JPH05182921A - 拡散炉 - Google Patents
拡散炉Info
- Publication number
- JPH05182921A JPH05182921A JP5092A JP5092A JPH05182921A JP H05182921 A JPH05182921 A JP H05182921A JP 5092 A JP5092 A JP 5092A JP 5092 A JP5092 A JP 5092A JP H05182921 A JPH05182921 A JP H05182921A
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- JP
- Japan
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- reaction gas
- core tube
- furnace core
- furnace
- oxygen concentration
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- Pending
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- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Electric Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】大気と炉芯管１との圧力差及び温度差による外
気の浸入があってもウェーハ７における処理のばらつき
をなくす。 【構成】炉芯管１の入口付近に配管８と、酸素濃度を測
定する酸素濃度測定器５とを取付け、測定される酸素濃
度値と設定濃度とを比較し、制御装置３を介して反応気
体混合装置２を動作させ反応気体流量を制御する。
気の浸入があってもウェーハ７における処理のばらつき
をなくす。 【構成】炉芯管１の入口付近に配管８と、酸素濃度を測
定する酸素濃度測定器５とを取付け、測定される酸素濃
度値と設定濃度とを比較し、制御装置３を介して反応気
体混合装置２を動作させ反応気体流量を制御する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板（以下ウェ
ーハと称する）を高温で熱処理する拡散炉に関する。
ーハと称する）を高温で熱処理する拡散炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の拡散炉について縦型拡散炉を例に
説明する。
説明する。
【０００３】図２は従来の一例を示す拡散炉の模式断面
図である。従来、この種の拡散炉は、例えば、図２に示
すように、ウェーハ７を搭載するウェーハ装填治具６を
収納する炉芯管１と、この炉芯管１の周囲に取付けられ
たヒータ４と、炉芯管１に反応ガスを供給する反応気体
混合装置２と、この反応気体混合装置を制御する制御装
置３とで構成されていた。
図である。従来、この種の拡散炉は、例えば、図２に示
すように、ウェーハ７を搭載するウェーハ装填治具６を
収納する炉芯管１と、この炉芯管１の周囲に取付けられ
たヒータ４と、炉芯管１に反応ガスを供給する反応気体
混合装置２と、この反応気体混合装置を制御する制御装
置３とで構成されていた。
【０００４】この拡散炉でウェーハを熱処理する場合
は、まず、反応気体の種類を選択し、所望の流量でキャ
リアガスと混合し炉芯管に供給する。次に、混合ガスが
供給される炉芯管１にウェーハ７を搭載するウェーハ装
填治具６をヒータ４で加熱しウェーハ７を熱処理する。
は、まず、反応気体の種類を選択し、所望の流量でキャ
リアガスと混合し炉芯管に供給する。次に、混合ガスが
供給される炉芯管１にウェーハ７を搭載するウェーハ装
填治具６をヒータ４で加熱しウェーハ７を熱処理する。
【０００５】また、ウェーハ７が搭載されたウェーハ装
填治具６を炉芯管１内に収納する際、炉芯管１内と大気
との温度差により炉芯管１内に大気が混入する。この混
入量を一定量以下に制限するため、制御装置３からの制
御信号に従い反応気体混合装置２からウェーハ７の処理
時より大量の反応気体を炉芯管１内に供給し、炉芯管１
内を外気圧より大きくしている。
填治具６を炉芯管１内に収納する際、炉芯管１内と大気
との温度差により炉芯管１内に大気が混入する。この混
入量を一定量以下に制限するため、制御装置３からの制
御信号に従い反応気体混合装置２からウェーハ７の処理
時より大量の反応気体を炉芯管１内に供給し、炉芯管１
内を外気圧より大きくしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の拡散炉
では、炉芯管内と大気との温度差、及び炉芯管入口部分
