JPH05181247A - 処理槽とその防食方法 - Google Patents

処理槽とその防食方法

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JPH05181247A
JPH05181247A JP3347512A JP34751291A JPH05181247A JP H05181247 A JPH05181247 A JP H05181247A JP 3347512 A JP3347512 A JP 3347512A JP 34751291 A JP34751291 A JP 34751291A JP H05181247 A JPH05181247 A JP H05181247A
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伸隆 五嶋
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡潔・安価な手段により、ハロゲン化銀感光
材料に対する漂白能を有する処理液の腐食から槽本体を
守ることができる漂白処理槽とその防食方法を提供す
る。 【構成】 処理液を、所定の液面変動範囲内で貯蔵可能
な槽本体の内面に対向させて陽極(プラス電位)を周設
し、かつ該本体を陰極(マイナス電位)に構成し、槽本
体を構成する材料の各元素を不動態化できるようにし
た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は電解腐食性溶液の貯蔵
槽、特に、写真現像工程に用いられる漂白能を有する処
理液を内蔵する溶液の処理槽とその防食方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】写真の自動現像工程、例えば、発色現像
処理されたカラー感光材料の脱銀処理工程などにおいて
は、ハロゲン化銀感光材料に対する漂白能を有する処理
液を、その液面レベルが所定の変動範囲内で収まるよう
に制御しつつステンレス製あるいは有機材料製の処理槽
内に貯蔵して使用することが行われている。即ち、該感
光材料を搬送手段によって処理槽内に搬送して槽内に浸
漬して、定着処理など所定の処理を行うようになってい
る。この場合、処理液は、酸化漂白剤、漂白促進剤、再
ハロゲン化剤などの電解性薬液を含有し、しかもその反
応性を高めるために、30〜40℃程度に保温されてい
る。従って、該処理槽および感光材料の搬送手段(ロー
ラや軸受など)は、常時、処理液による電解腐食作用を
受けることになる。
【0003】特に、処理液と空気の境界層となる液表面
の近傍は、空気中から豊富に供給される溶存酸素を消費
しながら電解が進むため、他の液接触部位に比べて桁違
いの速さで腐食が進行する。しかも、漂白処理槽では、
その液面レベルが極めて狭い範囲でのみ変動するように
制御されているので、液面近傍に対応する槽本体の内表
面は反応に曝され、集中的なリング状腐食が発生する
(図4)。
【0004】この電解腐食による槽本体の損傷は非常に
速やかに進行し、半年程度で槽本体を交換しなければな
らなくなることもあるため、そのメンテナンスコスト
は、処理液価格の20〜30%にも及んでいる。電解腐
食にはこうした問題点があるにも関わらず、「現像処理
の高速化」という時代ニーズによって、処理液は、 高濃度化 高温化 の傾向に一層拍車がかかっており、より強い腐食作用が
起きやすくなっているのが現状である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】こうした電解腐食から
処理槽を守るには、例えば、チタンやその合金など耐食
性に優れた材質で処理槽本体を構成することも考えられ
るが、コストと加工性の点で実用的でない。また、プラ
スチック等を利用した処理槽は、処理液に対する耐食性
が充分でなく、不純物溶出の恐れもあり、望ましくな
い。同様に、塗装による防食は、ピンホールや不純物溶
出の恐れがあり、望ましくない。
【0006】そこで、例えば、犠牲電極を槽内に配設し
て、処理液に対する防食を行う方法が提案されている
(特開平3−228049)。これは、槽本体を構成す
るステンレス鋼より腐食しやすい金属(モリブデンを含
まないステンレス鋼や熱変質によって、表面を腐食しや
すい性情にかえたものなど)を処理液に接触させて、モ
リブデンなどを含有する槽本体のステンレス鋼を守るこ
とを目的としている。しかしながら、この方法は、犠牲
電極中に含まれる各種の金属イオンが処理液中に溶出す
ることを前提としているので、溶出イオンが写真現像工
程に悪影響(例えば、発色性の不安定化など)を与える
恐れがある。
【0007】この発明は上記の点に鑑み、簡潔・安価な
手段により、槽本体を処理液の腐食から守ることができ
る処理槽とその防食方法を提供することを目的としてい
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明の処理槽は、ハロゲン化銀感光材料に対す
る漂白能を有する処理液を、所定の液面変動範囲内で貯
蔵可能な槽本体の内面に対向させて陽極を周設し、かつ
該本体を陰極に構成し、槽本体を構成する材料を不動態
化できるようにしたものである。
【0009】また、この発明の処理槽の防食方法は、ハ
ロゲン化銀感光材料に対する漂白能を有する処理液を、
所定の液面変動範囲内に維持しながら貯蔵する処理槽に
