JPH05193960A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPH05193960A JPH05193960A JP2731592A JP2731592A JPH05193960A JP H05193960 A JPH05193960 A JP H05193960A JP 2731592 A JP2731592 A JP 2731592A JP 2731592 A JP2731592 A JP 2731592A JP H05193960 A JPH05193960 A JP H05193960A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dies
- molding
- optical element
- glass
- tib
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/05—Press-mould die materials
- C03B2215/07—Ceramic or cermets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/26—Mixtures of materials covered by more than one of the groups C03B2215/16 - C03B2215/24, e.g. C-SiC, Cr-Cr2O3, SIALON
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶融ガラスを成形しても型材料とガラス成分
とが反応せず、焼付が生じず、高温耐久性のある型とす
る。 【構成】 高純度TiB2 粉末と高純度Al2 O3 粉末
とを重量%で83%と7%(残りは焼結助剤)との割合
で混合し、1300℃、45時間で仮焼成する。焼成
後、研削加工により所望と近似した形状に仕上げる。そ
の後、1500気圧・1400℃にてHIP処理によ
り、複合セラミックスブランクを形成する。そのブラン
クを研削加工し、最終形状の寸法にした後、その型材の
成形面をダイヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工す
る。
とが反応せず、焼付が生じず、高温耐久性のある型とす
る。 【構成】 高純度TiB2 粉末と高純度Al2 O3 粉末
とを重量%で83%と7%(残りは焼結助剤)との割合
で混合し、1300℃、45時間で仮焼成する。焼成
後、研削加工により所望と近似した形状に仕上げる。そ
の後、1500気圧・1400℃にてHIP処理によ
り、複合セラミックスブランクを形成する。そのブラン
クを研削加工し、最終形状の寸法にした後、その型材の
成形面をダイヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工す
る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光学素子成形用型に関
する。
する。
【0002】
【従来の技術】一般に、光学ガラスを加熱プレスにより
所望の形状に成形して光学素子を得ることが行われてい
る。かかるプレス成形に用いる成形用型は、ガラスとの
融着を防止する材料や高温状態での耐熱性の高い材料に
より形成されることが要求されている。従来、例えば特
開昭60−141629号公報にて開示されるように、
TiB2 セラミックス材料を基にサーメット材を成形用
型として用いたものが知られている。この材料は、研磨
により鏡面が得られ、高圧プレスによる変形等が生じ
ず、硬さ及び強度が高い材料であり、また850℃、1
00時間大気加熱による酸化がない特徴を有している。
所望の形状に成形して光学素子を得ることが行われてい
る。かかるプレス成形に用いる成形用型は、ガラスとの
融着を防止する材料や高温状態での耐熱性の高い材料に
より形成されることが要求されている。従来、例えば特
開昭60−141629号公報にて開示されるように、
TiB2 セラミックス材料を基にサーメット材を成形用
型として用いたものが知られている。この材料は、研磨
により鏡面が得られ、高圧プレスによる変形等が生じ
ず、硬さ及び強度が高い材料であり、また850℃、1
00時間大気加熱による酸化がない特徴を有している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来の成
形用型を用い、ガラスを1000℃以上に加熱溶融させ
型材に滴下して成形すると、TiB2 サーメット材のT
i,B,Zrがガラスの酸素と反応し、それらの酸化物
が生成する。そのため、焼結状態が分解してガラスと焼
付を生じてしまい、高精度の光学ガラスレンズが得られ
ないという問題があった。
形用型を用い、ガラスを1000℃以上に加熱溶融させ
型材に滴下して成形すると、TiB2 サーメット材のT
i,B,Zrがガラスの酸素と反応し、それらの酸化物
が生成する。そのため、焼結状態が分解してガラスと焼
付を生じてしまい、高精度の光学ガラスレンズが得られ
ないという問題があった。
【0004】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、溶融ガラスを成形しても型材料とガラス
成分が反応せず、焼付が生じない高温耐久性のある光学
素子成形用型を提供することを目的とする。
されたもので、溶融ガラスを成形しても型材料とガラス
成分が反応せず、焼付が生じない高温耐久性のある光学
素子成形用型を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、化学主成分がTiB2 90〜70wt%
およびAl2 O3 5〜25wt%からなるセラミクック
スにより、少なくとも成形面を形成して、光学素子成形
用型を構成した。
に、本発明は、化学主成分がTiB2 90〜70wt%
およびAl2 O3 5〜25wt%からなるセラミクック
スにより、少なくとも成形面を形成して、光学素子成形
用型を構成した。
【0006】
【作用】上記構成の本発明の光学素子成形用型において
は、化学主成分のTiB2 にAl2 O3 を添加すること
により、耐熱性が向上する。一般に、TiB2 は約70
0℃にてTi−OとB2 O3 とに分解する。TiB2 を
大気中にて加熱すると、Tiはいろいろな形態の酸化物
となって表面に析出し、BはB2 O3 となって昇華す
る。しかし、上記Al2 O3 を添加することにより焼結
状態が大きく異なる。TiB2 にAl2 O3 を添加して
焼結すると、TiB2 の結晶粒の間にAl2 O3 の結晶
粒が入ってTiB2 の結晶粒を取り囲むような状態にな
る。その結晶状態ではTiB2 の特性は低下するが、A
l2 O3 の特性が現れる特徴がある。ゆえにTiB2 の
硬さ及び強度は低下するが、Al2 O3 の耐熱性の特性
が現れて耐熱性が向上する。また、Al2 O3 は酸化物
であり安定な材料であるため、酸化反応は生じにくく、
ガラス成分との反応がほとんど無く、ガラスとの焼付が
生じにくい。また、TiB2 は硬さが約2400Hvで
あって加工が困難であるが、Al2 O3 添加のために硬
さは低下し加工性が良好となる。さらに、このAl2 O
3 の添加量により硬さを変化させることができる。
は、化学主成分のTiB2 にAl2 O3 を添加すること
により、耐熱性が向上する。一般に、TiB2 は約70
0℃にてTi−OとB2 O3 とに分解する。TiB2 を
大気中にて加熱すると、Tiはいろいろな形態の酸化物
となって表面に析出し、BはB2 O3 となって昇華す
る。しかし、上記Al2 O3 を添加することにより焼結
状態が大きく異なる。TiB2 にAl2 O3 を添加して
焼結すると、TiB2 の結晶粒の間にAl2 O3 の結晶
粒が入ってTiB2 の結晶粒を取り囲むような状態にな
る。その結晶状態ではTiB2 の特性は低下するが、A
l2 O3 の特性が現れる特徴がある。ゆえにTiB2 の
硬さ及び強度は低下するが、Al2 O3 の耐熱性の特性
が現れて耐熱性が向上する。また、Al2 O3 は酸化物
であり安定な材料であるため、酸化反応は生じにくく、
ガラス成分との反応がほとんど無く、ガラスとの焼付が
生じにくい。また、TiB2 は硬さが約2400Hvで
あって加工が困難であるが、Al2 O3 添加のために硬
さは低下し加工性が良好となる。さらに、このAl2 O
3 の添加量により硬さを変化させることができる。
【0007】
【実施例1】高純度TiB2 粉末(純度99.99%以
上)と高純度Al2 O3 粉末(純度99%以上)とを重
量%で83%と7%(残りは焼結助剤)との割合で混合
し、1300℃、45時間で仮焼成した。焼成後、研削
加工により所望と近似した形状に仕上げた。その後、1
500気圧・1400℃にてHIP処理により、機械的
強度及び物理的特性の満足する複合セラミックスブラン
クを形成した。そのブランクを研削加工し、最終形状の
寸法にした後、その型材の成形面を#15000のダイ
ヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工し、表面粗さRm
ax0.02μm以下まで仕上げた。
上)と高純度Al2 O3 粉末(純度99%以上)とを重
量%で83%と7%(残りは焼結助剤)との割合で混合
し、1300℃、45時間で仮焼成した。焼成後、研削
加工により所望と近似した形状に仕上げた。その後、1
500気圧・1400℃にてHIP処理により、機械的
強度及び物理的特性の満足する複合セラミックスブラン
クを形成した。そのブランクを研削加工し、最終形状の
寸法にした後、その型材の成形面を#15000のダイ
ヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工し、表面粗さRm
ax0.02μm以下まで仕上げた。
【0008】この光学素子成形用型にて、SF系のガラ
