においては、アーク
チャンバ筐体のビーム引出電極群に対向する位置に取付
けられた蓋板がアーク電源の正極に接続されたアークチ
ャンバ筐体から電気的に絶縁され、その電位が筐体内の
プラズマ電位より低くアーク電源の負極のカソード電位
より高いフローティング電位になる。
【0011】そして、プラズマ電位(アノード電位)よ
り低くなるため、蓋板が熱フィラメントから放出された
電子に対して反射電極として作用し、電子の放電室内へ
の閉じ込め効果が向上して電離効率が高くなり、熱フィ
ラメントの長寿命化が図られる。
【0012】しかも、蓋板の電位がカソード電位より高
くなるため、プラズマ中のイオンによる蓋板のスパッタ
が少なく、筐体内の絶縁不良やプラズマへの不純物の混
入が防止される。
【0013】また、請求項2の構成においては、蓋板が
筐体から電気的に絶縁され、かつ、電位固定手段により
プラズマ電位より低く負極のカソード電位より高い電位
に固定される。そのため、請求項1の構成の場合と同
様、筐体内の絶縁不良やプラズマへの不純物の混入を防
止して熱フィラメントの長寿命化が図れる。
【0014】しかも、電位固定手段により蓋板の電位を
調整して最適化できる利点もある。
【0015】
【実施例】実施例について、図1ないし図3を参照して
説明する。 (第1の実施例)まず、第1の実施例について、図1及
び図2を参照して説明する。図1において、図4と同一
符号は同一もしくは相当するものを示し、図4と異なる
点は、蓋板8を電気的絶縁体19を介して筐体1の左側
開口部に取付け、蓋板8を筐体1から電気的に絶縁し、
かつ、蓋板8を抵抗20を介してアーク電源13の負極
に接続した点である。
【0016】この場合、蓋板8はアーク電源13の正極
に接続された筐体1のアノード電位から絶縁され、プラ
ズマ17の電位(プラズマ電位)より低くアーク電源1
3の負極のカソード電位より高いフローティング電位に
なる。このフローティング電位は図2のVxに示すよう
に、プラズマ電位Vpより低くカソード電位Vkより高
い電位になる。
【0017】図2の実線は蓋板8の位置を0(基準)に
した図1の実施例装置の左右(横)方向の電位変化を示
し、図中のLは絶縁体19と筐体1との接合位置を示
す。そして、蓋板8の電位がプラズマ電位より低くなる
ため、蓋板8が熱フィラメント10から放出された電子
eに対して反射電極として作用し、電子eの放電室2内
への閉じ込め効果が向上して電離効率が高くなり、熱フ
ィラメント10を流れる電流が少なくなってその長寿命
化が図られる。
【0018】さらに、蓋板8の電位がカソード電位より
高くなるため、蓋板8をアーク電源13の負極に直接接
続してカソード電位に固定する場合より蓋板8からのス
パッタの発生が減少して装置寿命が長くなり、しかも、
イオンビーム18の不純物の混入が防止される。
【0019】すなわち、蓋板8をカソード電位に固定し
た場合、装置内の左右方向の電位変化は図2の破線に示
すようになり、この場合、蓋板8の電位とプラズマ電位
との差が大きく、プラズマ17中から蓋板8に衝突する
イオンのエネルギが大きいため、このイオン衝突による
蓋板8からのスパッタ量が多く、絶縁体19の表面にス
パッタ粒子が付着して絶縁不良が容易に発生し、装置寿
命が短くなる。
【0020】しかも、イオンビーム18に不純物として
混入するスパッタ粒子が多く、ビーム品質の向上が図れ
ない。一方、実施例装置の場合、蓋板8の電位とプラズ
マ電位との差が小さく、プラズマ17中から蓋板8に衝
突するイオンのエネルギが小さくなるため、イオン衝突
による蓋板8からのスパッタ量が少なく、絶縁不良が発
生しなくなって装置寿命が長くなる。
【0021】さらに、イオンビーム18に混入する不純
物としてのスパッタ粒子が減少しビーム品質が向上す
る。したがって、蓋板のスパッタに伴う装置寿命の低
下,イオンビーム18の不純物混入を防止して熱フィラ
メント10の長寿命化が図れる。ところで、抵抗20の
抵抗値を大きくして無限大にしても、蓋板8はプラズマ
電位より低くカソード電位より高いフローティング電位
になる。
【0022】この場合、装置構成は図1から抵抗20を
省いた最も簡素な請求項1の構成になる。また、抵抗2
0を設ける代わりに蓋板8を抵抗15を介してアーク電
源13の負極に接続し、抵抗15を抵抗20に兼用する
ようにしてもよい。
【0023】(第2の実施例)つぎに、第2の実施例に
ついて、図3を参照して説明する。図3において、図1
と異なる点は図1の抵抗20の代わりに電位固定手段と
してのスパッタ抑制電源21を設け、この電源21の正
極を蓋板8に接続し、負極をアーク電源13の負極に接
続した点である。
【0024】この場合、スパッタ抑制電源21の電圧設
定により、蓋板8の電位はプラズマ電位より低くカソー
ド電位より高い任意の電位に固定される。そのため、蓋
板8の電位をスパッタ粒子の発生が最も少なくなるよう
に調整して最適化できる利点がある。
【0025】なお、熱フィラメント10は放電室2内の
両実施例と異なる位置に設けられていてもよい。また、
電位固定手段等の構成は実施例に限定されるものではな
