JPH05174592A - 不揮発性メモリー - Google Patents
不揮発性メモリーInfo
- Publication number
- JPH05174592A JPH05174592A JP3344996A JP34499691A JPH05174592A JP H05174592 A JPH05174592 A JP H05174592A JP 3344996 A JP3344996 A JP 3344996A JP 34499691 A JP34499691 A JP 34499691A JP H05174592 A JPH05174592 A JP H05174592A
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- Japan
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- type transistor
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Abstract
(57)【要約】
【目的】PEP工程数を削減し、電圧切り換えスイッチ
動作の確実性をきする。 【構成】電源として少なくとも書き込み用高電位と読み
出し用電位が印加されるCMOS回路をメモリーセル・
アレイの周辺部に有する不揮発性メモリーにおいて、電
位切り換えスイッチ回路にエンハンスメント型トランジ
スタを用いる。
動作の確実性をきする。 【構成】電源として少なくとも書き込み用高電位と読み
出し用電位が印加されるCMOS回路をメモリーセル・
アレイの周辺部に有する不揮発性メモリーにおいて、電
位切り換えスイッチ回路にエンハンスメント型トランジ
スタを用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、外部電源として書き込
み用/消去用高電位と読み出し用電位が印加されるCM
OS回路をメモリーセル・アレイの周辺部に有する不揮
発性メモリーに関する。
み用/消去用高電位と読み出し用電位が印加されるCM
OS回路をメモリーセル・アレイの周辺部に有する不揮
発性メモリーに関する。
【0002】
【従来の技術】図5は、チップ上にあるメモリーセル・
アレイ以外の周辺回路が、NチャネルE/D(エンハン
スメント/デプレッション)型MOS回路である不揮発
性メモリーの従来の書き込み用高電位、読み出し用電位
切り換え用スイッチ部を示している。
アレイ以外の周辺回路が、NチャネルE/D(エンハン
スメント/デプレッション)型MOS回路である不揮発
性メモリーの従来の書き込み用高電位、読み出し用電位
切り換え用スイッチ部を示している。
【0003】ここでデプレッション型トランジスタ1
1、12の閾値電圧は約“−3V”である。また書き込
み用高電位Vppの節点には20V、読み出し用電位V
ccの節点2には5Vが印加されている。
1、12の閾値電圧は約“−3V”である。また書き込
み用高電位Vppの節点には20V、読み出し用電位V
ccの節点2には5Vが印加されている。
【0004】いま節点4をVcc、節点3を0(零)V
にすれば、電位切り換え節点5は略Vccになる。逆に
節点4を0V、節点3をVppの電位にすれば、切り換
え節点5は略Vppになる。このようにしてD型トラン
ジスタ11、12を用いれば、電位切り換えスイッチ回
路は容易に実現できる。
にすれば、電位切り換え節点5は略Vccになる。逆に
節点4を0V、節点3をVppの電位にすれば、切り換
え節点5は略Vppになる。このようにしてD型トラン
ジスタ11、12を用いれば、電位切り換えスイッチ回
路は容易に実現できる。
【0005】しかしながら、パワー節約のために周辺回
路をCMOS(相補型MOS)構成にしたときには、D
型トランジスタは、閾値を1個増すことで、PEP(写
真蝕刻工程)数が2回増し、PEP数の大きなCNOS
の工程をさらに増加させる大きな欠点を有していた。す
なわち図5では、周辺CMOSの不揮発性回路でデプレ
ッション負荷の切り換え回路に用いている。
路をCMOS(相補型MOS)構成にしたときには、D
型トランジスタは、閾値を1個増すことで、PEP(写
真蝕刻工程)数が2回増し、PEP数の大きなCNOS
の工程をさらに増加させる大きな欠点を有していた。す
なわち図5では、周辺CMOSの不揮発性回路でデプレ
ッション負荷の切り換え回路に用いている。
【0006】CMOS回路でデプレッション負荷がない
と、閾値調整用のボロンインプラ(イオンインプランテ
ーション)をNチャネル、Pチャネルトランジスタに同
時に打つことにより、所望の閾値電圧を得ることができ
るが、しかしデプレッション負荷があると、Nチャネ
ル、Pチャネル用のインプラとデプレッション用のイン
プラとを行わなければならないため、PEP数が2回増
加するものである。
と、閾値調整用のボロンインプラ(イオンインプランテ
ーション)をNチャネル、Pチャネルトランジスタに同
時に打つことにより、所望の閾値電圧を得ることができ
るが、しかしデプレッション負荷があると、Nチャネ
ル、Pチャネル用のインプラとデプレッション用のイン
プラとを行わなければならないため、PEP数が2回増
加するものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記実情に鑑
みてなされたもので、その目的とするところは、CMO
S構成をメモリーセル・アレイの周辺回路に持つ不揮発
性メモリーにおいて、書き込み用高電位と読み出し用電
位を、従来の問題なしにオン・チップで切り換えること
ができるスイッチ回路を有した不揮発性メモリーを提供
することにある。
みてなされたもので、その目的とするところは、CMO
S構成をメモリーセル・アレイの周辺回路に持つ不揮発
性メモリーにおいて、書き込み用高電位と読み出し用電
位を、従来の問題なしにオン・チップで切り換えること
ができるスイッチ回路を有した不揮発性メモリーを提供
することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段と作用】本発明は、電源と
して少なくとも書き込み用高電位と読み出し用電位が印
加されるCMOS回路をメモリーセル・アレイの周辺部
に有する不揮発性メモリーにおいて、前記書き込み用高
電位源と電位切り換え節点との間に第1のエンハンスメ
ント型トランジスタを接続し、前記読み出し用電位源と
前記電位切り換え節点との間にPチャネル型の第2のエ
ンハンスメント型トランジスタを接続し、このエンハン
スメント型トランジスタのサブストレート電極は前記電
位切り換え節点側に接続し、前記第1のエンハンスメン
ト型トランジスタのゲートには、データ書き込み時に導
通する信号が印加され、前記第2のエンハンスメント型
トランジスタのゲートには、データ読み出し時に導通し
かつデータ書き込み時に非導通する信号が印加されるこ
とを特徴とする。
して少なくとも書き込み用高電位と読み出し用電位が印
加されるCMOS回路をメモリーセル・アレイの周辺部
に有する不揮発性メモリーにおいて、前記書き込み用高
電位源と電位切り換え節点との間に第1のエンハンスメ
ント型トランジスタを接続し、前記読み出し用電位源と
前記電位切り換え節点との間にPチャネル型の第2のエ
ンハンスメント型トランジスタを接続し、このエンハン
スメント型トランジスタのサブストレート電極は前記電
位切り換え節点側に接続し、前記第1のエンハンスメン
ト型トランジスタのゲートには、データ書き込み時に導
通する信号が印加され、前記第2のエンハンスメント型
トランジスタのゲートには、データ読み出し時に導通し
かつデータ書き込み時に非導通する信号が印加されるこ
とを特徴とする。
【0009】すなわち本発明では、製造工程簡易化のた
め電位切り換えスイッチに、エンハンスメント構造を用
いる。しかしD型トランジスタをE型トランジスタに単
純に置き換えただけでは、上記切り換えスイッチの一方
の電極とサブストレート電極間にPN正バイアスがかか
って電流の迷流路が生じ、電位切り換えの正常動作が期
待できない。そこで本発明では、上記正バイアスがかか
るトランジスタのサブストレート電極を電位切り換え節
点側に接続し、上記電流の迷流路を遮断して、正常な電
位導出を行うものである。
め電位切り換えスイッチに、エンハンスメント構造を用
いる。しかしD型トランジスタをE型トランジスタに単
純に置き換えただけでは、上記切り換えスイッチの一方
の電極とサブストレート電極間にPN正バイアスがかか
って電流の迷流路が生じ、電位切り換えの正常動作が期
待できない。そこで本発明では、上記正バイアスがかか
るトランジスタのサブストレート電極を電位切り換え節
点側に接続し、上記電流の迷流路を遮断して、正常な電
位導出を行うものである。
【0010】
【実施例】以下図1を参照して本発明の一実施例を説明
する。同図はNチャネルSAMOS構造をメモリーセル
に用いたN−well構造のCMOS回路をメモリー周
辺部に用いた場合の例であるが、図5と対応する箇所に
は同一符号を用いる。
する。同図はNチャネルSAMOS構造をメモリーセル
に用いたN−well構造のCMOS回路をメモリー周
辺部に用いた場合の例であるが、図5と対応する箇所に
は同一符号を用いる。
【0011】まず、電位切り換えのスイッチ部21で
は、書き込み/消去用高電位Vppの節点1と電位切り
換え節点5との間にPチャネルのE型トランジスタ22
を接続し、読み出し用電位Vccの節点2と節点5との
間にPチャネルのE型トランジスタ23を接続する。ト
ランジスタ22のサブストレート電極はVpp節点1に
接続し、トランジスタ23のサブストレート電極は節点
5に接続する。
は、書き込み/消去用高電位Vppの節点1と電位切り
換え節点5との間にPチャネルのE型トランジスタ22
を接続し、読み出し用電位Vccの節点2と節点5との
間にPチャネルのE型トランジスタ23を接続する。ト
ランジスタ22のサブストレート電極はVpp節点1に
接続し、トランジスタ23のサブストレート電極は節点
5に接続する。
【0012】また電圧VppとVccの切り換え導出を
行うための信号/H(信号Hの反転信号のことで、図で
はHの真上にバーがある)の供給用節点24、Vcc電
位をゲート入力とするNチャネル型トランジスタ25を
介して節点26に接続する。この節点26は、Pチャネ
ル型トランジスタ27を介してVpp節点1に接続す
る。Pチャネル型トランジスタ28、Nチャネル型トラ