の大気圧の変動によらず一定量の反応気体を炉芯管に供
給し、大気の混入量の制御を行っているため混入量が処
理毎に異なることがある。そのため混入した大気中の酸
素によって薄い酸化膜形成工程では、処理毎に酸化膜厚
ばらつき生じさせる。また、例えばＭＯＳＦＥＴのＶＴ
特性安定化熱処理工程では、ＶＴ値のばらつきが発生す
る。このことは製品の歩留が低下するという問題点があ
った。
では、炉芯管内と大気との温度差、及び炉芯管入口部分
の大気圧の変動によらず一定量の反応気体を炉芯管に供
給し、大気の混入量の制御を行っているため混入量が処
理毎に異なることがある。そのため混入した大気中の酸
素によって薄い酸化膜形成工程では、処理毎に酸化膜厚
ばらつき生じさせる。また、例えばＭＯＳＦＥＴのＶＴ
特性安定化熱処理工程では、ＶＴ値のばらつきが発生す
る。このことは製品の歩留が低下するという問題点があ
った。
【０００７】本発明の目的は、かかる問題を解消すべく
炉芯管と大気との温度差や圧力差の変動にもかかわらず
ばらつきのない膜厚あるいは特性のばらつきのない処理
ができる拡散炉を提供することである。
炉芯管と大気との温度差や圧力差の変動にもかかわらず
ばらつきのない膜厚あるいは特性のばらつきのない処理
ができる拡散炉を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の拡散炉は、半導
体基板を収納する炉芯管と、前記炉芯管に反応気体を供
給するために配管で接続された反応気体混合装置と、前
記反応気体混合装置を含む拡散炉全体を制御する制御装
置とを有する拡散炉において、前記炉芯管内の反応気体
の酸素濃度を測定する酸素濃度測定器を備えている。
体基板を収納する炉芯管と、前記炉芯管に反応気体を供
給するために配管で接続された反応気体混合装置と、前
記反応気体混合装置を含む拡散炉全体を制御する制御装
置とを有する拡散炉において、前記炉芯管内の反応気体
の酸素濃度を測定する酸素濃度測定器を備えている。
【０００９】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１０】図１は、本発明の一実施例を示す拡散炉の
模式断面図である。この拡散炉は、同図に示すように、
炉芯管１の入口付近の反応気体を導入する配管８と、こ
の配管８と接続されるとともに酸素濃度を測定する酸素
濃度測定器８を設けたことである。
模式断面図である。この拡散炉は、同図に示すように、
炉芯管１の入口付近の反応気体を導入する配管８と、こ
の配管８と接続されるとともに酸素濃度を測定する酸素
濃度測定器８を設けたことである。
【００１１】また、この酸素濃度測定器８は、測定値を
制御装置３へ送信し、制御装置３は設定された酸素濃度
と比較し反応気体混合装置に流量設定信号を出力させる
ことである。それ以外は、従来例と同じである。
制御装置３へ送信し、制御装置３は設定された酸素濃度
と比較し反応気体混合装置に流量設定信号を出力させる
ことである。それ以外は、従来例と同じである。
【００１２】次に、この拡散炉の動作を説明する。ウェ
ーハ７処理時又は、未処理時は制御装置３からの制御信
号に従って反応気体混合装置２において反応気体の種類
を選択し所望の流量で混合後、ヒーター４により所望の
温度に加熱された炉芯管１に供給する。ウェーハ７が装
填されたウェーハ装填治具６を炉芯管１内に入出させる
場合は、炉芯管１の入口付近の反応気体を配管８を通し
て酸素濃度測定器５に導入し、酸素濃度を測定する。測
定値を拡散炉制御装置３に送信し、設定された酸素濃度
に達するように制御装置３より反応気体混合装置２へ反
応気体流量制御信号を送信し、反応気体の流量を自動的
に変更する。
ーハ７処理時又は、未処理時は制御装置３からの制御信
号に従って反応気体混合装置２において反応気体の種類
を選択し所望の流量で混合後、ヒーター４により所望の
温度に加熱された炉芯管１に供給する。ウェーハ７が装
填されたウェーハ装填治具６を炉芯管１内に入出させる
場合は、炉芯管１の入口付近の反応気体を配管８を通し
て酸素濃度測定器５に導入し、酸素濃度を測定する。測
定値を拡散炉制御装置３に送信し、設定された酸素濃度
に達するように制御装置３より反応気体混合装置２へ反
応気体流量制御信号を送信し、反応気体の流量を自動的
に変更する。
【００１３】上記実施例は、ウェーハ装填治具６の入出
する場合についてであるが、反応気体が酸素を大量に含
まなければ、ウェーハ７処理時においても酸素濃度の測
定は可能である。また、炉芯管の破損による大気混入で
あった場合にも検知できるという２次的な効果もある。
する場合についてであるが、反応気体が酸素を大量に含
まなければ、ウェーハ７処理時においても酸素濃度の測
定は可能である。また、炉芯管の破損による大気混入で
