JPH05194741A - オルガノポリシロキサンの精製法 - Google Patents
オルガノポリシロキサンの精製法Info
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- JPH05194741A JPH05194741A JP4172215A JP17221592A JPH05194741A JP H05194741 A JPH05194741 A JP H05194741A JP 4172215 A JP4172215 A JP 4172215A JP 17221592 A JP17221592 A JP 17221592A JP H05194741 A JPH05194741 A JP H05194741A
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- organopolysiloxanes
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- organopolysiloxane
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/32—Post-polymerisation treatment
- C08G77/34—Purification
Abstract
(57)【要約】
【目的】 オルガノポリシロキサンの製造とは無関係
に、全てのオルガノポリシロキサンに適当で、不均一な
触媒を何度も使用でき、かつ廃棄物処理の問題を生じな
いようなオルガノポリシロキサンの精製法。 【構成】 オルガノポリシロキサンを、その製造後に元
素状金属を用いて処理。
に、全てのオルガノポリシロキサンに適当で、不均一な
触媒を何度も使用でき、かつ廃棄物処理の問題を生じな
いようなオルガノポリシロキサンの精製法。 【構成】 オルガノポリシロキサンを、その製造後に元
素状金属を用いて処理。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、オルガノポリシロキサ
ンを、その製造後に精製する方法に関する。
ンを、その製造後に精製する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】短鎖状のオルガノ（ポリ）シロキサンか
らのオルガノポリシロキサンの製造は、Ｗ．Ｎｏｌｌ、
Ｃｈｅｍｉｅ ｕｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ ｄｅ
ｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ、第２版、１９６８年、５．４章
中に詳細に記載されている。製造条件では、自体無色
で、清澄で、無臭でかつ不活性のオルガノポリシロキサ
ンは、不純物を含有していてよく、この不純物は、殊に
高温貯蔵の際の変色、後混濁、触媒の阻害、例えば白金
との付加反応、熱安定性の欠如、電気的放電破壊強度の
欠如または殊に照射後の臭いの形成を惹起する。不純物
は、均一な触媒、例えばＰＮＣｌ2の使用の際に生じる
ばかりでなく、不均一な触媒、例えば酸性漂白土の使用
の際にもほとんど回避することができない。
らのオルガノポリシロキサンの製造は、Ｗ．Ｎｏｌｌ、
Ｃｈｅｍｉｅ ｕｎｄ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅ ｄｅ
ｒ Ｓｉｌｉｃｏｎｅ、第２版、１９６８年、５．４章
中に詳細に記載されている。製造条件では、自体無色
で、清澄で、無臭でかつ不活性のオルガノポリシロキサ
ンは、不純物を含有していてよく、この不純物は、殊に
高温貯蔵の際の変色、後混濁、触媒の阻害、例えば白金
との付加反応、熱安定性の欠如、電気的放電破壊強度の
欠如または殊に照射後の臭いの形成を惹起する。不純物
は、均一な触媒、例えばＰＮＣｌ2の使用の際に生じる
ばかりでなく、不均一な触媒、例えば酸性漂白土の使用
の際にもほとんど回避することができない。
【０００３】前記不純物は、現在の製造方法の場合に
は、極く僅少量だけが、オルガノポリシロキサン中に存
在し、従って、これまで分析的には、まだ同定すること
ができなかった。
は、極く僅少量だけが、オルガノポリシロキサン中に存
在し、従って、これまで分析的には、まだ同定すること
ができなかった。
【０００４】前記の、不純物によって惹起された欠点
は、部分的には、吸着剤、例えば活性炭を用いた後処理
によって、除去することができる。しかしながら、この
吸着剤は、大量のオルガノポリシロキサンを結合する。
このことは、収量の明らかな損失をまねく。これまで、
付加反応のための抑制剤で汚染されたオルガノポリシロ
キサンは、白金触媒反応下で付加架橋したゴムに使用す
ることにとって、それ以上十分に精製することができな
かった。
は、部分的には、吸着剤、例えば活性炭を用いた後処理
によって、除去することができる。しかしながら、この
吸着剤は、大量のオルガノポリシロキサンを結合する。
このことは、収量の明らかな損失をまねく。これまで、
付加反応のための抑制剤で汚染されたオルガノポリシロ
キサンは、白金触媒反応下で付加架橋したゴムに使用す
ることにとって、それ以上十分に精製することができな
かった。
【０００５】ドイツ民主共和国特許公告第２４０８９７
号明細書（Ｈ．Ｋｒｏｅｎｉｇ他、ＶＥＢ Ｃｈｅｍｉ
ｅｗｅｒｋ Ｎｕｅｎｃｈｒｉｔｚ、ドイツ民主共和
国、発行日１９８６年１１月１９日）には、酸触媒およ
び金属添加剤の存在下でのオルガノポリシロキサンの平
衡による無臭のシリコン油の製造が記載されている。金
属添加剤によって、シリコン油に付着した不快臭は、除
去される。しかしながら、不均一な触媒の使用の場合に
は、触媒および金属添加剤からなる混合物が沈澱し、こ
の混合物は、ほとんど再処理不可能であり、かつ廃棄物
処理の際の問題を惹起し得る。これによって、必要とさ
れた金属の量は、大きく、触媒は、概していえば、費用
のかかる処理後に初めて再使用することができる。均一
な酸触媒は、金属添加剤と反応し、かつ前記方法には不
適当である。
号明細書（Ｈ．Ｋｒｏｅｎｉｇ他、ＶＥＢ Ｃｈｅｍｉ
ｅｗｅｒｋ Ｎｕｅｎｃｈｒｉｔｚ、ドイツ民主共和
国、発行日１９８６年１１月１９日）には、酸触媒およ
び金属添加剤の存在下でのオルガノポリシロキサンの平
衡による無臭のシリコン油の製造が記載されている。金
属添加剤によって、シリコン油に付着した不快臭は、除
去される。しかしながら、不均一な触媒の使用の場合に
は、触媒および金属添加剤からなる混合物が沈澱し、こ
の混合物は、ほとんど再処理不可能であり、かつ廃棄物
処理の際の問題を惹起し得る。これによって、必要とさ
れた金属の量は、大きく、触媒は、概していえば、費用
のかかる処理後に初めて再使用することができる。均一
な酸触媒は、金属添加剤と反応し、かつ前記方法には不
適当である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明には、オルガノ
ポリシロキサンの製造とは無関係に、全てのオルガノポ
リシロキサンに適当であり、不均一な触媒を何度も使用
でき、かつ廃棄物処理の問題を生じないようなオルガノ
ポリシロキサンの精製法を提供するという課題が課され
ている。
ポリシロキサンの製造とは無関係に、全てのオルガノポ
リシロキサンに適当であり、不均一な触媒を何度も使用
でき、かつ廃棄物処理の問題を生じないようなオルガノ
ポリシロキサンの精製法を提供するという課題が課され
ている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によれ
ば、オルガノポリシロキサンを、その製造後に元素状金
属で処理するようなオルガノポリシロキサンの精製法に
より解決される。
ば、オルガノポリシロキサンを、その製造後に元素状金
属で処理するようなオルガノポリシロキサンの精製法に
より解決される。
【０００８】本発明は、任意のオルガノポリシロキサン
の精製に適当である。オルガノポリシロキサンは、有利
に、一般式：
の精製に適当である。オルガノポリシロキサンは、有利
に、一般式：
【０００９】
【化１】
【００１０】〔式中、Ｒは、同一かまたは異なる一価
の、場合によっては置換された、ＳｉＣ結合を介したＣ
1〜Ｃ18炭化水素基を表し、場合によっては基Ｒの１つ
は、末端基中で付加的に官能基を表し、ａは、０、１、
２または３を表し、平均で１．８〜２．２、有利に１．
９〜２．１を表す〕で示されるものに該当する。
の、場合によっては置換された、ＳｉＣ結合を介したＣ
1〜Ｃ18炭化水素基を表し、場合によっては基Ｒの１つ
は、末端基中で付加的に官能基を表し、ａは、０、１、
２または３を表し、平均で１．８〜２．２、有利に１．
９〜２．１を表す〕で示されるものに該当する。
【００１１】上記の式中に記載されていないが、基Ｒの
一部分は、直接珪素原子と結合した水素原子によって代
替されていてよい。しかしながら、このことは有利では
ない。
一部分は、直接珪素原子と結合した水素原子によって代
替されていてよい。しかしながら、このことは有利では
ない。
【００１２】有利には、基Ｒは、基１個当たり最高で１
２個の炭素原子を有する。基Ｒの例は、アルキル基、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソ−ブチル基、第三ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソ−ペンチル基、ネオ−ペンチ
ル基、第三ペンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシ
ル基；ヘプチル基、例えばｎ−ヘプチル基；オクチル
基、例えばｎ−オクチル基およびイソ−オクチル基、例
えば２，２，４−トリメチルペンチル基；ノニル基、例
えばｎ−ノニル基；デシル基、例えばｎ−デシル基；ド
デシル基、例えばｎ−ドデシル基；アルケニル基、例え
ばビニル基およびアリル基；シクロアルキル基、例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基およびメチルシクロヘキシル基；アリール基、例えば
フェニル基およびナフチル基；アルカリール基、例えば
ｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル基およびエチルフ
ェニル基；アルアルキル基、例えばベンジル基、α−フ
ェニルエチル基およびβ−フェニルエチル基である。
２個の炭素原子を有する。基Ｒの例は、アルキル基、例
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソ−ブチル基、第三ブチル
基、ｎ−ペンチル基、イソ−ペンチル基、ネオ−ペンチ
ル基、第三ペンチル基、ヘキシル基、例えばｎ−ヘキシ
ル基；ヘプチル基、例えばｎ−ヘプチル基；オクチル
基、例えばｎ−オクチル基およびイソ−オクチル基、例
えば２，２，４−トリメチルペンチル基；ノニル基、例
えばｎ−ノニル基；デシル基、例えばｎ−デシル基；ド
デシル基、例えばｎ−ドデシル基；アルケニル基、例え
ばビニル基およびアリル基；シクロアルキル基、例えば
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基およびメチルシクロヘキシル基；アリール基、例えば
フェニル基およびナフチル基；アルカリール基、例えば
ｏ−、ｍ−、ｐ−トリル基、キシリル基およびエチルフ
ェニル基；アルアルキル基、例えばベンジル基、α−フ
ェニルエチル基およびβ−フェニルエチル基である。
【００１３】置換基Ｒの例は、シアンアルキル基、例え
ばβ−シアンエチル基、およびハロゲン化炭化水素基、
例えばハロゲン化アルキル基、例えば３−クロルプロピ
ル基、３，３，３−トリフルオル−ｎ−プロピル基、
２，２，２，２′，２′，２′−ヘキサフルオルイソプ
ロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基、およびハロ
ゲン化アリール基、例えばｏ−クロルフェニル基、ｍ−
クロルフェニル基およびｐ−クロルフェニル基、３−ア
ミノプロピル基、３−（２−アミノエチルアミノ）プロ
ピル基、３−チオプロピル基または３位でプロピル基と
結合したポリグリコール、例えばエチレングリコールも
しくはプロピレングリコールまたは混合したポリグリコ
ールを有しているプロピル基である。
ばβ−シアンエチル基、およびハロゲン化炭化水素基、
例えばハロゲン化アルキル基、例えば３−クロルプロピ
ル基、３，３，３−トリフルオル−ｎ−プロピル基、
２，２，２，２′，２′，２′−ヘキサフルオルイソプ
ロピル基、ヘプタフルオルイソプロピル基、およびハロ
ゲン化アリール基、例えばｏ−クロルフェニル基、ｍ−
クロルフェニル基およびｐ−クロルフェニル基、３−ア
ミノプロピル基、３−（２−アミノエチルアミノ）プロ
ピル基、３−チオプロピル基または３位でプロピル基と
結合したポリグリコール、例えばエチレングリコールも
しくはプロピレングリコールまたは混合したポリグリコ
ールを有しているプロピル基である。
【００１４】基Ｒの１つは、末端基中、即ち、ａが３の
意味を有する場合の前記一般式の基の中で、官能基、例
えば縮合可能な基、例えばＯＨ基、アルコキシ基、アセ
トキシ基およびアミノ基、付加可能な基、例えばビニル
基または水素原子もしくは縮合可能かまたは付加可能な
基を有するＣ1〜Ｃ18炭化水素基であってもよい。
意味を有する場合の前記一般式の基の中で、官能基、例
えば縮合可能な基、例えばＯＨ基、アルコキシ基、アセ
トキシ基およびアミノ基、付加可能な基、例えばビニル
基または水素原子もしくは縮合可能かまたは付加可能な
基を有するＣ1〜Ｃ18炭化水素基であってもよい。
【００１５】また、本発明による方法は、グリコールエ
ーテル基並びにオルガノシロキサン単位およびグリコー
ルエーテル単位、例えばエチレン単位およびプロピレン
グリコールエーテル単位からのブロックポリマーまたは
コポリマーを有するオルガノポリシロキサンの精製に適
当である。
ーテル基並びにオルガノシロキサン単位およびグリコー
ルエーテル単位、例えばエチレン単位およびプロピレン
グリコールエーテル単位からのブロックポリマーまたは
コポリマーを有するオルガノポリシロキサンの精製に適
当である。
【００１６】特に、本発明による方法は、基Ｒが、メチ
ル基、フェニル基、ビニル基またはＨ基および場合によ
っては末端基中のＯＨ基、ビニル基またはＨ基を表しか
つ粘度が２５℃で０．５〜１０6ｍｍ2／秒である線状ま
たは環式オルガノポリシロキサンの精製に適当である。
ル基、フェニル基、ビニル基またはＨ基および場合によ
っては末端基中のＯＨ基、ビニル基またはＨ基を表しか
つ粘度が２５℃で０．５〜１０6ｍｍ2／秒である線状ま
たは環式オルガノポリシロキサンの精製に適当である。
【００１７】本発明による方法の場合には、マグネシウ
ム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、亜
鉛、カドミウム、アルミニウム、珪素、錫、鉛、アンチ
モンおよびビスマスを使用することができ、この場合、
銀、鉄、アルミニウム、クロム、ニッケル、コバルトお
よび殊に銅が有利である。
ム、チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、
ニオブ、タンタル、クロム、モリブデン、タングステ
ン、マンガン、鉄、コバルト、ニッケル、銅、銀、亜
鉛、カドミウム、アルミニウム、珪素、錫、鉛、アンチ
モンおよびビスマスを使用することができ、この場合、
銀、鉄、アルミニウム、クロム、ニッケル、コバルトお
よび殊に銅が有利である。
【００１８】後処理として製造に続けて実施される本発
明による方法の場合には、オルガノポリシロキサンの製
造条件に関わりなく、場所、温度、時間および他の反応
パラメータを自由に選択することができる。従ってま
た、元素状金属の添加形は、任意でもよい。大表面積に
基づいて、１ｍｍまでの粒度を有する粉末または青銅
は、最も容易にオルガノポリシロキサンと反応する。前
記添加形は、殊に鉄およびアルミニウムにとって有利で
あることが判明した。精製後に粉末または青銅は、容易
に、例えばフィルタープレスを用いて除去可能である。
明による方法の場合には、オルガノポリシロキサンの製
造条件に関わりなく、場所、温度、時間および他の反応
パラメータを自由に選択することができる。従ってま
た、元素状金属の添加形は、任意でもよい。大表面積に
基づいて、１ｍｍまでの粒度を有する粉末または青銅