ンジスタ29よりなるインバータの入力となり、該イン
バータ30の一端はVpp節点1に接続され、他端は接
地される。インバータ30の出力端つまり節点31はト
ランジスタ22、27のゲート入力となり、またPチャ
ネル型トランジスタ32、Nチャネル型トランジスタ3
3よりなるインバータ34の入力となる。インバータ3
4の一端はVpp節点1に接続され、他端は接地され
る。またインバータ34の出力端つまり節点35はトラ
ンジスタ23のゲート入力となる。
行うための信号/H(信号Hの反転信号のことで、図で
はHの真上にバーがある)の供給用節点24、Vcc電
位をゲート入力とするNチャネル型トランジスタ25を
介して節点26に接続する。この節点26は、Pチャネ
ル型トランジスタ27を介してVpp節点1に接続す
る。Pチャネル型トランジスタ28、Nチャネル型トラ
ンジスタ29よりなるインバータの入力となり、該イン
バータ30の一端はVpp節点1に接続され、他端は接
地される。インバータ30の出力端つまり節点31はト
ランジスタ22、27のゲート入力となり、またPチャ
ネル型トランジスタ32、Nチャネル型トランジスタ3
3よりなるインバータ34の入力となる。インバータ3
4の一端はVpp節点1に接続され、他端は接地され
る。またインバータ34の出力端つまり節点35はトラ
ンジスタ23のゲート入力となる。
【0013】図1の動作を説明する。まず節点5にVp
p電位を発生させる場合、節点24の信号/Hを高レベ
ルにする。このとき信号/Hの振幅は、接地レベル(低
レベル)からVccの高レベルまで振幅するので、初め
節点26の電位は“Vcc−VthE ”(VthE 閾値
電圧)になる。ここでインバータ30の回路閾値を“V
cc−VthE ”より低く設計しておけば、節点31は
低レベルになり、トランジスタ27がオンして節点26
をVpp電位レベルまで上昇させる。このとき節点35
のレベルは、インバータ34によってVpp電位まで上
昇する。すなわち節点31は低レベル、節点35はVp
p電位となり、トランジスタ22はオンして節点5はV
pp電位になる。このときトランジスタ23はオフし、
節点1から節点2には直流電流は流れない。
p電位を発生させる場合、節点24の信号/Hを高レベ
ルにする。このとき信号/Hの振幅は、接地レベル(低
レベル)からVccの高レベルまで振幅するので、初め
節点26の電位は“Vcc−VthE ”(VthE 閾値
電圧)になる。ここでインバータ30の回路閾値を“V
cc−VthE ”より低く設計しておけば、節点31は
低レベルになり、トランジスタ27がオンして節点26
をVpp電位レベルまで上昇させる。このとき節点35
のレベルは、インバータ34によってVpp電位まで上
昇する。すなわち節点31は低レベル、節点35はVp
p電位となり、トランジスタ22はオンして節点5はV
pp電位になる。このときトランジスタ23はオフし、
節点1から節点2には直流電流は流れない。
【0014】逆に節点5にVcc電位を発生させる場
合、信号/Hを低レベルにする。このときトランジスタ
27は、前記節点31が低レベルであることにより、オ
ンしているので、トランスファゲート25のコンダクタ
ンスを、トランジスタ27のコンダクタンスより充分大
きくなるように設計する必要がある。この工夫により、
節点26のレベルがインバータ30の閾値より低くなれ
ば、節点31は高レベルとなり、トランジスタ27はオ
フとなる。このとき節点35は低レベルになる。したが
ってトランジスタ23はオンし、トランジスタ22はオ
フする。節点5はこの時、トランジスタ23によってV
pp電位からVcc電位に放電される。
合、信号/Hを低レベルにする。このときトランジスタ
27は、前記節点31が低レベルであることにより、オ
ンしているので、トランスファゲート25のコンダクタ
ンスを、トランジスタ27のコンダクタンスより充分大
きくなるように設計する必要がある。この工夫により、
節点26のレベルがインバータ30の閾値より低くなれ
ば、節点31は高レベルとなり、トランジスタ27はオ
フとなる。このとき節点35は低レベルになる。したが
ってトランジスタ23はオンし、トランジスタ22はオ
フする。節点5はこの時、トランジスタ23によってV
pp電位からVcc電位に放電される。
【0015】以上のように、信号/HがVcc(高レベ
ル)のとき、節点5はVppレベルとなり、信号/Hが
0V(低レベル)のとき、節点5はVccレベルとなる
ものである。
ル)のとき、節点5はVppレベルとなり、信号/Hが
0V(低レベル)のとき、節点5はVccレベルとなる
ものである。
【0016】図2は図1の回路を、不揮発性メモリーの
本体回路に適用した場合の例を示すもので、41は行選
択アドレス信号A1 〜An を入力とするナンド回路4
2、トランジスタ43〜46を有する行デコーダ、47
は列選択用アドレス信号a1〜amを入力とする列デコ
ーダである。48はメモリーセル・アレイで、メモリー
セル49はSAMOS構造を有している。
本体回路に適用した場合の例を示すもので、41は行選
択アドレス信号A1 〜An を入力とするナンド回路4
2、トランジスタ43〜46を有する行デコーダ、47
は列選択用アドレス信号a1〜amを入力とする列デコ