スを成形した結果を記す。SF11を1250℃に加熱
溶融させ、450℃に保持した成形用型に上記溶融ガラ
スを滴下した。滴下後、初期圧1kg/cm2 にて4秒
間成形し、その後連続して280kg/cm2 にて14
秒成形した。このような成形方法にて20000ショッ
ト以上の連続成形を行っても成形品の品質は低下せず、
φ18mmのレンズの面精度はPV0.2μm以下のレ
ンズが得られた。また型の成形面の劣化及び焼付も見ら
れなかった。上記ガラスは鉛を多く含有するが、成形後
表面をESCAにて分析した結果、鉛のピークは検出さ
れなかった。
スを成形した結果を記す。SF11を1250℃に加熱
溶融させ、450℃に保持した成形用型に上記溶融ガラ
スを滴下した。滴下後、初期圧1kg/cm2 にて4秒
間成形し、その後連続して280kg/cm2 にて14
秒成形した。このような成形方法にて20000ショッ
ト以上の連続成形を行っても成形品の品質は低下せず、
φ18mmのレンズの面精度はPV0.2μm以下のレ
ンズが得られた。また型の成形面の劣化及び焼付も見ら
れなかった。上記ガラスは鉛を多く含有するが、成形後
表面をESCAにて分析した結果、鉛のピークは検出さ
れなかった。
【0009】
【実施例2】高純度TiB2 粉末(純度99.99%以
上)と高純度Al2 O3 粉末(純度99%以上)とを重
量%で70%と25%(残りは焼結助剤)との割合で混
合し、1600℃、50時間で仮焼成した。焼成後、研
削加工により所望と近似した形状に仕上げた。その後、
1500気圧・1600℃にてHIP処理により、機械
的強度及び物理的特性の満足する複合セラミックスブラ
ンクを形成した。そのブランクを研削加工し、最終形状
の寸法にした後、その型材の成形面を#10000のダ
イヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工し、表面粗さR
max0.07μm以下まで仕上げた。
上)と高純度Al2 O3 粉末(純度99%以上)とを重
量%で70%と25%(残りは焼結助剤)との割合で混
合し、1600℃、50時間で仮焼成した。焼成後、研
削加工により所望と近似した形状に仕上げた。その後、
1500気圧・1600℃にてHIP処理により、機械
的強度及び物理的特性の満足する複合セラミックスブラ
ンクを形成した。そのブランクを研削加工し、最終形状
の寸法にした後、その型材の成形面を#10000のダ
イヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工し、表面粗さR
max0.07μm以下まで仕上げた。
【0010】この光学素子成形用型にて、SK系のガラ
スを成形した結果を記す。SK7の硝剤を1300℃に
加熱溶融後、上記成形用型に供給した。上記成形用型は
640℃に加熱保持し、ガラス供給後初期圧1kg/c
m2 の圧力にて5秒間成形し、その後連続して250k
g/cm2 にて14秒成形した。このような成形方法に
て10000ショット以上の連続成形を行った結果、成
形品の品質は低下せず、φ20mmのレンズにて面精度
はPV0.3μm以下であった。また型の成形面の劣化
及び焼付も見られなかった。
スを成形した結果を記す。SK7の硝剤を1300℃に
加熱溶融後、上記成形用型に供給した。上記成形用型は
640℃に加熱保持し、ガラス供給後初期圧1kg/c
m2 の圧力にて5秒間成形し、その後連続して250k
g/cm2 にて14秒成形した。このような成形方法に
て10000ショット以上の連続成形を行った結果、成
形品の品質は低下せず、φ20mmのレンズにて面精度
はPV0.3μm以下であった。また型の成形面の劣化
及び焼付も見られなかった。
【0011】一方、上記成形方法においてTiB2 を6
9wt%にした成形用型ににより成形したところ、Ti
B2 に対するAl2 O3 の含有率が多いために気孔率が
増加し、TiB2 の強度が低下して10000ショット
の連続成形にて型外周部に欠けが生じた。また、その型
の表面をSEMにて観察したところ、表面にクラックが
生じており、成形レンズ表面にそのクラックが転写して
いるため、光学素子としては使用不可能であった。
9wt%にした成形用型ににより成形したところ、Ti
B2 に対するAl2 O3 の含有率が多いために気孔率が
増加し、TiB2 の強度が低下して10000ショット
の連続成形にて型外周部に欠けが生じた。また、その型
の表面をSEMにて観察したところ、表面にクラックが
生じており、成形レンズ表面にそのクラックが転写して
いるため、光学素子としては使用不可能であった。
【0012】
【実施例3】高純度TiB2 粉末(純度99.99%以
上)と高純度Al2 O3 粉末(純度99%以上)とを重
量%で90%と5%(残りは焼結助剤)との割合で混合
し、1300℃、46時間で仮焼成した。焼成後、研削
加工により所望と近似した形状に仕上げた。その後、1
400気圧・1400℃にてHIP処理により、機械的
強度及び物理的特性の満足する複合セラミックスブラン