おいて、前記処理槽の本体内面に対向させた陽極にプラ
ス電位を、該本体にマイナス電位を負荷し、槽本体を構
成する材料を不動態化できるようにしたものである。ま
た、この発明の処理槽の防食方法は、前記槽本体の陰極
電位が、 −1.0〜−0.2V (vs SHE) であるように構成して、槽本体がステンレス鋼である場
合に不動態化を実現できるようにしたものである。
【0010】また、この発明の処理槽の防食方法は、前
記陽極の電解電流密度が、 10A/dm2 以下 であるようにし、省電力での腐食防止が実現できるよう
にしたものである。また、この発明の処理槽の防食方法
は、前記陽極が、前記液面変動範囲に対応可能な帯状電
極であるように構成し、腐食現象の顕著な液面対応領域
を保護できるようにしたものである。
【0011】また、この発明の処理槽の防食方法は、前
記陽極を不溶性電極で構成し、長期間の安定性を確保で
きるようにしたものである。また、この発明の処理槽の
防食方法は、前記陽極を陽イオン交換膜で被覆して、陽
極自体と内蔵する処理液の劣化を防止できるようにした
ものである。
【0012】
【作用】漂白能を有する処理液を、所定の液面変動範囲
内に維持して槽本体に貯蔵するとともに、該槽本体内面
の液面レベル対応領域に陽極を周設する。ここで、陽極
は、例えば、グラファイトやDSE(寸法安定性電極)
などの不溶性電極で構成するとともに、該槽本体を、 −1.0〜−0.2V (vs SHE) なる負電位に帯電させる。
【0013】これにより、槽本体のステンレス鋼は、
「Pourbaix ダイアグラム」の不動態領域に設
定され、処理液による腐食からほぼ完全に防御される。
さらに、陽極を陽イオン交換膜で被覆すれば、陽極の劣
化も防止することができる。
【0014】
【実施例】以下、この発明を添付図面に示す一実施例に
基づいて説明する。図1は本願処理槽とその防食方法に
おける電極構成の原理図、図2はFe、Cr、Niの
「Pourbaix ダイアグラム」、図3は本願処理
槽の陽極を陽イオン交換膜で被覆した場合の原理構成図
である。
【0015】図において、1は円筒状の槽本体で、該槽
本体1は高強度のステンレス鋼(SUS304、SUS
316、SUS316Lなど)からなり、漂白能を有す
る処理液Sを貯蔵できるように構成されている。該槽本
体1内の処理液Sは、その液面レベルLが L=L0 ±d0 (L0 :基準レベル、
0 :変動幅) なる範囲内でのみ変動するように厳密にレベル管理され
ている。
【0016】尚、前記処理液Sは、漂白液、漂白定着液
などであって、第二鉄イオン錯体、または第二鉄イオン
錯体とアミノポリカルボン酸、アミノポリホスホン酸、
あるいはそれらの塩などのキレート剤との錯体からなる
漂白剤を含んでいる。2は陽極で、該陽極2は、前記槽
本体1の内面近傍に、所定のギャップで対向するように
周設されている(図1)。該電極2は、前記槽本体1の
内周面全体を覆うように構成してもよいが、前記液面レ
ベルLの変動範囲に限定して対応できるように、帯状電
極を周設する構成が、簡潔性の面からも望ましい。即
ち、該陽極2は、後述のように陰極に構成される前記槽
本体1の内面に対して、 1mm〜10mm程度 のギャップで対向して、槽本体1の液面変動領域に所定
の電流密度で防食電流を流せるように構成されている。
該陽極2は、上方適所より吊設してもよいし、セラミッ
クス碍子や有機材のスペーサなどで前記槽本体1の内面
とのギャップを一定に保ってもよい。また、該陽極2
は、グラファイト、DSE(寸法安定性電極)、白金メ
ッキ板などの不溶性電極によって構成され、処理液Sに
よる電解作用の影響を受けないようになっている。
【0017】尚、該陽極2は、図3のように、その表面
を陽イオン交換膜M(例えば、デュポン社製「ナフィオ
ン」など)で被覆してもよい。この場合、電解で生じた
処理液S中のCl- 、OH- イオンなどの侵入を防止す
るとともに、例えば、陽極周囲に貯留した硫酸液のSO
4 2-イオンの処理液S側への移動を防止することがで
き、処理液Sの安定化と自己腐食防止に好適な構成を実
現することができる。
【0018】3は外部直流電源(整流器)で、該電源3
は、前記槽本体1をマイナス電位、前記陽極2をプラス
電位となるように電圧印加させるためのものである。該
電源3は、前記槽本体1を −1.0〜 −0.2V (vs SHE) なる負電位に帯電させることにより、槽本体1を構成す
る材料を不動態となし、処理液Sに対して防食できるよ
うに構成されている。
【0019】即ち、平衡電位とPHの関係を与える「P
ourbaix ダイアグラム」(図2)において、F
e、Cr、Niの各元素の不動態領域対の共通部分を抽
出することにより、この負電位の設定範囲内で、本体1
を構成するステンレス鋼全体を不動態化できるようにな
っている。ここで、前記陽極2における電解電流密度
は、 10A/dm2 以下 である。該電解電流によって、処理液Sを酸化してその
劣化を防止するとともに、少ない電流量に制限すること
により、長期間の防食作用と自己腐食の防止を両立でき
るようになっている。
【0020】上記実施例において、漂白能を有する処理
液Sを処理槽の本体1に貯蔵すると、その液面制御範囲
L内に対応する槽内面には、帯状陽極2が配置する。そ
して、外部電源3によって、槽本体1はマイナス電位
に、陽極2はプラス電位に負荷される。この時、槽本体