ーダである。48はメモリーセル・アレイで、メモリー
セル49はSAMOS構造を有している。
【0017】501 〜50l は列選択用トランジスタ、
51はトランジスタ52〜55よりなるトランジスタ5
6の制御回路、“Din+H”は書き込み時に書き込み
用データ入力を“0”のときのみVpp電位になり、そ
の他読み出し時とかベリファイ(書き込みデータ検出)
時に、トランジスタ56をオフとする信号、57はセン
スアンプである。
51はトランジスタ52〜55よりなるトランジスタ5
6の制御回路、“Din+H”は書き込み時に書き込み
用データ入力を“0”のときのみVpp電位になり、そ
の他読み出し時とかベリファイ(書き込みデータ検出)
時に、トランジスタ56をオフとする信号、57はセン
スアンプである。
【0018】図2におけるデータ書き込みは、節点5の
電位をVppにし、メモリーセルのコントロールゲート
にVpp、トランジスタ56、501 〜50l を通して
ドレインにVpp電位が加わったメモリーセルのみに書
き込みが行われる。
電位をVppにし、メモリーセルのコントロールゲート
にVpp、トランジスタ56、501 〜50l を通して
ドレインにVpp電位が加わったメモリーセルのみに書
き込みが行われる。
【0019】次に書き込み量を検出(ベリファイ)する
際は、Vppを書き込み電位のままにして節点5をVc
c電位にすれば、書き込み直後にセルの書き込み状態
が、センスアンプ57を通してデータ出力部に取り出さ
れるものである。
際は、Vppを書き込み電位のままにして節点5をVc
c電位にすれば、書き込み直後にセルの書き込み状態
が、センスアンプ57を通してデータ出力部に取り出さ
れるものである。
【0020】ここで本発明において、PEP数が増加し
ない理由を説明する。図3のごとくデプレッション負荷
を使用しない場合は、ボロンインプラ201をNチャネ
ル、Pチャネルトランジスタに同時に打つことができる
が、図4のようにデプレッション(D型)があると、ボ
ロンインプラ201とAsまたはPインプラ202をそ
れぞれ別に行わなければならないため、PEP数が2回
増すものである。したがって本発明では、PEP数の低
減化が可能となるものである。なお本発明は、上記実施
例に限られることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で種々の応用が可能である。
ない理由を説明する。図3のごとくデプレッション負荷
を使用しない場合は、ボロンインプラ201をNチャネ
ル、Pチャネルトランジスタに同時に打つことができる
が、図4のようにデプレッション(D型)があると、ボ
ロンインプラ201とAsまたはPインプラ202をそ
れぞれ別に行わなければならないため、PEP数が2回
増すものである。したがって本発明では、PEP数の低
減化が可能となるものである。なお本発明は、上記実施
例に限られることなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲
で種々の応用が可能である。
【0021】
【発明の効果】以上説明したごとく本発明によれば、エ
ンハンスメント型トランジスタの電位切り換えスイッチ
により、完全CMOSプロセスによって、メモリー回路
本体内に書き込み用高電位Vpp、読み出し用電位Vc
cを正しく発生させることが可能になった。また従来の
“CMOS+デプレッション”のような複合プロセスを
排除し、PEPの工程数を低減できる。また回路設計
も、CMOS構成であることにより、回路マージンを大
きくすることができる。また電位切り換え用にPチャネ
ルエンハンスメント型トランジスタを用いた場合、電圧
ドロップのない電位切り換え回路が実現できるものであ
る。
ンハンスメント型トランジスタの電位切り換えスイッチ
により、完全CMOSプロセスによって、メモリー回路
本体内に書き込み用高電位Vpp、読み出し用電位Vc
cを正しく発生させることが可能になった。また従来の
“CMOS+デプレッション”のような複合プロセスを
排除し、PEPの工程数を低減できる。また回路設計
も、CMOS構成であることにより、回路マージンを大
きくすることができる。また電位切り換え用にPチャネ
ルエンハンスメント型トランジスタを用いた場合、電圧
ドロップのない電位切り換え回路が実現できるものであ
る。
【図1】本発明の一実施例を示す回路図。
【図2】同回路が適用されるメモリー回路図。
【図3】本発明の効果を説明するための集積回路断面
図。
図。
【図4】図3と比較する従来例の集積回路断面図。
【図5】従来例の回路説明図。
Claims (1)
- 【請求項1】電源として少なくとも書き込み用高電位と
読み出し用電位が印加されるCMOS回路をメモリーセ
ル・アレイの周辺部に有する不揮発性メモリーにおい
て、前記書き込み用高電位源と電位切り換え節点との間
に第1のエンハンスメント型トランジスタを接続し、前
記読み出し用電位源と前記電位切り換え節点との間にP
チャネル型の第2のエンハンスメント型トランジスタを
接続し、このエンハンスメント型トランジスタのサブス
トレート電極は前記電位切り換え節点側に接続し、前記
第1のエンハンスメント型トランジスタのゲートには、