クを形成した。そのブランクを研削加工し、最終形状の
寸法にした後、その型材の成形面を#12000のダイ
ヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工し、表面粗さRm
ax0.03μm以下まで仕上げた。
上)と高純度Al2 O3 粉末(純度99%以上)とを重
量%で90%と5%(残りは焼結助剤)との割合で混合
し、1300℃、46時間で仮焼成した。焼成後、研削
加工により所望と近似した形状に仕上げた。その後、1
400気圧・1400℃にてHIP処理により、機械的
強度及び物理的特性の満足する複合セラミックスブラン
クを形成した。そのブランクを研削加工し、最終形状の
寸法にした後、その型材の成形面を#12000のダイ
ヤモンドパウダ−研磨剤にて研磨加工し、表面粗さRm
ax0.03μm以下まで仕上げた。
【0013】この光学素子成形用型にて、BK系のガラ
ス成形した結果を記す。BK7を1200℃に加熱溶融
させ、型温を535℃に保持した成形用型上に滴下し
た。滴下後、初期圧1kg/cm2 にて6秒間成形し、
その後連続して280kg/cm2 にて11秒成形し
た。上記成形用型にて15000ショット以上の連続成
形を行ったところ、φ16mmのレンズ成形品の品質は
低下せず、面精度はPV0.2μm以下のレンズが得ら
れた。また型の成形面の劣化及び焼付も見られなかっ
た。
ス成形した結果を記す。BK7を1200℃に加熱溶融
させ、型温を535℃に保持した成形用型上に滴下し
た。滴下後、初期圧1kg/cm2 にて6秒間成形し、
その後連続して280kg/cm2 にて11秒成形し
た。上記成形用型にて15000ショット以上の連続成
形を行ったところ、φ16mmのレンズ成形品の品質は
低下せず、面精度はPV0.2μm以下のレンズが得ら
れた。また型の成形面の劣化及び焼付も見られなかっ
た。
【0014】一方、上記成形方法においてAl2 O3 を
4wt%にした成形用型により連続成形したところ、1
000ショット付近で型表面に曇りが生じた。表面を分
析した結果、TiB2 が分解しチタン酸化物とボロン酸
化物が生成していた。また、その型材にて成形したレン
ズを測定した結果、表面粗さがRmax0.2μmであ
り、光学特性が満足するものではなかった。
4wt%にした成形用型により連続成形したところ、1
000ショット付近で型表面に曇りが生じた。表面を分
析した結果、TiB2 が分解しチタン酸化物とボロン酸
化物が生成していた。また、その型材にて成形したレン
ズを測定した結果、表面粗さがRmax0.2μmであ
り、光学特性が満足するものではなかった。
【0015】
【発明の効果】以上のように、本発明の光学素子成形用
型によれば、TiB2 とAl2 O3 の複合セラミックス
を主成分とした材料により形成しているので、型材料と
ガラス成分とが反応せず、焼付が生じなくなり、高温耐
久性に優れたものとなって、従来の成形ガラス温度より
高温度での成形が可能で、高精度の光学素子を得ること
ができる。
型によれば、TiB2 とAl2 O3 の複合セラミックス
を主成分とした材料により形成しているので、型材料と
ガラス成分とが反応せず、焼付が生じなくなり、高温耐
久性に優れたものとなって、従来の成形ガラス温度より
高温度での成形が可能で、高精度の光学素子を得ること
ができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 化学主成分がTiB2 90〜70wt%
およびAl2 O3 5〜25wt%からなるセラミクック
スにより、少なくとも成形面を形成したことを特徴とす
る光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2731592A JPH05193960A (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2731592A JPH05193960A (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05193960A true JPH05193960A (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=12217656
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2731592A Withdrawn JPH05193960A (ja) | 1992-01-17 | 1992-01-17 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05193960A (ja) |
-
1992
- 1992-01-17 JP JP2731592A patent/JPH05193960A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990408 |