は、最も容易にオルガノポリシロキサンと反応する。前
記添加形は、殊に鉄およびアルミニウムにとって有利で
あることが判明した。精製後に粉末または青銅は、容易
に、例えばフィルタープレスを用いて除去可能である。
【００１９】また、該金属は、顆粒またはチップとして
添加してもよい。この場合、該金属を、例えば液状オル
ガノポリシロキサンの傾瀉により、特に容易に分離でき
ることは利点である。この顆粒、粉末、青銅またはチッ
プは、より多くの配合物に使用することができる。
添加してもよい。この場合、該金属を、例えば液状オル
ガノポリシロキサンの傾瀉により、特に容易に分離でき
ることは利点である。この顆粒、粉末、青銅またはチッ
プは、より多くの配合物に使用することができる。
【００２０】現在の平衡処理により製造されたオルガノ
ポリシロキサンは、通常、不純物の極く僅少量だけを含
有しているので、前記の全種類の添加量の場合には、極
く僅少な金属量で十分である。有利には、オルガノポリ
シロキサンに対して、金属０．００１〜０．１重量％が
添加される。
ポリシロキサンは、通常、不純物の極く僅少量だけを含
有しているので、前記の全種類の添加量の場合には、極
く僅少な金属量で十分である。有利には、オルガノポリ
シロキサンに対して、金属０．００１〜０．１重量％が
添加される。
【００２１】前記金属量は、ほぼ完全に回収することが
できる。生成物、即ちオルガノポリシロキサンの損失
は、金属または金属からの固体反応生成物および易揮発
性の出発化合物、例えば環式ポリシロキサンを有するオ
ルガノポリシロキサンからの不純物の洗浄および引続く
真空中での出発化合物の除去によって極めて僅少に維持
することができる。
できる。生成物、即ちオルガノポリシロキサンの損失
は、金属または金属からの固体反応生成物および易揮発
性の出発化合物、例えば環式ポリシロキサンを有するオ
ルガノポリシロキサンからの不純物の洗浄および引続く
真空中での出発化合物の除去によって極めて僅少に維持
することができる。
【００２２】また、特に良好に不純物と反応する金属、
例えば銅およびニッケルを使用した場合には、また、本
発明による方法は、相対的に僅少な表面積を有する金属
内蔵物を用いて実施することができる。この場合、オル
ガノポリシロキサンは、元素状金属と接触される。金属
内蔵物という表現は、例えば金属製の管、型版、格子ま
たは篩もしくは金属が、薄板、薄片または任意に変形さ
れた充填物として存在しているような固定床反応器の形
の金属を包含する。
例えば銅およびニッケルを使用した場合には、また、本
発明による方法は、相対的に僅少な表面積を有する金属
内蔵物を用いて実施することができる。この場合、オル
ガノポリシロキサンは、元素状金属と接触される。金属
内蔵物という表現は、例えば金属製の管、型版、格子ま
たは篩もしくは金属が、薄板、薄片または任意に変形さ
れた充填物として存在しているような固定床反応器の形
の金属を包含する。
【００２３】この金属内蔵物には、特に銅が適してお
り、それというのも、金属表面上で、汚染されたオルガ
ノポリシロキサンを用いたより長い処理時間の後に、下
地の上に付着し難い暗黒色の被膜を形成し、かつ部分的
にそれ自体剥離しているからである。こうして、金属表
面は、少なくとも部分的に、再度剥き出しにされる。金
属表面上に残留した被膜は、あまり厚くなく、それにも
係わらず、オルガノポリシロキサンの不純物は、その下
にある金属と反応し、かつ除去される。従って、該金属
は、オルガノポリシロキサンの除去すべき不純物を消散
させる程度にだけ消費される。この剥離した被膜は、良
好に濾過可能である。
り、それというのも、金属表面上で、汚染されたオルガ
ノポリシロキサンを用いたより長い処理時間の後に、下
地の上に付着し難い暗黒色の被膜を形成し、かつ部分的
にそれ自体剥離しているからである。こうして、金属表
面は、少なくとも部分的に、再度剥き出しにされる。金
属表面上に残留した被膜は、あまり厚くなく、それにも
係わらず、オルガノポリシロキサンの不純物は、その下
にある金属と反応し、かつ除去される。従って、該金属
は、オルガノポリシロキサンの除去すべき不純物を消散
させる程度にだけ消費される。この剥離した被膜は、良
好に濾過可能である。
【００２４】金属内蔵物の使用は、オルガノポリシロキ
サンが、より長い時間に亘って金属上へ導かれるような
連続的処理方法に特に好適である。
サンが、より長い時間に亘って金属上へ導かれるような
連続的処理方法に特に好適である。
【００２５】本発明による方法は、１５〜２８０℃、有
利に５０〜２８０℃で実施することができる。より高い
温度では、オルガノポリシロキサンの性質は、分解が開
始することによって、再度不利になり得る。必要とされ
る温度は、就中、金属、その表面、量および不純物の性
質、処理時間およびオルガノポリシロキサンによって左
右される。しかしながら、多くの場合、該温度は、８０
〜２００℃である。
利に５０〜２８０℃で実施することができる。より高い
温度では、オルガノポリシロキサンの性質は、分解が開
始することによって、再度不利になり得る。必要とされ
る温度は、就中、金属、その表面、量および不純物の性
質、処理時間およびオルガノポリシロキサンによって左
右される。しかしながら、多くの場合、該温度は、８０
〜２００℃である。
【００２６】処理時間は、１分ないし数日であるが、し
かしながら、有利には１分〜１時間である。期待通り
に、前記の時間は、より高い温度で、短縮される。ま
た、前記の、温度に影響を及ぼす要因は、処理時間をも
定める。
かしながら、有利には１分〜１時間である。期待通り
に、前記の時間は、より高い温度で、短縮される。ま
た、前記の、温度に影響を及ぼす要因は、処理時間をも
定める。
【００２７】１つの好ましい実施態様の場合、オルガノ
ポリシロキサンは、オルガノポリシロキサンの製造の際
に使用された触媒の除去または中和後に、なお製造を通
じて加熱された状態で、元素状金属を用いて処理され
る。この場合、この金属は、粉末、青銅、顆粒またはチ
ップとして、オルガノポリシロキサンと一緒に撹拌する
ことができる。しかしながら、特に有利には、加熱され
たオルガノポリシロキサンを、徐々に、殊に銅からなる
金属内蔵物上に導くことである。
ポリシロキサンは、オルガノポリシロキサンの製造の際
に使用された触媒の除去または中和後に、なお製造を通
じて加熱された状態で、元素状金属を用いて処理され
る。この場合、この金属は、粉末、青銅、顆粒またはチ
ップとして、オルガノポリシロキサンと一緒に撹拌する
ことができる。しかしながら、特に有利には、加熱され
たオルガノポリシロキサンを、徐々に、殊に銅からなる
金属内蔵物上に導くことである。
【００２８】以下の実施例では、そのつど別記しない場
合には、 ａ）全ての量の記載は重量％に対するものであり； ｂ）全ての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対値）であり； ｃ）全ての温度は２５℃である。
合には、 ａ）全ての量の記載は重量％に対するものであり； ｂ）全ての圧力は０．１０ＭＰａ（絶対値）であり； ｃ）全ての温度は２５℃である。
【００２９】
例 １ 加熱されたフラスコ中で、２５℃で１０２ｍｍ2／秒の
粘度を示し、トリメチルシリル末端基を有するポリジメ
チルシロキサン１０００ｇに、銅粉末０．５ｇを添加
し、かつ１００℃で２０分間撹拌した。冷却後に、全て
の固体を瀘別した。シリコン油は、分析された性質、粘
度、屈折率および揮発性の点で、実際に不変であった。
粘度を示し、トリメチルシリル末端基を有するポリジメ
チルシロキサン１０００ｇに、銅粉末０．５ｇを添加
し、かつ１００℃で２０分間撹拌した。冷却後に、全て
の固体を瀘別した。シリコン油は、分析された性質、粘
度、屈折率および揮発性の点で、実際に不変であった。
【００３０】前記で使用された、なお未処理の油は、無
臭であった。この油を、半分まで充填された光透過性ガ
ラス壜に入れ、４時間、太陽光内に置いた。強烈な不快
臭が、発生した。
臭であった。この油を、半分まで充填された光透過性ガ
ラス壜に入れ、４時間、太陽光内に置いた。強烈な不快
臭が、発生した。
【００３１】同一条件下で照射され、銅粉末で処理され
た油は、無臭のままである。また、数回の前記の照射時
間の後も、この油は無臭であった。
た油は、無臭のままである。また、数回の前記の照射時
間の後も、この油は無臭であった。
【００３２】例 ２ 付加架橋した２成分系シリコン材料（ＲＴＶ−２）の製
造の際に、ポリジメチルシロキサンを、可塑剤として添
加することができる。ＲＴＶ−２生成物の品質に関する
本質的特徴は、その加硫挙動もしくはその反応性であ
り、このことはいわゆる可使時間を用いて測定される。
可使時間の試験は、Ａ成分８０ｇおよびＢ成分４０ｇか
らなる２成分系混合物１００ｇを用いて９０℃で空気循
環乾燥棚中で行われる。この可使時間は、第１の加硫の
徴候（ゴム状の含量）が生じる場合に、達成される。
造の際に、ポリジメチルシロキサンを、可塑剤として添
加することができる。ＲＴＶ−２生成物の品質に関する
本質的特徴は、その加硫挙動もしくはその反応性であ
り、このことはいわゆる可使時間を用いて測定される。
可使時間の試験は、Ａ成分８０ｇおよびＢ成分４０ｇか
らなる２成分系混合物１００ｇを用いて９０℃で空気循
環乾燥棚中で行われる。この可使時間は、第１の加硫の
徴候（ゴム状の含量）が生じる場合に、達成される。
【００３３】前記の試験に従って、ＲＴＶ−２材料の可
使時間を測定し、この場合、Ａ成分は、触媒としてのＰ
ｔ含量１％を有する白金錯体０．４２部および抑制剤と
してのビニル基含有ポリジメチルシロキサン２．１２部
（粘度５０ｍｍ2／秒）並びに例１中で使用された未処
理のシリコン油８５０部からなり、Ｂ成分は、粘度２０
０００ｍｍ2／秒を有するビニルジメチルシリル末端位
のポリジメチルシロキサン５５部、架橋剤としてのＳｉ
Ｈ含有ポリジメチルシロキサン１８．５部（粘度２００
ｍｍ2／秒）、着色のための顔料ペースト１．８ｇ並び
に例１中で使用された未処理のシリコン油１１０部から
なり、こうして可使時間として、９０℃で２７分間を得
た（規定：１１〜１７分間）。未処理の油は、抑制添加
剤を含有し、かつＲＴＶ−２のために可塑剤として使用
することはできなかった。
使時間を測定し、この場合、Ａ成分は、触媒としてのＰ
ｔ含量１％を有する白金錯体０．４２部および抑制剤と
してのビニル基含有ポリジメチルシロキサン２．１２部
（粘度５０ｍｍ2／秒）並びに例１中で使用された未処
理のシリコン油８５０部からなり、Ｂ成分は、粘度２０
０００ｍｍ2／秒を有するビニルジメチルシリル末端位
のポリジメチルシロキサン５５部、架橋剤としてのＳｉ
Ｈ含有ポリジメチルシロキサン１８．５部（粘度２００
ｍｍ2／秒）、着色のための顔料ペースト１．８ｇ並び
に例１中で使用された未処理のシリコン油１１０部から
なり、こうして可使時間として、９０℃で２７分間を得
た（規定：１１〜１７分間）。未処理の油は、抑制添加
剤を含有し、かつＲＴＶ−２のために可塑剤として使用
することはできなかった。
【００３４】可使時間の前記の試験の際に、例１からの
シリコン油を、銅粉末を用いた処理の後に使用した場合
には、可使時間は１２分間であった。この精製された油
は、可塑剤としてＲＴＶ−２に適当であった。
シリコン油を、銅粉末を用いた処理の後に使用した場合
には、可使時間は１２分間であった。この精製された油
は、可塑剤としてＲＴＶ−２に適当であった。
【００３５】例 ３〜８ 例１を繰返し、この場合には、ポリジメチルシロキサン
を、第Ｉ表中に記載された金属粉末量で処理した。処理
された油の照射時間は、２０分間であった。
を、第Ｉ表中に記載された金属粉末量で処理した。処理
された油の照射時間は、２０分間であった。
【００３６】 第Ｉ表 例 金属粉末／量 結果 ３ 鉄粉末５．０ｇ、 無臭 Ｍｅｒｃｋ社、１５０μｍ ４ 銅粉末０．１ｇ、 無臭 Ｍｅｒｃｋ社、商品番号２７０３ ５ クロム粉末２．０ｇ、 僅かな臭い Ｍｅｒｃｋ社、商品番号１２０９７ ６ 銅粉末０．０２％、 無臭 Ｍｅｒｃｋ社、商品番号２７０３ ７ ニッケル粉末０．０５％、 無臭 ９９．７％、３μｍ、Ａｌｄｒｉｃｈ社 ８ コバルト粉末０．０５％、 無臭 ９９．８％。２μｍ、Ａｌｄｒｉｃｈ社 例 ９〜１５ 加熱されたビーカー中で、２５℃で１００ｍｍ2／秒の
粘度を示すトリメチルシリル末端基を有するポリジメチ
ルシロキサン１０００ｇを撹拌した。第ＩＩ表中に記載
された温度で、表面積２００ｃｍ2を有するを銅薄板を
第ＩＩ表中に記載された時間に亘って懸吊した。
粘度を示すトリメチルシリル末端基を有するポリジメチ
ルシロキサン１０００ｇを撹拌した。第ＩＩ表中に記載
された温度で、表面積２００ｃｍ2を有するを銅薄板を
第ＩＩ表中に記載された時間に亘って懸吊した。
【００３７】 第ＩＩ表 例 Ｃｕ薄板 処理温度 処理時間 照射後の臭い （℃） （ｓ） （３０秒間、太陽光） ９ − １６０ １８０ 強烈な臭い １０ １． １６０ １８０ 僅かな臭い １１ １． １６０ ９００ 無臭 １２ １． ２００ １８０ 無臭 １３ １． ２００ ９００ 無臭 １４ ２． ２００ １８０ 無臭 １５ ２． ２００ ９００ 無臭 １． 銅薄板は、常に同一薄板であり、精製せずに次の
試験に使用した。例１０では、銅薄板の表面は光沢を有
していた。
試験に使用した。例１０では、銅薄板の表面は光沢を有
していた。
【００３８】２． 前記銅薄板は、表面で、既に暗黒色
の、より厚い層中で付着し難い被膜を有していた。この
被膜は、例９〜１５で使用されたポリジメチルシロキサ
ン種１００ｋｇの本発明による処理により生じた。
の、より厚い層中で付着し難い被膜を有していた。この
被膜は、例９〜１５で使用されたポリジメチルシロキサ
ン種１００ｋｇの本発明による処理により生じた。
【００３９】比較例 １６〜１９ 例９〜１５で使用されたポリジメチルシロキサンそれぞ
れ１０００ｇ宛に、吸着剤ＣｕＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯおよ
び活性炭の１つを０．５重量％添加し、１００℃に加熱
し、３０分間撹拌し、５０℃に冷却し、濾過し、かつ太
陽光に晒して８時間貯蔵した。
れ１０００ｇ宛に、吸着剤ＣｕＯ、ＭｇＯ、ＺｎＯおよ
び活性炭の１つを０．５重量％添加し、１００℃に加熱
し、３０分間撹拌し、５０℃に冷却し、濾過し、かつ太
陽光に晒して８時間貯蔵した。
【００４０】未処理の試料と比べて、前記試料の臭いの
水準は低下したが、しかし強烈過ぎるものであった（例
５のものよりも強烈である）。
水準は低下したが、しかし強烈過ぎるものであった（例
５のものよりも強烈である）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヨハン シュスター ドイツ連邦共和国 エンメルティング シ ラーシュトラーセ ２ (72)発明者 ルートヴィッヒ ハーガー ドイツ連邦共和国 ブルクハウゼン ペッ テンコファーシュトラーセ 35
Claims (2)
- 【請求項１】 オルガノポリシロキサンを精製する方法
において、オルガノポリシロキサンを、その製造後に元
素状金属で処理することを特徴とする、オルガノポリシ
ロキサンの精製法。 - 【請求項２】 オルガノポリシロキサンを、オルガノポ
リシロキサンの製造の際に使用した触媒の除去または中
和の後になお製造を通して加熱された状態で銅内蔵物上
に導く、請求項１記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4122206A DE4122206A1 (de) | 1991-07-04 | 1991-07-04 | Verfahren zur reinigung von organopolysiloxanen |
| DE4122206.7 | 1991-07-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05194741A true JPH05194741A (ja) | 1993-08-03 |
| JPH0662770B2 JPH0662770B2 (ja) | 1994-08-17 |
Family
ID=6435458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4172215A Expired - Lifetime JPH0662770B2 (ja) | 1991-07-04 | 1992-06-30 | オルガノポリシロキサンの精製法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5245067A (ja) |
| EP (1) | EP0522443B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0662770B2 (ja) |
| BR (1) | BR9202606A (ja) |
| DE (2) | DE4122206A1 (ja) |
| ES (1) | ES2087353T3 (ja) |
| MX (1) | MX9203919A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007077197A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
| JP2011162792A (ja) * | 2011-04-18 | 2011-08-25 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2730427B2 (ja) * | 1992-09-24 | 1998-03-25 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン類の精製方法 |
| DE4441057C2 (de) * | 1994-11-17 | 1999-02-25 | Wacker Chemie Gmbh | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Organopolysiloxanen |
| US6312476B1 (en) | 1999-11-10 | 2001-11-06 | General Electric Company | Process for removal of odors from silicones |
| US6368359B1 (en) | 1999-12-17 | 2002-04-09 | General Electric Company | Process for stabilization of dry cleaning solutions |
| US20040117920A1 (en) * | 2002-04-22 | 2004-06-24 | General Electric Company | Detector for monitoring contaminants in solvent used for dry cleaning articles |
| US7210182B2 (en) * | 2002-04-22 | 2007-05-01 | General Electric Company | System and method for solvent recovery and purification in a low water or waterless wash |
| US7308808B2 (en) * | 2002-04-22 | 2007-12-18 | General Electric Company | Apparatus and method for article cleaning |
| US20040045096A1 (en) * | 2002-04-22 | 2004-03-11 | General Electric Company | Chemical-specific sensor for monitoring amounts of volatile solvent during a drying cycle of a dry cleaning process |
| US7356865B2 (en) * | 2003-07-29 | 2008-04-15 | General Electric Company | Apparatus and method for removing contaminants from dry cleaning solvent |
| DE102011005607A1 (de) * | 2011-03-16 | 2012-09-20 | Evonik Goldschmidt Gmbh | Verfahren zur Herstllung von organomodifizierten Polysiloxanen |
| CN108329476A (zh) * | 2018-03-23 | 2018-07-27 | 江苏宇道生物科技有限公司 | 一种新型固液体系分离方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1253178A (fr) * | 1960-04-06 | 1961-02-03 | Dynamit Nobel Ag | Procédé pour éliminer l'acide résiduel des esters siliciques |
| DE1150372B (de) * | 1960-04-20 | 1963-06-20 | Dynamit Nobel Ag | Verfahren zur Reinigung von Kieselsaeure-estern von anhaftenden Saeurespuren |
| BE794064A (fr) * | 1972-01-18 | 1973-07-16 | Wacker Chemie Gmbh | Condensation de composes organosiliciques contenant des groupes hydroxy portes par si |
| DE3112065A1 (de) * | 1981-03-27 | 1982-10-07 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Verfahren zur herstellung von polytetramethylenether-glykol oder -glykoldiester mit niedriger farbzahl |
| DE3508219A1 (de) * | 1984-11-13 | 1986-09-11 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zur reinigung von siliconoel |
| DE3534218A1 (de) * | 1984-11-13 | 1987-03-26 | Licentia Gmbh | Verfahren zur reinigung von siliconoel |
| DD240897A1 (de) * | 1985-09-16 | 1986-11-19 | Nuenchritz Chemie | Verfahren zur herstellung von geruchsfreien siliconoelen |
| US4704443A (en) * | 1986-10-27 | 1987-11-03 | Dow Corning Corporation | Method of reducing activity of silicone polymers |
| JPH0235887A (ja) * | 1988-07-26 | 1990-02-06 | Matsushita Electric Works Ltd | テレビインターホンシステムに於ける伝送信号処理方法及びその装置 |
| DE3935750A1 (de) * | 1989-10-27 | 1991-05-02 | Basf Ag | Verfahren zur herstellung von hochreinen polymerisaten des tetrahydrofurans |
| US4962221A (en) * | 1990-03-12 | 1990-10-09 | Dow Corning Corporation | Chloride reduction in polysiloxanes |
| JPH0798828B2 (ja) * | 1990-05-18 | 1995-10-25 | 東芝シリコーン株式会社 | アルコキシシランの精製方法 |
-
1991
- 1991-07-04 DE DE4122206A patent/DE4122206A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-06-29 US US07/906,054 patent/US5245067A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-06-30 JP JP4172215A patent/JPH0662770B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-02 EP EP92111187A patent/EP0522443B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-02 ES ES92111187T patent/ES2087353T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-02 DE DE59206341T patent/DE59206341D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-03 MX MX9203919A patent/MX9203919A/es not_active IP Right Cessation
- 1992-07-03 BR BR929202606A patent/BR9202606A/pt not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007077197A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-03-29 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
| JP2011162792A (ja) * | 2011-04-18 | 2011-08-25 | Osaka Gas Co Ltd | ポリシランの精製方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| DE4122206A1 (de) | 1993-01-14 |
| JPH0662770B2 (ja) | 1994-08-17 |
| EP0522443A1 (de) | 1993-01-13 |
| US5245067A (en) | 1993-09-14 |
| BR9202606A (pt) | 1993-03-16 |
| DE59206341D1 (de) | 1996-06-27 |
| EP0522443B1 (de) | 1996-05-22 |
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