い。
【0026】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているため、以下の効果を奏する。まず、請求項1の構
成においては、アークチャンバ筐体1のビーム引出電極
群4に対向する位置に取付けられた蓋板8が電気的絶縁
体19によりアーク電源13の正極に接続された筐体1
から電気的に絶縁され、蓋板8の電位が筐体1内のプラ
ズマ電位より低くアーク電源13の負極のカソード電位
より高いフローティング電位になる。そして、プラズマ
電位(アノード電位)より低くなるため、蓋板8が熱フ
ィラメント10から放出された電子に対して反射電極と
して作用し、電子の閉じ込め効果が向上して電離効率が
高くなり、熱フィラメント10が長寿命化する。
【0027】しかも、蓋板8の電位がカソード電位より
高く、カソード電位にした場合よりプラズマ電位との電
位差が小さくなるため、プラズマ17中のイオンの衝突
エネルギが小さく、蓋板8のスパッタが少なく、筐体1
内の絶縁不良やイオンビーム18への不純物の混入が防
止される。そのため、装置寿命の低下,イオンビーム1
8の品質劣化を防止して熱フィラメント10の長寿命化
が図れる。
【0028】また、請求項2の構成においては、蓋板8
が筐体1から電気的に絶縁され、かつ、電位固定手段に
よりプラズマ電位より低くアーク電源13の負極のカソ
ード電位より高い電位に固定されるため、請求項1の場
合と同様の効果が得られ、しかも、電位固定手段の電圧
設定により、蓋板の電位を最適値に調整できる利点があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のバケット型イオン源装置の第1の実施
例の構成図である。
【図2】図1の電位変化の説明図である。
【図3】本発明の第2の実施例の構成図である。
【図4】従来装置の構成図である。
【符号の説明】
1 アークチャンバ筐体 4 イオンビーム引出電極群 8 蓋板 10 熱フィラメント 13 アーク電源 17 プラズマ 19 電気的絶縁体 21 スパッタ抑制電源
フロントページの続き (72)発明者 野川 修一 京都市右京区梅津高畝町47番地 日新電機 株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 熱フィラメントを電子放出源とするバケ
    ット型イオン源装置において、 直流放電用のアーク電源の正極に接続されたアークチャ
    ンバ筐体のイオンビーム引出電極群に対向する側の開口
    部に、電気的絶縁体を介して蓋板を取付け、 前記蓋板を前記筐体から電気的に絶縁したことを特徴と
    するバケット型イオン源装置。
  2. 【請求項2】 熱フィラメントを電子放出源とするバケ
    ット型イオン源装置において、 直流放電用のアーク電源の正極に接続されたアークチャ
    ンバ筐体のイオンビーム引出電極群に対向する側の開口
    部に、電気的絶縁体を介して蓋板を取付け、 前記アーク電源の負極と前記蓋板との間に、前記蓋板を
    前記筐体内のプラズマ電位より低く前記アーク電源の負
    極のカソード電位より高い電位に保持する電位固定手段
    を設けたことを特徴とするバケット型イオン源装置。
JP2723892A 1992-01-17 1992-01-17 バケット型イオン源装置 Pending JPH05198268A (ja)

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JP2723892A JPH05198268A (ja) 1992-01-17 1992-01-17 バケット型イオン源装置

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JPH05198268A true JPH05198268A (ja) 1993-08-06

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JP (1) JPH05198268A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003203577A (ja) * 2003-02-05 2003-07-18 Nissin Electric Co Ltd プラズマ源装置
US7797016B2 (en) 2002-08-07 2010-09-14 Extricom Ltd. Wireless LAN with central management of access points

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7797016B2 (en) 2002-08-07 2010-09-14 Extricom Ltd. Wireless LAN with central management of access points
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