JPH05183272A - 多層電子部品搭載用基板の製造方法 - Google Patents
多層電子部品搭載用基板の製造方法Info
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- JPH05183272A JPH05183272A JP3360071A JP36007191A JPH05183272A JP H05183272 A JPH05183272 A JP H05183272A JP 3360071 A JP3360071 A JP 3360071A JP 36007191 A JP36007191 A JP 36007191A JP H05183272 A JPH05183272 A JP H05183272A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子部品搭載用凹部に露出させた導体パター
ンに損傷を与えることがない多層電子部品搭載用基板の
製造方法を得ること。 【構成】 電子部品搭載用凹部95及び導体パターン9
11を形成してなる最下段基板9と,接着層5と,開口
部75を設けた上層用基板7とを接合した多層板を準備
する。次いで,該多層板に貫通孔97を穿設する。そし
て,多層板の最上部71には,開口部75を被覆するシ
ート状マスク1を熱圧着した後,上記多層板の全面及び
貫通孔97を銅メッキ11で被覆する。次に,エッチン
グ処理により多層板の上部71及び下部99に導体パタ
ーンを形成する。その後,その上部71からシート状マ
スク1を取り除く。
ンに損傷を与えることがない多層電子部品搭載用基板の
製造方法を得ること。 【構成】 電子部品搭載用凹部95及び導体パターン9
11を形成してなる最下段基板9と,接着層5と,開口
部75を設けた上層用基板7とを接合した多層板を準備
する。次いで,該多層板に貫通孔97を穿設する。そし
て,多層板の最上部71には,開口部75を被覆するシ
ート状マスク1を熱圧着した後,上記多層板の全面及び
貫通孔97を銅メッキ11で被覆する。次に,エッチン
グ処理により多層板の上部71及び下部99に導体パタ
ーンを形成する。その後,その上部71からシート状マ
スク1を取り除く。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,電子部品搭載用凹部に
露出した導体パターンに損傷を与えることがない,多層
電子部品搭載用基板の製造方法に関する。
露出した導体パターンに損傷を与えることがない,多層
電子部品搭載用基板の製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】従来,基板上に電子部品搭載用凹部を有す
る多層電子部品搭載用基板の製造方法としては,図7な
いし図9に示すものがある(特開昭61−75596号
公報)。即ち,この方法は,図9に示すごとく,電子部
品と電気的に接続される導体パターン911を設けた最
下段基板9と,その上に接着層5を介して接合した上層
用基板7と,最下段基板9の上方に設けた電子部品搭載
用凹部950とを有する多層電子部品搭載用基板の製造
方法である。この方法においては,まず,図7(a)に
示すごとく,基板の上部91にニッケル・金メッキ層を
形成した電子部品搭載部951と導体パターン911と
を有してなる最下段基板9と,上記電子部品搭載部95
1の外径よりも大きい開口部75を有すると共に,表面
に上記と同様のメッキ層を形成した導体パターン711
を有する上層用基板7と,上記開口部75と同平面形状
の開口部55を有する接着層5とを準備する。
る多層電子部品搭載用基板の製造方法としては,図7な
いし図9に示すものがある(特開昭61−75596号
公報)。即ち,この方法は,図9に示すごとく,電子部
品と電気的に接続される導体パターン911を設けた最
下段基板9と,その上に接着層5を介して接合した上層
用基板7と,最下段基板9の上方に設けた電子部品搭載
用凹部950とを有する多層電子部品搭載用基板の製造
方法である。この方法においては,まず,図7(a)に