あった場合にも検知できるという２次的な効果もある。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、炉芯管の
反応気体の酸素濃度を測定する酸素濃度測定器を備え、
酸素濃度を測定し反応気体混合装置を酸素濃度に応じて
制御することによって、炉芯管と大気の温度差、炉芯管
入口部分の大気圧の変動にかかわらず、炉芯管内への大
気の混入量を最小限に更に一定に保持できる。従って薄
い酸化膜形成工程では、酸化膜圧のバッチ間のばらつき
が低減し、ＭＯＳＦＥＴのＶＴ特性安定化熱処理工程で
は、処理バッチ内、バッチ間のＶＴのばらつきが低減
い、製品の歩留を向上できるという効果がある。
反応気体の酸素濃度を測定する酸素濃度測定器を備え、
酸素濃度を測定し反応気体混合装置を酸素濃度に応じて
制御することによって、炉芯管と大気の温度差、炉芯管
入口部分の大気圧の変動にかかわらず、炉芯管内への大
気の混入量を最小限に更に一定に保持できる。従って薄
い酸化膜形成工程では、酸化膜圧のバッチ間のばらつき
が低減し、ＭＯＳＦＥＴのＶＴ特性安定化熱処理工程で
は、処理バッチ内、バッチ間のＶＴのばらつきが低減
い、製品の歩留を向上できるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す拡散炉の模式断面図で
ある。
ある。
【図２】従来の拡散炉の一例を示す模式断面図である。
【符号の説明】 １ 炉芯管 ２ 反応気体混合装置 ３ 制御装置 ４ ヒータ ５ 酸素濃度測定器 ６ ウェーハ装填治具 ７ ウェーハ ８ 配管
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体基板を収納する炉芯管と、前記炉
芯管に反応気体を供給するために配管で接続された反応
気体混合装置と、前記反応気体混合装置を含む拡散炉全
体を制御する制御装置とを有する拡散炉において、前記
炉芯管内の反応気体の酸素濃度を測定する酸素濃度測定
器を備えることを特徴とする拡散炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5092A JPH05182921A (ja) | 1992-01-06 | 1992-01-06 | 拡散炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5092A JPH05182921A (ja) | 1992-01-06 | 1992-01-06 | 拡散炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05182921A true JPH05182921A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=11463432
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5092A Pending JPH05182921A (ja) | 1992-01-06 | 1992-01-06 | 拡散炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05182921A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110531796A (zh) * | 2019-09-17 | 2019-12-03 | 湖南艾科威智能装备有限公司 | 一种用于扩散炉的称重恒温槽及其参数自动调整方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63220517A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-13 | Mitsubishi Electric Corp | 反応炉 |
-
1992
- 1992-01-06 JP JP5092A patent/JPH05182921A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63220517A (ja) * | 1987-03-09 | 1988-09-13 | Mitsubishi Electric Corp | 反応炉 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110531796A (zh) * | 2019-09-17 | 2019-12-03 | 湖南艾科威智能装备有限公司 | 一种用于扩散炉的称重恒温槽及其参数自动调整方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980421 |