1を構成するステンレス鋼の成分であるFe、Cr、N
iなどは、「Pourbaix ダイアグラム」におけ
る不動態領域にあるため、槽本体1に電解腐食は発生し
ない。しかも、処理液Sは、酸化作用を受けることによ
って劣化防止されるとともに、犠牲電極方式のような不
純元素の溶出もないため、クリーンな状態に維持され
る。また、陽極2を陽イオン交換膜Mで保護する場合
は、長期間の使用に対しても、陽極2の自己腐食を防ぐ
ことができる。
【0021】尚、上記実施例では、写真現像工程におけ
る処理槽を例に示したが、本願発明の処理槽とその防食
方法が、一般の腐食性溶液の貯蔵槽の保護にも広く適用
できることは明らかである。
【0022】
【発明の効果】上記のようにこの発明の処理槽は、ハロ
ゲン化銀感光材料に対する漂白能を有する処理液を、所
定の液面変動範囲内で貯蔵可能な槽本体の内面に対向さ
せて陽極を周設し、かつ該本体を陰極に構成したことを
特徴としているので、槽本体を構成する材料を不動態化
することができる。しかも、この時、不純元素イオンが
処理液内に溶出することがない。
【0023】また、この発明の処理槽の防食方法は、ハ
ロゲン化銀感光材料に対する漂白能を有する処理液を、
所定の液面変動範囲内に維持しながら貯蔵する処理槽に
おいて、該槽本体の内面に対向させた陽極にプラス電位
を、該本体にマイナス電位を負荷することを特徴として
いるので、槽本体を構成する材料を不動態化することが
できる。しかも、この時、不純元素が処理液内に溶出す
ることがない。
【0024】また、この発明の処理槽の防食方法は、前
記槽本体の陰極電位が、 −1.0〜 −0.2V (vs SHE) であるようにしているので、槽本体の構成材料に安価な
ステンレス鋼を用いても、その不動態化が可能である。
また、この発明の処理槽の防食方法は、前記陽極の電解
電流密度が、 10A/dm2 以下 であるようにしているので、防食作用を実現しつつ自己
腐食を防止することができる。
【0025】また、この発明の処理槽の防食方法は、前
記陽極が、前記液面変動範囲に対応可能な帯状電極であ
るようにしているので、腐食現象の顕著な液面対応領域
を保護することができる。また、この発明の処理槽の防
食方法は、前記陽極を不溶性電極で構成しているので、
長期間の使用にあたってもその安定性を確保することが
できる。
【0026】また、この発明の処理槽の防食方法は、前
記陽極を陽イオン交換膜で被覆しているので、陽極自体
の劣化を防止することができる。この結果、漂白能を有
する処理液槽一般の保護、特に、写真現像工程に好適な
処理槽とその防食方法を提供することができ、コスト削
減とメンテナンス性向上を実現できるという優れた効果
を奏するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 処理槽とその防食方法における電極構成の原
理図である。
【図2】 Fe、Cr、Niの「Pourbaix ダ
イアグラム」と、各々の共通不動態領域を示す特性図で
ある。
【図3】 処理槽の陽極を陽イオン交換膜で被覆した場
合の原理構成図である。
【図4】 従来の処理槽における腐食原理を示す説明図
である。
【符号の説明】
1 処理槽の槽本体 2 陽極 3 電源 S 処理液 L 液面レベル(及びその変動範囲) M 陽イオン交換膜

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ハロゲン化銀感光材料に対する漂白能を
    有する処理液を、所定の液面変動範囲内で貯蔵可能な槽
    本体の内面に対向させて陽極を周設し、かつ該本体を陰
    極に構成したことを特徴とする処理槽。
  2. 【請求項2】 ハロゲン化銀感光材料に対する漂白能を
    有する処理液を、所定の液面変動範囲内に維持しながら
    貯蔵する処理槽において、前記処理槽の本体内面に対向
    させた陽極にプラス電位を、該本体にマイナス電位を負
    荷することを特徴とする処理槽の防食方法。
  3. 【請求項3】 前記槽本体のマイナス電位が、 −1.0〜−0.2V (vs SHE) である請求項2に記載の処理槽の防食方法。
  4. 【請求項4】 前記陽極の電解電流密度が、 10A/dm2 以下 である請求項2に記載の処理槽の防食方法。
  5. 【請求項5】 前記陽極が、前記液面変動範囲に対応可
    能な帯状電極である請求項2に記載の処理槽の防食方
    法。
  6. 【請求項6】 前記陽極が、不溶性電極である請求項2
    に記載の処理槽の防食方法。
  7. 【請求項7】 前記陽極を陽イオン交換膜で被覆するこ
    とを特徴とする請求項2に記載の処理槽の防食方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002332986A (ja) * 2001-05-01 2002-11-22 Tsurumi Mfg Co Ltd 水中回転機械の回転時における電食防止法および装置
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JP2009249656A (ja) * 2008-04-02 2009-10-29 Mitsubishi Electric Corp めっき装置およびめっき方法

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