示すごとく,基板の上部91にニッケル・金メッキ層を
形成した電子部品搭載部951と導体パターン911と
を有してなる最下段基板9と,上記電子部品搭載部95
1の外径よりも大きい開口部75を有すると共に,表面
に上記と同様のメッキ層を形成した導体パターン711
を有する上層用基板7と,上記開口部75と同平面形状
の開口部55を有する接着層5とを準備する。
【0003】次に,図7(b)に示すごとく,最下段基
板9の上に接着層5を介して上記上層用基板7を積層す
ると共に,これらを熱圧着により接合して多層板を作製
する。次いで,図8(a)に示すごとく,上記多層板に
貫通孔97を穿設し,更に多層板の全表面及び貫通孔9
7にスルーホールメッキとしての金属(銅)メッキ11
を施す。次いで,図8(b)に示すごとく,エッチング
により,最下段基板9の下部99に,導体パターン99
1を,また上層用基板7の上部71には導体パターン7
11を形成する。そして,図9に示すごとく,電子部品
搭載部951の上に上層用基板7の開口部75によって
囲まれた電子部品搭載用凹部950が形成される。ま
た,貫通孔97には,リードピン4を挿入する。
板9の上に接着層5を介して上記上層用基板7を積層す
ると共に,これらを熱圧着により接合して多層板を作製
する。次いで,図8(a)に示すごとく,上記多層板に
貫通孔97を穿設し,更に多層板の全表面及び貫通孔9
7にスルーホールメッキとしての金属(銅)メッキ11
を施す。次いで,図8(b)に示すごとく,エッチング
により,最下段基板9の下部99に,導体パターン99
1を,また上層用基板7の上部71には導体パターン7
11を形成する。そして,図9に示すごとく,電子部品
搭載部951の上に上層用基板7の開口部75によって
囲まれた電子部品搭載用凹部950が形成される。ま
た,貫通孔97には,リードピン4を挿入する。
【0004】
【解決しようとする課題】しかしながら,図8(b)に
示したごとく,エッチングにより導体パターン991,
711を形成する工程においては,電子部品搭載部95
1において露出している導体パターン911を汚染する
おそれがある。即ち,上記導体パターン991,711
を形成する際には,上記のごとく,まず貫通孔97及び
基板の全表面に一旦銅メッキ11を施し,その後電子部
品搭載部951,当初の導体パターン911上の銅メッ
キ11(図8a)をエッチングにより除去している。
示したごとく,エッチングにより導体パターン991,
711を形成する工程においては,電子部品搭載部95
1において露出している導体パターン911を汚染する
おそれがある。即ち,上記導体パターン991,711
を形成する際には,上記のごとく,まず貫通孔97及び
基板の全表面に一旦銅メッキ11を施し,その後電子部
品搭載部951,当初の導体パターン911上の銅メッ
キ11(図8a)をエッチングにより除去している。
【0005】そのため,上記エッチングにより最下段基
板9の導体パターン911の表面が汚染され,電気的接
合性の劣化等が生じるおそれがある。本発明は,かかる
問題点に鑑み,電子部品搭載部の導体パターンを損傷す
ることがない多層電子部品搭載用基板の製造方法を提供
しようとするものである。
板9の導体パターン911の表面が汚染され,電気的接
合性の劣化等が生じるおそれがある。本発明は,かかる
問題点に鑑み,電子部品搭載部の導体パターンを損傷す
ることがない多層電子部品搭載用基板の製造方法を提供
しようとするものである。
【0006】
【課題の解決手段】本発明は,電子部品と電気的に接続
される導体パターンを設けた複数枚の基板と,該基板を
2段以上に積層すると共に最下段基板に設けた電子部品
搭載用凹部とを有する多層電子部品搭載用基板の製造方
法において,最下段基板の上部に電子部品搭載用凹部を
形成する工程と,最下段基板の上部に導体パターンを形
成する工程と,上記電子部品搭載用凹部の外径よりも大
きい開口部を有する上層用基板を準備する工程と,上記
最下段基板の上に接着層を介して上記上層用基板を積層
すると共に接合して多層板を作製する工程と,多層板に
貫通孔を穿設する工程と,最上部の上層用基板の上にそ
の開口部を覆うようにシート状マスクを施すマスク工程
と,上記貫通孔及び上記多層板の両表面に金属メッキを
施す工程と,上記多層板の両表面に導体パターンを形成
する上部導体パターン形成工程と,上記シート状マスク
を除去する除去工程とからなることを特徴とする多層電
子部品搭載用基板の製造方法にある。
される導体パターンを設けた複数枚の基板と,該基板を
2段以上に積層すると共に最下段基板に設けた電子部品
搭載用凹部とを有する多層電子部品搭載用基板の製造方
法において,最下段基板の上部に電子部品搭載用凹部を
形成する工程と,最下段基板の上部に導体パターンを形
成する工程と,上記電子部品搭載用凹部の外径よりも大
きい開口部を有する上層用基板を準備する工程と,上記
最下段基板の上に接着層を介して上記上層用基板を積層
すると共に接合して多層板を作製する工程と,多層板に
貫通孔を穿設する工程と,最上部の上層用基板の上にそ
の開口部を覆うようにシート状マスクを施すマスク工程
と,上記貫通孔及び上記多層板の両表面に金属メッキを
施す工程と,上記多層板の両表面に導体パターンを形成
する上部導体パターン形成工程と,上記シート状マスク
を除去する除去工程とからなることを特徴とする多層電
子部品搭載用基板の製造方法にある。
【0007】本発明において最も注目すべきことは,最
上部の上層用基板の上にその開口部を覆うようにしてシ
ート状マスクを施し,次いで最上部導体パターンを形成
するための金属メッキを行い,該パターン形成後にシー
ト状マスクを除去することにある。本発明において上記
最下段基板は,その上部に電子部品搭載用凹部が形成さ
れている。また,最下段基板の上部において電子部品搭
載用凹部の周辺部には,導体パターンが形成されてい
る。
上部の上層用基板の上にその開口部を覆うようにしてシ
ート状マスクを施し,次いで最上部導体パターンを形成
するための金属メッキを行い,該パターン形成後にシー
ト状マスクを除去することにある。本発明において上記
最下段基板は,その上部に電子部品搭載用凹部が形成さ
れている。また,最下段基板の上部において電子部品搭
載用凹部の周辺部には,導体パターンが形成されてい
る。
【0008】また,上記上層用基板は,上記電子部品搭
載用凹部の外径よりも大きい開口部を有する。上層用基
板の上部には,上記シート状マスクを施した後に導体パ
ターンが形成される。なお,上層用基板は1枚でもよ
い。また,複数枚でもよい。上層用基板の厚さは,例え
ば0.8mm以下である。また,厚さが0.3mm以下
という薄いものであってもよい。また,上記接着層は各
基板の間に介在させる。また,接着層としては,シート
状のプリプレグなどを用いる。
載用凹部の外径よりも大きい開口部を有する。上層用基
板の上部には,上記シート状マスクを施した後に導体パ
ターンが形成される。なお,上層用基板は1枚でもよ
い。また,複数枚でもよい。上層用基板の厚さは,例え
ば0.8mm以下である。また,厚さが0.3mm以下
という薄いものであってもよい。また,上記接着層は各
基板の間に介在させる。また,接着層としては,シート
状のプリプレグなどを用いる。
【0009】また,上記シート状マスクは,フィルム状
又はテープ状で,最上部の上層用基板の開口部を覆うた
めに,その開口部よりも大きい。そして,シート状マス
クは,耐化学銅メッキ液性,かつ耐強アルカリ性のドラ
イフィルム等を用い,上記開口部の周辺部に熱圧着され
る。また,シート状マスクが薄いときや上層用基板が厚
いときには,上記シート状マスクの下部には,最上部の
上層用基板の開口部を塞ぐための補強用の当て板を設け
ることが好ましい。また,上層用基板の開口部は,上方
の基板ほど大きい形状を有している(図6(b)参
照)。
又はテープ状で,最上部の上層用基板の開口部を覆うた
めに,その開口部よりも大きい。そして,シート状マス
クは,耐化学銅メッキ液性,かつ耐強アルカリ性のドラ
イフィルム等を用い,上記開口部の周辺部に熱圧着され
る。また,シート状マスクが薄いときや上層用基板が厚
いときには,上記シート状マスクの下部には,最上部の
上層用基板の開口部を塞ぐための補強用の当て板を設け
ることが好ましい。また,上層用基板の開口部は,上方
の基板ほど大きい形状を有している(図6(b)参
照)。
【0010】
【作用及び効果】本発明の多層電子部品搭載用基板の製
造方法においては,最上部上層用基板の上部にその開口
部を覆うようにしてシート状マスクを施した後,スルー
ホール用の貫通孔内及び多層板の両表面上に金属メッキ
を行う。そのため,シート状マスクにより電子部品搭載
用凹部が被覆されるので,金属メッキがその内部にメッ
キ層を形成しない。従って,電子部品搭載用凹部内の導
体パターンには,上記金属メッキが被覆されない。その
ため,電子部品搭載用凹部内の金属メッキを除去する工
程が不必要である。
造方法においては,最上部上層用基板の上部にその開口
部を覆うようにしてシート状マスクを施した後,スルー
ホール用の貫通孔内及び多層板の両表面上に金属メッキ
を行う。そのため,シート状マスクにより電子部品搭載
用凹部が被覆されるので,金属メッキがその内部にメッ
キ層を形成しない。従って,電子部品搭載用凹部内の導
体パターンには,上記金属メッキが被覆されない。その
ため,電子部品搭載用凹部内の金属メッキを除去する工
程が不必要である。
【0011】また,多層板の両表面上に,基板全体をエ
ッチング液等に浸漬するが,この時電子部品搭載用凹部
内はシート状マスクにより封鎖されているので,エッチ
ング液と接触しない。そのため,電子部品搭載用凹部に
露出している導体パターンが損傷及び汚染を受けること
がない。また,上記の導体パターン形成後はシート状マ
スクを剥離するのみでよく,製造容易である。上記のご
とく,本発明によれば,電子部品搭載用凹部の導体パタ
ーンを損傷することがなく,かつ製造容易な多層電子部
品搭載用基板の製造方法を提供することができる。
ッチング液等に浸漬するが,この時電子部品搭載用凹部
内はシート状マスクにより封鎖されているので,エッチ
ング液と接触しない。そのため,電子部品搭載用凹部に
露出している導体パターンが損傷及び汚染を受けること
がない。また,上記の導体パターン形成後はシート状マ
スクを剥離するのみでよく,製造容易である。上記のご
とく,本発明によれば,電子部品搭載用凹部の導体パタ
ーンを損傷することがなく,かつ製造容易な多層電子部
品搭載用基板の製造方法を提供することができる。
【0012】
【実施例】実施例1 本発明の実施例にかかる多層電子部品搭載用基板の製造
方法につき,図1ないし図3を用いて説明する。本例に
おいて得ようとする多層電子部品搭載用基板は,図3
(b)に示すごとく,最下段基板9と,上層用基板7と
を有する。そして,上記最下段基板9の上には,プリプ
レグよりなる接着層5を介して上記上層用基板7が積層
され多層板を形成している。そして,該多層板の導体パ
ターン711,911,991の周辺には貫通孔97が
穿設されている。該貫通孔97はメッキ層11で被覆さ
れている。
方法につき,図1ないし図3を用いて説明する。本例に
おいて得ようとする多層電子部品搭載用基板は,図3
(b)に示すごとく,最下段基板9と,上層用基板7と
を有する。そして,上記最下段基板9の上には,プリプ
レグよりなる接着層5を介して上記上層用基板7が積層
され多層板を形成している。そして,該多層板の導体パ
ターン711,911,991の周辺には貫通孔97が
穿設されている。該貫通孔97はメッキ層11で被覆さ
れている。
【0013】そして,上記最下段基板9の上部91に
は,電子部品搭載用凹部95と,電子部品と電気的に接
続するための導体パターン911が設けられている。そ
して,上記電子部品搭載用凹部95はメッキ層955で
被覆されている。また,最下段基板9の下部99には,
放熱層や導体パターン991が設けられている。また,
上記上層用基板7は,上記電子部品搭載用凹部95の外
径よりも大きい開口部75を有し,その上部71にはス
ルーホールのランドや接続回路等よりなる導体パターン
711が形成されている。
は,電子部品搭載用凹部95と,電子部品と電気的に接
続するための導体パターン911が設けられている。そ
して,上記電子部品搭載用凹部95はメッキ層955で
被覆されている。また,最下段基板9の下部99には,
放熱層や導体パターン991が設けられている。また,
上記上層用基板7は,上記電子部品搭載用凹部95の外
径よりも大きい開口部75を有し,その上部71にはス
ルーホールのランドや接続回路等よりなる導体パターン
711が形成されている。
【0014】次に,上記多層電子部品搭載用基板の製造
方法について説明する。まず,図1(a)に示すごと
く,最下段基板9において,その下部99を銅箔層99
5で被覆し,その上部91には銅とニッケルからなるメ
ッキ層955で被覆された電子部品搭載用凹部95と導
体パターン911を設ける。また,基板の上部71が,
銅箔層715で被覆され,上記電子部品搭載用凹部95
の外径よりも大きい開口部75が設けられた上層用基板
7を準備する。また,上記上層用基板7の開口部75と
同平面形状のプリプレグよりなる接着層5を準備する。
方法について説明する。まず,図1(a)に示すごと
く,最下段基板9において,その下部99を銅箔層99
5で被覆し,その上部91には銅とニッケルからなるメ
ッキ層955で被覆された電子部品搭載用凹部95と導
体パターン911を設ける。また,基板の上部71が,
銅箔層715で被覆され,上記電子部品搭載用凹部95
の外径よりも大きい開口部75が設けられた上層用基板
7を準備する。また,上記上層用基板7の開口部75と
同平面形状のプリプレグよりなる接着層5を準備する。
【0015】次に,図1(b)に示すごとく,上記最下
段基板9の上に,接着層5を介して上層用基板7を積層
し,これらを熱圧着により接合し,多層板を得る。次
に,図2(a)に示すごとく,該多層板に貫通孔97を
ドリルにより穿設する。次に,図2(b)に示すごと
く,上層用基板7の開口部75の外径よりも大きいシー
ト状マスク1を準備する。該シート状マスク1は耐化学
銅メッキ液性で,かつ耐強アルカリ性のフルアディティ
ブ用感光性のドライフィルムである。そして,上記シー
ト状マスク1により上層用基板7の開口部75の全部を
被覆し,熱圧着する。
段基板9の上に,接着層5を介して上層用基板7を積層
し,これらを熱圧着により接合し,多層板を得る。次
に,図2(a)に示すごとく,該多層板に貫通孔97を
ドリルにより穿設する。次に,図2(b)に示すごと
く,上層用基板7の開口部75の外径よりも大きいシー
ト状マスク1を準備する。該シート状マスク1は耐化学
銅メッキ液性で,かつ耐強アルカリ性のフルアディティ
ブ用感光性のドライフィルムである。そして,上記シー
ト状マスク1により上層用基板7の開口部75の全部を
被覆し,熱圧着する。
【0016】次に,図2(c)に示すごとく,これらを
メッキ液中に浸漬して,シート状マスク1を設けた上記
多層板の全面及び貫通孔97内に銅メッキ11を施す。
次いで,この多層板をエッチング液中に浸漬する。これ
により,図3(a)に示すごとく,上層用基板7の上部
71には導体パターン711を,最下段基板9の下部9
9には導体パターン991をエッチングにより形成す
る。その後,シート状マスク1を除去して,前記した図
3(b)に示す多層電子部品搭載用基板を得る。
メッキ液中に浸漬して,シート状マスク1を設けた上記
多層板の全面及び貫通孔97内に銅メッキ11を施す。
次いで,この多層板をエッチング液中に浸漬する。これ
により,図3(a)に示すごとく,上層用基板7の上部
71には導体パターン711を,最下段基板9の下部9
9には導体パターン991をエッチングにより形成す
る。その後,シート状マスク1を除去して,前記した図
3(b)に示す多層電子部品搭載用基板を得る。
【0017】上記より知られるごとく,本例の多層電子
部品搭載用基板の製造方法においては,上層用基板7の
上部71の上にシート状マスク1を設けることにより,
上層用基板7の開口部75及び最下段基板9の電子部品
搭載用凹部95を全て被覆した後,この多層板に銅メッ
キ11を施し,エッチング液に浸漬して導体パターンを
形成する。そのため,金属メッキが電子部品搭載用凹部
95内に形成されない。従って,該銅メッキ11を電子
部品搭載用凹部95内から除去する工程が不必要とな
る。
部品搭載用基板の製造方法においては,上層用基板7の
上部71の上にシート状マスク1を設けることにより,
上層用基板7の開口部75及び最下段基板9の電子部品
搭載用凹部95を全て被覆した後,この多層板に銅メッ
キ11を施し,エッチング液に浸漬して導体パターンを
形成する。そのため,金属メッキが電子部品搭載用凹部
95内に形成されない。従って,該銅メッキ11を電子
部品搭載用凹部95内から除去する工程が不必要とな
る。
【0018】更に,多層板の上部71及び下部99に導
体パターンを形成する工程においては,上記多層板をエ
ッチッグ液に浸漬する。この時,エッチッグ液は上記電
子部品搭載用凹部95内に入らない。そのため,電子部
品搭載用凹部95に露出している最下段基板9のの導体
パターン911の損傷がない。また,図3(a)に示し
た多層板の上部71と下部99の導体パターン711,
991を形成した後には,シート状マスク1を剥離する
のみで,製造容易である。それ故,本例の多層電子部品
搭載用基板の製造方法によれば,電子部品搭載用凹部に
露出した導体パターンに損傷を与えることがない。
体パターンを形成する工程においては,上記多層板をエ
ッチッグ液に浸漬する。この時,エッチッグ液は上記電
子部品搭載用凹部95内に入らない。そのため,電子部
品搭載用凹部95に露出している最下段基板9のの導体
パターン911の損傷がない。また,図3(a)に示し
た多層板の上部71と下部99の導体パターン711,
991を形成した後には,シート状マスク1を剥離する
のみで,製造容易である。それ故,本例の多層電子部品
搭載用基板の製造方法によれば,電子部品搭載用凹部に
露出した導体パターンに損傷を与えることがない。
【0019】実施例2 本例は,図4ないし図6に示すごとく,実施例1の製造
方法において2枚の上層用基板7,8を用い,またシー
ト状マスク1の下に当て板19を配置して,銅メッキ1
1を施すものである。本例において得ようとする多層電
子部品搭載用基板は,図6(b)に示すごとく,実施例
1と同様の上層用基板7と最下段基板9の間に,上層用
基板8を配置したものである。該上層用基板8において
は,上層用基板7の開口部75の外径より小さく,最下
段基板9の電子部品搭載用凹部95の外径よりも大きい
形状の開口部85を有している。そして,上記上層用基
板8の上部81において,該開口部85の周辺には,導
体パターン811が形成されている。また,上記当て板
19は,上層用基板7の開口部75の外径と同形で,上
層用基板7と同じ厚さである(図6(a))。
方法において2枚の上層用基板7,8を用い,またシー
ト状マスク1の下に当て板19を配置して,銅メッキ1
1を施すものである。本例において得ようとする多層電
子部品搭載用基板は,図6(b)に示すごとく,実施例
1と同様の上層用基板7と最下段基板9の間に,上層用
基板8を配置したものである。該上層用基板8において
は,上層用基板7の開口部75の外径より小さく,最下
段基板9の電子部品搭載用凹部95の外径よりも大きい
形状の開口部85を有している。そして,上記上層用基
板8の上部81において,該開口部85の周辺には,導
体パターン811が形成されている。また,上記当て板
19は,上層用基板7の開口部75の外径と同形で,上
層用基板7と同じ厚さである(図6(a))。
【0020】次に,本例の多層電子部品搭載用基板の製
造方法につき説明する。まず,図4(a)に示すごと
く,実施例1に示した上層用基板7と最下段基板9と,
更に上記上層用基板8を準備する。また,上層用基板7
の基板と同平面形状の接着層51と,上層用基板8の基
板と同平面形状の接着層52を準備する。そして,上層
用基板7,接着層51,上層用基板8,接着層52そし
て最下段基板9を積層し,図4(b)に示すごとく,こ
れらを熱圧着し,多層板を得る。次に,図5(a)に示
すごとく,貫通孔97をドリルにて穿設する。
造方法につき説明する。まず,図4(a)に示すごと
く,実施例1に示した上層用基板7と最下段基板9と,
更に上記上層用基板8を準備する。また,上層用基板7
の基板と同平面形状の接着層51と,上層用基板8の基
板と同平面形状の接着層52を準備する。そして,上層
用基板7,接着層51,上層用基板8,接着層52そし
て最下段基板9を積層し,図4(b)に示すごとく,こ
れらを熱圧着し,多層板を得る。次に,図5(a)に示
すごとく,貫通孔97をドリルにて穿設する。
【0021】そして,図5(b)に示すごとく,上層用
基板7の開口部75内に当て板19を置き,更に該当て
板19の上及び上層用基板7の上部71に実施例1と同
様のシート状マスク1を配置し,これらを熱圧着する。
これにより,最下段基板9の電子部品搭載用凹部95,
上層用基板8の開口部85,そして上層用基板7の開口
部75を閉止する。次に,図5(c)に示すごとく,多
層板をメッキ液中に浸漬して,その全面及び貫通孔97
内に銅メッキ11を施す。次いで,実施例1と同様にし
て,図6(a)に示すごとく,エッチングにより上層用
基板7の上部71に導体パターン711と,最下段基板
9の下部99に導体パターン991とを形成する。その
後,シート状マスク1及び当て板19を多層板から除去
し,上記図6(b)に示すごとき多層電子部品搭載用基
板を得る。
基板7の開口部75内に当て板19を置き,更に該当て
板19の上及び上層用基板7の上部71に実施例1と同
様のシート状マスク1を配置し,これらを熱圧着する。
これにより,最下段基板9の電子部品搭載用凹部95,
上層用基板8の開口部85,そして上層用基板7の開口
部75を閉止する。次に,図5(c)に示すごとく,多
層板をメッキ液中に浸漬して,その全面及び貫通孔97
内に銅メッキ11を施す。次いで,実施例1と同様にし
て,図6(a)に示すごとく,エッチングにより上層用
基板7の上部71に導体パターン711と,最下段基板
9の下部99に導体パターン991とを形成する。その
後,シート状マスク1及び当て板19を多層板から除去
し,上記図6(b)に示すごとき多層電子部品搭載用基
板を得る。
【0022】上記より知られるごとく,本例の多層電子
部品搭載用基板は,電子部品搭載用凹部を有する最下段
基板9と,その上には開口部をそれぞれ設けた2枚の上
層用基板8,7からなる三層積層基板である。そして,
図5(b)で示すごとく,シート状マスク1の下面は,
当て板19により補強されている。そのため,図5
(c)に示す銅メッキ工程及び図6(a)に示す多層板
の上部71及び下部99の導体パターン711,991
の形成工程において,シート状マスク1が破損,亀裂等
の損傷を受けることがない。また,たとえ,シート状マ
スクが損傷を受けたとしても,その下の当て板により,
銅メッキ液及びエッチング液が電子部品搭載用凹部に浸
入することはない。その他,本例においても実施例1と
同様の効果を有する。
部品搭載用基板は,電子部品搭載用凹部を有する最下段
基板9と,その上には開口部をそれぞれ設けた2枚の上
層用基板8,7からなる三層積層基板である。そして,
図5(b)で示すごとく,シート状マスク1の下面は,
当て板19により補強されている。そのため,図5
(c)に示す銅メッキ工程及び図6(a)に示す多層板
の上部71及び下部99の導体パターン711,991
の形成工程において,シート状マスク1が破損,亀裂等
の損傷を受けることがない。また,たとえ,シート状マ
スクが損傷を受けたとしても,その下の当て板により,
銅メッキ液及びエッチング液が電子部品搭載用凹部に浸
入することはない。その他,本例においても実施例1と
同様の効果を有する。
【図1】実施例1の多層電子部品搭載用基板の製造工程
説明図。
説明図。
【図2】図1に続く製造工程説明図。
【図3】図2に続く製造工程説明図。
【図4】実施例2の多層電子部品搭載用基板の製造工程
説明図。
説明図。
【図5】図4に続く製造工程説明図。
【図6】図5に続く製造工程説明図。
【図7】従来例の多層電子部品搭載用基板の製造工程説
明図。
明図。
【図8】図7に続く製造工程説明図。
【図9】従来例の多層電子部品搭載用基板の断面図。
1...シート状マスク, 11...銅メッキ, 5,51,52...接着層, 55,515,525,75,85...開口部, 7,8...上層用基板, 711,811,911,991...導体パターン, 71,81,91...上部, 9...最下段基板, 95,950...電子部品搭載用凹部, 99...下部,
Claims (1)
- 【請求項1】 電子部品と電気的に接続される導体パタ
ーンを設けた複数枚の基板と,該基板を2段以上に積層
すると共に最下段基板に設けた電子部品搭載用凹部とを
有する多層電子部品搭載用基板の製造方法において, 最下段基板の上部に電子部品搭載用凹部を形成する工程
と, 最下段基板の上部に導体パターンを形成する工程と, 上記電子部品搭載用凹部の外径よりも大きい開口部を有
する上層用基板を準備する工程と, 上記最下段基板の上に接着層を介して上記上層用基板を
積層すると共に接合して多層板を作製する工程と, 多層板に貫通孔を穿設する工程と, 最上部の上層用基板の上にその開口部を覆うようにシー
ト状マスクを施すマスク工程と, 上記貫通孔及び上記多層板の両表面に金属メッキを施す
工程と, 上記多層板の両表面に導体パターンを形成する上部導体
パターン形成工程と, 上記シート状マスクを除去する除去工程とからなること
を特徴とする多層電子部品搭載用基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3360071A JPH05183272A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 多層電子部品搭載用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3360071A JPH05183272A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 多層電子部品搭載用基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05183272A true JPH05183272A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=18467762
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3360071A Pending JPH05183272A (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 多層電子部品搭載用基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05183272A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20030010887A (ko) * | 2001-07-27 | 2003-02-06 | 삼성전기주식회사 | 비지에이 기판의 제조방법 |
CN1300055C (zh) * | 1998-07-22 | 2007-02-14 | 住友电气工业株式会社 | 立方氮化硼烧结体 |
KR100797722B1 (ko) * | 2006-10-11 | 2008-01-23 | 삼성전기주식회사 | 액체 렌즈 제작 장치 |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP3360071A patent/JPH05183272A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1300055C (zh) * | 1998-07-22 | 2007-02-14 | 住友电气工业株式会社 | 立方氮化硼烧结体 |
KR20030010887A (ko) * | 2001-07-27 | 2003-02-06 | 삼성전기주식회사 | 비지에이 기판의 제조방법 |
KR100797722B1 (ko) * | 2006-10-11 | 2008-01-23 | 삼성전기주식회사 | 액체 렌즈 제작 장치 |
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