JPH0518000U - 加速器の真空ダクト - Google Patents

加速器の真空ダクト

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JPH0518000U
JPH0518000U JP6567791U JP6567791U JPH0518000U JP H0518000 U JPH0518000 U JP H0518000U JP 6567791 U JP6567791 U JP 6567791U JP 6567791 U JP6567791 U JP 6567791U JP H0518000 U JPH0518000 U JP H0518000U
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vacuum duct
electromagnet
cross
vacuum
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JP6567791U
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和典 別所
Original Assignee
三菱電機株式会社
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 電子蓄積リングの集束電磁石部の真空ダクト
をビームサイズより決まる最小限の大きさにし、電磁石
の小型化を行い、他の真空ダクトとの接続を容易にす
る。 【構成】 集束電磁石部では磁極面形状に類似した断面
形状をもち、真空ダクト3の両端は、円形断面をもたせ
た。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
荷電粒子加速器の真空ダクトに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
図5は例えば実開昭 63-2699号公報に示された従来の真空ダクトの断面を示し 、これをフランジ部以外無溶接で、両端フランジの真空ダクトにした場合を図4 に示す。1は磁極、2はコイル、3は真空ダクト、4は四重極電磁石外枠、6は フランジ、7は四重極電磁石外枠である。
【0003】 四重極電磁石はポール1、コイル2、外枠10から構成され、荷電粒子ビームを 集束させる働きがある。荷電粒子ビームは、空気中では空気分子と衝突し散逸し てしまうので荷電粒子ビーム路を真空に保持しなければならない。このビーム路 を真空に保持するのが真空ダクト3である。 そして、通常ビーム輸送路は丸断面真空ダクトが使われるが、電磁石部は、例 えば四重極電磁石の場合、お互いに向かいあっているポール1間隔を対辺の距離 とする矩形断面真空ダクトを用いることにより、電磁石を小型化することができ る。また、他の真空ダクトとの接続は、フランジ接続または溶接によって行う。
【0004】
【考案が解決しようとする課題】
従来の真空ダクトは矩形断面であったため、他の真空ダクトとフランジ接続す る際、特殊フランジ(角穴加工)を使用しなければならない。溶接接続する際角 部を穴き合わせ溶接するのが困難である。集束用電磁石部で同じ長辺でも極端に 偏ペイな楕円ビームでは、真空ダクトの矩形断面を大きくしなければならないの で電磁石も大型になり、製作費が増加するなどの問題点があった。
【0005】 この考案は上記のような問題点を解消するためになされたもので、フランジ接 続、溶接接続伴に容易になり、集束用電磁石も小型化できる方法を得ることを目 的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
この考案に係る荷電粒子加速器用真空ダクトは、図1のように、適当な太さの 丸パイプで、集電磁石部をポール1の方向からプレスで変形させて又は押し出し で真空ダクト3を製作して、断面形状を変化させたものである。
【0007】
【作用】
この考案における真空ダクト3は両端が円形断面であるので、機械加工等の加 工が容易である。
【0008】 また、円形断面のパイプをプレス又は押し出しでパイプを変形させるので押し 型によって断面形状を自由に選択でき、コーナ部は必ず円形となる。
【0009】
【実施例】
実施例1. 以下、この考案の一実施例を図について説明する。図1において、1はポール (磁極)、2はコイル、3は真空ダクト、4は四重極電磁石外枠、6はフランジ 、7は四重極電磁石である。
【0010】 この考案における真空ダクト3は、図1,図2,図3に示すように極端に偏平 なビームでも四極電磁石のボア径を大きくしないでビームを通過させることがで き、他の真空ダクトとの接続部では、真空ダクト3の断面形状が必ず円形である ので、フランジ接続、溶接接続どちらの接続方法でも容易に接続できる。
【0011】 実施例2. なお、上記実施例では、真空ダクトは、四重極電磁石のみであったが、補正電 磁石(例えばステアリング電磁石)などが連なっていてもよい。
【0012】
【考案の効果】
以上のように、この考案によれば極端に偏平なビームでも四極電磁石のボア径 を丸パイプ又は、角パイプが挿入できないからといって大きくする必要がなくな るので、四極電磁石が安価にできる。
【0013】 また、真空ダクト3の両端断面が円形なので、溶接も容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この考案の一実施例を示す電子蓄積リングの集
束電磁石部の側面図である。
【図2】図1の集束電磁石部の縦断面図である。
【図3】図1の真空ダクト両端部の縦断面図である。
【図4】従来の電子蓄積リングの集束電磁石部の縦断面
図である。
【図5】この考案の他の実施例を示す集束電磁石の縦断
面図である。
【符号の説明】
1 ポール 2 コイル 3 真空ダクト 4 四重極電磁石部の外枠 5 ステアリング電磁石部の外枠 6 フランジ 7 四重極電磁石 8 ステアリング電磁石

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 荷電粒子加速器(シンクロトロン,スト
    レージリング,低・高エネルギービーム輸送路等)の無
    接続(溶接・フランジ接続等の接続部分を持たない)の
    真空ダクトにおいて、真空ダクトの断面形状が集束電磁
    石部、補正電磁石部、その他の部分で断面形状が異な
    り、電磁石部での真空ダクトの断面形状が磁極形状に類
    似した線から構成されることを特徴とする加速器の真空
    ダクト。
JP6567791U 1991-08-20 1991-08-20 加速器の真空ダクト Pending JPH0518000U (ja)

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