データ書き込み時に導通する信号が印加され、前記第2
のエンハンスメント型トランジスタのゲートには、デー
タ読み出し時に導通しかつデータ書き込み時に非導通す
る信号が印加されることを特徴とする不揮発性メモリ
ー。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3344996A JPH0799635B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 不揮発性メモリー |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3344996A JPH0799635B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 不揮発性メモリー |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56213616A Division JPS58114396A (ja) | 1981-12-26 | 1981-12-26 | 不揮発性メモリ− |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05174592A true JPH05174592A (ja) | 1993-07-13 |
JPH0799635B2 JPH0799635B2 (ja) | 1995-10-25 |
Family
ID=18373577
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3344996A Expired - Fee Related JPH0799635B2 (ja) | 1991-12-26 | 1991-12-26 | 不揮発性メモリー |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0799635B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08138392A (ja) * | 1994-11-09 | 1996-05-31 | Nec Corp | 高電圧信号デコード回路およびその駆動方法 |
EP0933784A1 (en) * | 1997-12-31 | 1999-08-04 | STMicroelectronics S.r.l. | High voltage driver circuit for the decoding phase in multilevel non-volatile memory devices. |
US5966043A (en) * | 1996-03-29 | 1999-10-12 | Nec Corporation | Power supply switching circuit |
JP2007220309A (ja) * | 2007-06-04 | 2007-08-30 | Spansion Llc | 不揮発性半導体メモリ |
JP2011018443A (ja) * | 2010-09-22 | 2011-01-27 | Spansion Llc | 不揮発性半導体メモリ |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0323999A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Icメモリカード |
-
1991
- 1991-12-26 JP JP3344996A patent/JPH0799635B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0323999A (ja) * | 1989-06-20 | 1991-01-31 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Icメモリカード |
Cited By (6)
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JPH08138392A (ja) * | 1994-11-09 | 1996-05-31 | Nec Corp | 高電圧信号デコード回路およびその駆動方法 |
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JP4698638B2 (ja) * | 2007-06-04 | 2011-06-08 | スパンション エルエルシー | 不揮発性半導体メモリ |
JP2011018443A (ja) * | 2010-09-22 | 2011-01-27 | Spansion Llc | 不揮発性半導体メモリ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0799635B2 (ja) | 1995-10-25 |
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Legal Events
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |