JPH05166713A - 回転塗布装置 - Google Patents
回転塗布装置Info
- Publication number
- JPH05166713A JPH05166713A JP3335391A JP33539191A JPH05166713A JP H05166713 A JPH05166713 A JP H05166713A JP 3335391 A JP3335391 A JP 3335391A JP 33539191 A JP33539191 A JP 33539191A JP H05166713 A JPH05166713 A JP H05166713A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- solvent
- center
- discharge opening
- supply unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウェーハ面上に一様な塗布膜が形成できるこ
とを目的とする。 【構成】 回転駆動するウェーハチャック２を備え、ウ
ェーハチャック２に固定されたウェーハ１上に、溶媒に
より溶解された液体を滴下し、液体を高速回転によりウ
ェーハ１上に一様に塗布する回転塗布装置において、ウ
ェーハ１の上方に溶媒の吐出口８を有する溶媒供給ユニ
ット７を設け、吐出口８をウェーハ１の中心から外周に
近づくに従って広く形成した。
とを目的とする。 【構成】 回転駆動するウェーハチャック２を備え、ウ
ェーハチャック２に固定されたウェーハ１上に、溶媒に
より溶解された液体を滴下し、液体を高速回転によりウ
ェーハ１上に一様に塗布する回転塗布装置において、ウ
ェーハ１の上方に溶媒の吐出口８を有する溶媒供給ユニ
ット７を設け、吐出口８をウェーハ１の中心から外周に
近づくに従って広く形成した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はウェーハ表面に薬液を塗
布し、回転を与えて膜を形成する回転塗布装置に関す
る。
布し、回転を与えて膜を形成する回転塗布装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の回転塗布装置について図
４を参照して述べる。同図において、１はウェ−ハであ
る。このウェ−ハ１は、上部中央部が開口されて底部に
排気液ライン５を接続した円筒状のカップ４内でカップ
４の底部中央部を挿通するウェーハチャック２上に同心
円状に真空吸着されている。３はウェーハチャック２を
回転駆動する回転駆動源であり、ウェーハチャック２の
下部中心部に連結されている。
４を参照して述べる。同図において、１はウェ−ハであ
る。このウェ−ハ１は、上部中央部が開口されて底部に
排気液ライン５を接続した円筒状のカップ４内でカップ
４の底部中央部を挿通するウェーハチャック２上に同心
円状に真空吸着されている。３はウェーハチャック２を
回転駆動する回転駆動源であり、ウェーハチャック２の
下部中心部に連結されている。
【０００３】かかる構成を有する回転塗布装置では、カ
ップ４内において、薬液供給部（図示略す）から溶媒に
より溶解された液体（レジスト）をウェーハ１上の中心
部に定量滴下し、これを回転駆動源３による低速回転に
よりウェーハ１面内に行きわたらせた後、同回転駆動源
３による高速回転により当該溶媒を蒸発させてウェーハ
１上に膜を形成していた。この場合、回転時の気流の流
れ６はカップ４の上方より下方の排気液ライン５に向っ
て流れ、ウェーハ１面上を流れる気流速度はウェーハ１
の外周に近付く程速くなっていた。
ップ４内において、薬液供給部（図示略す）から溶媒に
より溶解された液体（レジスト）をウェーハ１上の中心
部に定量滴下し、これを回転駆動源３による低速回転に
よりウェーハ１面内に行きわたらせた後、同回転駆動源
３による高速回転により当該溶媒を蒸発させてウェーハ
１上に膜を形成していた。この場合、回転時の気流の流
れ６はカップ４の上方より下方の排気液ライン５に向っ
て流れ、ウェーハ１面上を流れる気流速度はウェーハ１
の外周に近付く程速くなっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の回転塗布装置においては、液体を高速回転さ
せ、一様な膜を形成する場合、ウェーハ１面上を流れる
気流の相対速度はウェーハ１の周速度に比例するので、
ウェーハ１の外周に近付く程速くなる。従って、ウェー
ハ１の外周に近付く程溶媒の蒸発速度が速くなるため、
同一回転条件下においては、ウェーハ１面内の膜厚にバ
ラツキが生じ、後工程の露光及び現像において歩留りが
低下するという問題点があった。
た従来の回転塗布装置においては、液体を高速回転さ
せ、一様な膜を形成する場合、ウェーハ１面上を流れる
気流の相対速度はウェーハ１の周速度に比例するので、
ウェーハ１の外周に近付く程速くなる。従って、ウェー
ハ１の外周に近付く程溶媒の蒸発速度が速くなるため、
同一回転条件下においては、ウェーハ１面内の膜厚にバ
ラツキが生じ、後工程の露光及び現像において歩留りが
低下するという問題点があった。
【０００５】勿論、当該問題点を解決するため、カップ
４内を溶媒雰囲気にする方法等が提案されているが、回
転方法における塗布では一定の膜を形成することが難し
く、ウェーハサイズが大きくなる程膜厚に大きなバラツ
キが生じるという問題点があった。
４内を溶媒雰囲気にする方法等が提案されているが、回
転方法における塗布では一定の膜を形成することが難し
く、ウェーハサイズが大きくなる程膜厚に大きなバラツ
キが生じるという問題点があった。
【０００６】本発明の目的は、上述した問題点に鑑み、
ウェーハ面上に一様な塗布膜が形成できる回転塗布装置
を提供するものである。
ウェーハ面上に一様な塗布膜が形成できる回転塗布装置
を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上述した目的
を達成するため、回転駆動するウェーハチャックを備
え、前記ウェーハチャックに固定されたウェーハ上に、
溶媒により溶解された液体を滴下し、前記液体を高速回
転により前記ウェーハ上に一様に塗布する回転塗布装置
において、前記ウェーハの上方に前記溶媒の吐出口を有
する溶媒供給ユニットを設け、前記吐出口を前記ウェー
ハの中心から外周に近づくに従って広く形成したもので
ある。
を達成するため、回転駆動するウェーハチャックを備
え、前記ウェーハチャックに固定されたウェーハ上に、
溶媒により溶解された液体を滴下し、前記液体を高速回
転により前記ウェーハ上に一様に塗布する回転塗布装置
において、前記ウェーハの上方に前記溶媒の吐出口を有
する溶媒供給ユニットを設け、前記吐出口を前記ウェー
ハの中心から外周に近づくに従って広く形成したもので
ある。
【０００８】
【作用】本発明においては、溶媒供給ユニットの吐出口
をウェーハの中心から外周に近づくに従って広く形成し
たので、溶媒の吐出量がウェーハ中心から外周に近づく
に従って多くなる。よって、ウェーハの周速度の違いに
よる溶媒量のバラツキがなくなる。
をウェーハの中心から外周に近づくに従って広く形成し
たので、溶媒の吐出量がウェーハ中心から外周に近づく
に従って多くなる。よって、ウェーハの周速度の違いに
よる溶媒量のバラツキがなくなる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の回転塗布装置に係わる一実施
例を従来例と同一部分には同一符号を付して図１乃至図
３に基づいて説明する。
例を従来例と同一部分には同一符号を付して図１乃至図
３に基づいて説明する。
【００１０】図１に回転塗布装置の断面図を示す。同図
によれば、ウェ−ハ１は、上部中央部に溶媒供給ユニッ
ト７が装着され底部に排気液ライン５が接続された円筒
状のカップ４内において、カップ４の底部中央部を挿通
し、且つ回転駆動するウェーハチャック２上に同心円状
に真空吸着されている。なお、６はウェーハ１を回転し
たときの気流の流れを示す。
によれば、ウェ−ハ１は、上部中央部に溶媒供給ユニッ
ト７が装着され底部に排気液ライン５が接続された円筒
状のカップ４内において、カップ４の底部中央部を挿通
し、且つ回転駆動するウェーハチャック２上に同心円状
に真空吸着されている。なお、６はウェーハ１を回転し
たときの気流の流れを示す。
【００１１】図２は図１のＡ−Ａ断面図である。同図に
おいて、溶媒供給ユニット７にはウェーハ１の表面に対
向しウェーハ１の中心より外周に近づくに従って広角に
なるように開口された溶媒吐出口８が形成されている。
そして、このような溶媒吐出口８からの溶媒の吐出量は
溶媒吐出口８の広角量をウェーハ１の外径や回転速度に
応じて設定することで決められる。さらに、溶媒の吐出
量は溶媒吐出口８の広角度を自動的に調節したり、溶媒
吐出口８をスポット状に開口することにより制御しても
良い。
おいて、溶媒供給ユニット７にはウェーハ１の表面に対
向しウェーハ１の中心より外周に近づくに従って広角に
なるように開口された溶媒吐出口８が形成されている。
そして、このような溶媒吐出口８からの溶媒の吐出量は
溶媒吐出口８の広角量をウェーハ１の外径や回転速度に
応じて設定することで決められる。さらに、溶媒の吐出
量は溶媒吐出口８の広角度を自動的に調節したり、溶媒
吐出口８をスポット状に開口することにより制御しても
良い。
【００１２】かくして、かかる構成の回転塗布装置で
は、広角に形成された溶媒吐出口８より多くの溶媒が吐
出されるので、図３に示すように、ウェーハ１上におけ
る溶媒雰囲気量９はウェーハ１の中心より外周に近づく
に従って多くなる。従って、溶媒の蒸発量が溶媒吐出口
８からの溶媒の吐出量により相殺され、ウェーハ１面上
の溶媒量が一様になる。よって、ウェーハ１面上に均一
なレジスト膜の形成が可能となる。
は、広角に形成された溶媒吐出口８より多くの溶媒が吐
出されるので、図３に示すように、ウェーハ１上におけ
る溶媒雰囲気量９はウェーハ１の中心より外周に近づく
に従って多くなる。従って、溶媒の蒸発量が溶媒吐出口
８からの溶媒の吐出量により相殺され、ウェーハ１面上
の溶媒量が一様になる。よって、ウェーハ１面上に均一
なレジスト膜の形成が可能となる。
【００１３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、溶
媒供給ユニットの吐出口をウェーハの中心から外周に近
づくに従って広く形成したので、溶媒の吐出量がウェー
ハ中心から外周に近づくに従って多くなる。よって、ウ
ェーハの周速度の違いによる溶媒量のバラツキがなくな
る。従って、ウェーハ上に均一なレジスト膜が形成で
き、露光及び現像における歩留り及び材料効率等が向上
できる。
媒供給ユニットの吐出口をウェーハの中心から外周に近
づくに従って広く形成したので、溶媒の吐出量がウェー
ハ中心から外周に近づくに従って多くなる。よって、ウ
ェーハの周速度の違いによる溶媒量のバラツキがなくな
る。従って、ウェーハ上に均一なレジスト膜が形成で
き、露光及び現像における歩留り及び材料効率等が向上
できる。
【図１】本発明の回転塗布装置の断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】本発明の溶媒雰囲気量の分布図である。
【図４】従来の回転塗布装置の断面図である。
１ ウェーハ ２ ウェーハチャック ３ 回転駆動源 ４ カップ ５ 排気液ライン ６ 気流の流れ ７ 溶媒供給ユニット ８ 溶媒吐出口
Claims (1)
- 【請求項１】 回転駆動するウェーハチャックを備え、
前記ウェーハチャックに固定されたウェーハ上に、溶媒
により溶解された液体を滴下し、前記液体を高速回転に
より前記ウェーハ上に一様に塗布する回転塗布装置にお
いて、前記ウェーハの上方に前記溶媒の吐出口を有する
溶媒供給ユニットを設け、前記吐出口を前記ウェーハの
中心から外周に近づくに従って広く形成したことを特徴
とする回転塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3335391A JPH05166713A (ja) | 1991-12-19 | 1991-12-19 | 回転塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3335391A JPH05166713A (ja) | 1991-12-19 | 1991-12-19 | 回転塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05166713A true JPH05166713A (ja) | 1993-07-02 |
Family
ID=18288022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3335391A Withdrawn JPH05166713A (ja) | 1991-12-19 | 1991-12-19 | 回転塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05166713A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5782978A (en) * | 1994-04-15 | 1998-07-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Coating device with movable fluid supply nozzle and rotatable substrate holder |
-
1991
- 1991-12-19 JP JP3335391A patent/JPH05166713A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5782978A (en) * | 1994-04-15 | 1998-07-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Coating device with movable fluid supply nozzle and rotatable substrate holder |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |