JPH05164604A - 赤外線検出素子 - Google Patents

赤外線検出素子

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JPH05164604A
JPH05164604A JP3352113A JP35211391A JPH05164604A JP H05164604 A JPH05164604 A JP H05164604A JP 3352113 A JP3352113 A JP 3352113A JP 35211391 A JP35211391 A JP 35211391A JP H05164604 A JPH05164604 A JP H05164604A
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JP
Japan
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infrared
infrared detecting
heat
substrate
conductor
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JP3352113A
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Hidekazu Himesawa
秀和 姫澤
Motoo Igari
素生 井狩
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 複数の赤外線検出部間でクロストークを生じ
させることなく、赤外線検出部の集積度を高めることが
でき、しかも簡単且つ小型に製造可能な赤外線検出素子
を提供する。 【構成】 基板1の片面に複数の赤外線検出部2、2・
・が設けられて、これら赤外線検出部2、2・・の下方
位置に、赤外線検出部2と基板1との両者間の熱伝導を
抑制するための熱分離空間部5が設けられている赤外線
検出素子であって、前記複数の赤外線検出部2、2・・
の相互間には、赤外線検出部2からの流出熱を吸収する
干渉防止用導体3が設けられた構成である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線吸収による温度
変化に伴った抵抗体の電気抵抗等の変化を利用して赤外
線を検出する方式の赤外線検出素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種赤外線検出素子の一例とし
ては、特開平2−205729号に所載のものが存在す
る。この従来のものは、図8に示すように、基板1e上
にシリコン窒化膜20と絶縁膜21を形成して、これら
両者で薄膜抵抗体22と赤外線吸収膜23で構成される
赤外線検出部2eを支持し、又赤外線検出部2eの下方
には、基板1eをエッチングにより一部除去した熱分離
空間部5eを設けたものである。前記シリコン窒化膜2
0と絶縁膜21は、スリット孔24から注入されるシリ
コンエッチング液に対してストッパとして作用するもの
である。かかる赤外線検出素子によれば、赤外線検出部
2eの赤外線の受光吸収による温度上昇に伴って、薄膜
抵抗体22の抵抗値等が変化するため、その変化を検出
することにより赤外線検出が行える。また、熱分離空間
部5eの存在により、赤外線検出部2eから基板1eへ
の熱の流出が抑制されているから、赤外線を受光した際
の赤外線検出部2eの熱変化が迅速となり、赤外線検出
の応答性が良好となる。
【0003】また、前記特開平2−205729号に
は、上記の赤外線検出素子を二次元アレイ化した実施例
も記載されている。即ち、その構造は、図9及び図10
に示すように、複数の赤外線検出部2e・・を基板1e
上へ縦横に配列し、各赤外線検出部2eの下方に熱分離
空間部5eを個別に設けた構造である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来では、図9及び図10に示す二次元アレイ化を図る場
合において、赤外線検出部2eの集積度を高めんとし
て、赤外線検出部2e、2eどうしを接近させると、赤
外線を受光吸収して温度上昇を行う一つの赤外線検出部
2eから、他の赤外線検出部2e側へ熱伝導を生じる。
その結果、赤外線を受光していない他の赤外線検出部2
eも温度上昇する所謂クロストーク(干渉)と称される
現象が発生し、赤外線検出感度の低下、又は誤動作が生
じる。従って、従来では、赤外線検出部どうしをさほど
接近させることができず、その集積度を高めることが困
難であった。
【0005】尚、上記従来では、赤外線検出部2e、2
eの相互間の位置には基板1eの一部Nを残存させてお
き、赤外線受光を行った赤外線検出部2eからの流出熱
を前記Nの部位に逃がすことにより、赤外線受光を行っ
た一つの赤外線検出部2eから他の赤外線検出部2eへ
伝導する熱量を減少させることは可能である。ところ
が、かかる手段では、両赤外線検出部2e、2e間に基
板1eを比較的広いスペース間隔で残存させる必要があ
る他、熱分離空間部5eを複数の赤外線検出部2e・・
の各々に対応させて赤外線検出部2eの数と同数分だけ
形成せねばならない等の煩雑さが生じ、赤外線検出部の
集積度を高めることはやはり困難であった。
【0006】本発明は上記の点に鑑みて提案されたもの
で、複数の赤外線検出部間で流出熱に原因するクロスト
ークを生じさせることなく、赤外線検出部の集積度を高
めることができ、しかも簡単且つ小型に製造可能な赤外
線検出素子を提供することを、その目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に提案された請求項1に記載の本発明に係る赤外線検出
素子は、基板の片面に複数の赤外線検出部が設けられ
て、これら赤外線検出部の下方位置に、赤外線検出部と
基板との両者間の熱伝導を抑制するための熱分離空間部
が設けられている赤外線検出素子であって、前記複数の
赤外線検出部の相互間には、赤外線検出部からの流出熱
を吸収する干渉防止用導体が設けられた構成である。
【0008】請求項2記載の本発明に係る赤外線検出素
子は、上記請求項1に記載の構成において、上記干渉防
止用導体が、吸収した熱を基板に逃がすように基板に接
続された構成である。
【0009】請求項3記載の本発明に係る赤外線検出素
子は、上記請求項1又は請求項2に記載の構成におい
て、上記干渉防止用導体が、赤外線検出部の電極に電気
的に接続された構成である。
【0010】
【作用】上記構成を特徴とする請求項1記載の本発明に
係る赤外線検出素子においては、複数の赤外線検出部の
うち何れか一つの赤外線検出部が赤外線を受光吸収して
温度上昇を生じた場合に、その赤外線検出部から流出す
る熱が、隣接する他の赤外線検出部に到達する以前に干
渉防止用導体に吸収される。従って、赤外線受光を行っ
た赤外線検出部から他の赤外線検出部への熱伝導量は、
干渉防止用導体の熱吸収作用により減少するため、赤外
線を受光していない赤外線検出部の温度上昇が防止さ
れ、クロストークを生じないこととなる。また、このよ
うなクロストークの防止は、赤外線検出部の相互間に適
当幅の干渉防止用導体を設けるだけの簡易な構成で達成
されるために、赤外線検出部の相互間に基板の一部を幅
広い状態で残存させて当該部位から基板に熱を吸収させ
るような必要がなくなる。従って、赤外線検出部の相互
間の寸法を小さく設定し、その集積度を高めることが可
能となる。本発明に係る赤外線検出素子では、赤外線検
出部の相互間に基板の一部を残存させる必要もなくなる
から、熱分離空間部を複数の赤外線検出部の相互間に跨
がった状態に形成することも可能となる。
【0011】請求項2に記載の本発明に係る赤外線検出
素子においては、干渉防止用導体で吸収させた熱を基板
に逃がすことができるために、干渉防止用導体で吸収し
得る熱量を増加させることができる。従って、赤外線を
受光吸収した赤外線検出部から他の赤外線検出部へ伝導
する熱量を一層減少させることができることとなる。
【0012】請求項3に記載の本発明に係る赤外線検出
素子においては、干渉防止用導体を赤外線検出部の電極
の電気配線として機能させることができるために、赤外
線検出部の電極用の配線を省略化でき、赤外線検出素子
の構造の簡素化が図れる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1乃至図4は本発明に係る赤外線検出素
子の第1実施例(請求項1及び2に対応)を示し、図1
は赤外線検出素子Aの平面図、図2は図1のX−X線断
面図、図3は図1のY−Y線端面図、図4は図1の要部
拡大平面図である。当該赤外線検出素子Aは、シリコン
製等の半導体基板1の表面に、赤外線検出部2を四箇所
設けるとともに、これら赤外線検出部2、2どうしの相
互間の位置に干渉防止用導体3を設けたものである。
【0014】ここに、半導体基板1の表面には、酸化シ
リコン膜又は酸化シリコンと窒化シリコンとの多層膜等
からなる絶縁膜4が形成されている。また、計四つの赤
外線検出部2・・の下方には、それら四つの赤外線検出
部2・・を包括する面積よりも僅かに大きな面積の切欠
凹部状に形成された熱分離空間部5が設けられている。
この熱分離空間部5は、半導体基板1の裏面側からKO
H液による異方性エッチング処理を行って、絶縁膜4よ
りも下方の半導体基板1を除去すればよい。
【0015】各赤外線検出部2は、熱分離空間部5の上
方に位置する半導体基板1の絶縁膜4上に、薄膜抵抗体
2b、一対の電極2a、2a、及び赤外線吸収膜2cを
順次重ねて設けることにより構成されている。このう
ち、薄膜抵抗体2bは、例えば膜厚が0.1〜5.0μ
mの非結晶シリコン又は多結晶シリコンからなるもの
で、赤外線吸収による温度変化に伴って抵抗値が変化す
るものである。薄膜抵抗体2bとしては、温度上昇によ
って抵抗値が増加するものと減少するものの両方があ
り、本発明では何れのタイプでもよい。赤外線吸収膜2
cは、赤外線吸収率が高く且つ半導体プロセスに適した
物質で形成され、例えば酸化シリコンが適用でき、又金
黒等も使用可能である。尚、赤外線吸収膜2cは、電極
2a、2aや薄膜抵抗体2bの保護膜としての役目も果
たす。
【0016】電極2a、2aは、薄膜抵抗体2bの抵抗
値の変化が正確に検出できるように、例えば図4に示す
ような互いに対向する櫛型の平面形状に形成されて、薄
膜抵抗体2bと広面積で接触するように構成されてい
る。また、電極2a、2aの各端部は、増幅回路やその
他の回路を備えた信号処理回路(図示せず)に接続でき
るように半導体基板1の端部又は角部の位置へ延設され
ている。尚、信号処理回路は、半導体基板1の絶縁膜4
よりも下層の位置へ設けることにより、赤外線検出素子
Aに一体的に組み込むことも可能である。電極2a、2
aも前記赤外線吸収膜2c等と同様に薄膜により形成可
能であり、その材料としては、AuやAl等の通常の電
極材料の他、Ti、Zr、V、Nb、Ta、Cr、M
o、W、Ni、Pt、Pd等の金属合金、或いは多結晶
シリコンとのシリサイドを用いると、赤外線の吸収率が
高いので、検出感度を向上させることが可能である。
尚、電極2a、2aと薄膜抵抗体2bとは上下逆さまの
位置関係でもよい。
【0017】干渉防止用導体3は、四つの赤外線検出部
2、2・・の各相互間を仕切るように半導体基板1の絶
縁膜4上に例えばその平面形状が十字状になるように形
成されて設けられたものである。この干渉防止用導体3
も、上記赤外線検出部2の各部と同様に、半導体プロセ
スに則した薄膜により形成されることが望ましい。ま
た、その材質としては熱吸収性に優れたものが好まし
く、例えば前記電極2a、2aと同一の材質で形成でき
る。更に、図3に示すように、干渉防止用導体3の端部
3A、3A・・は絶縁膜4を通過して半導体基板1と接
触した状態に設けられ、干渉防止用導体3から半導体基
板1へ熱を逃がすことができるように構成されている。
【0018】上記構成の赤外線検出素子Aは、例えば四
つの赤外線検出部2・・でブリッジ回路を組むように電
極2a、2aを配線し、且つそのブリッジ回路に一定の
電圧を印加しておくことにより使用される。これによ
り、何れか一つの赤外線検出部2が赤外線の受光吸収に
反応して温度上昇して、その抵抗値が変化すれば、その
抵抗値の変化を電圧の変化に変換した状態で検出でき
る。また、実際の赤外線検知に際しては、赤外線以外の
電磁波を遮断しつつ赤外線のみを通過させる赤外線透過
フィルタが併用される。但し、この赤外線透過フィルタ
を赤外線検出部2の表面に薄膜形成する等して、赤外線
検出素子Aへ一体的に設けておくことも可能である。
【0019】次いで、上記赤外線検出素子Aの使用に際
し、四つの赤外線検出部2・・のうち、例えば一つの赤
外線検出部2のみが赤外線を受光吸収して温度が上昇す
ると、その熱が絶縁膜4を伝って赤外線検出部2からそ
の周囲へ流出する。絶縁膜4は熱伝導性に劣る材質では
あるが、赤外線検出部2が熱分離空間部5の存在により
半導体基板1とは熱伝導が抑制された状態にあるため
に、赤外線検出部2の熱は絶縁膜4を伝導する。尚、熱
分離空間部5により赤外線検出部2から半導体基板1へ
の熱の流出が抑制されていれば、赤外線検出部2は赤外
線の受光吸収に対応して迅速な温度上昇を行い、その感
度が良好となる。
【0020】而して、上記赤外線検出部2からの流出熱
は、隣接する他の赤外線検出部2へ到達する前に干渉防
止用導体3に吸収されるために、その流出熱が他の赤外
線検出部2へ多量に流れることが防止される。従って、
他の赤外線検出部2が赤外線の受光吸収を行っていない
にも拘わらず、一つの赤外線検出部2から流出した熱に
原因して不当に温度上昇してその抵抗値が変化する所謂
クロストークの現象を生じるようなことが、適切に防止
される。
【0021】またその際、干渉防止用導体3に吸収され
た熱は、干渉防止用導体3の端部3Aから半導体基板1
側へ流出するために、これにより干渉防止用導体3の温
度上昇を防止できて、連続した熱吸収が可能となる。従
って、該干渉防止用導体3で吸収する赤外線検出部2か
らの流出熱の熱量を増大させることができ、他の赤外線
検出部2に対するクロストークを一層徹底して防止する
ことができる。その結果、上記赤外線検出素子Aでは、
実際に赤外線を受光した一つの赤外線検出部2のみの抵
抗値が変化することにより、その抵抗値の変化を的確に
検出でき、赤外線検出の感度が良好となる。
【0022】図5及び図6は、本発明に係る赤外線検出
素子の第2実施例(請求項3に対応)を示している。図
5は赤外線検出素子Aaの平面図、図6はその要部断面
図である(尚、図1乃至図4と同一部位は同一符号で示
している)。当該赤外線検出素子Aaは、計四つの干渉
防止用導体3a・・を、各々個々に四つの赤外線検出部
2・・の各相互間位置へ設けたものである。また、各赤
外線検出部2の各々の電極2a、2aは干渉防止用導体
3aの各々に接続されて、各干渉防止用導体3aが電極
2a、2aの電気配線を兼用するように構成されてい
る。尚、本実施例における各干渉防止用導体3aは、熱
伝導性のみならず、電導性にも良好な材質の薄膜として
構成されていると共に、二本の電極2a、2a間を短絡
させないように配慮されている。
【0023】上記構成の赤外線検出素子Aaでは、各干
渉防止用導体3aによって、相互に隣接する赤外線検出
部2、2間の熱伝導を抑制して、これらのクロストーク
を防止できることは上記第1実施例と同様であることは
勿論のこと、各赤外線検出部2の電極2a、2aの電気
配線を干渉防止用導体3aとは別個に形成する必要性が
なくなる。
【0024】尚、上述した実施例では、計四つの赤外線
検出部2に対して一つの信号処理回路を接続する態様で
あるが、本発明はこれに限定されない。例えば、一つの
赤外線検出部2に対して信号処理回路を一つずつ対応さ
せて個別に接続する態様であってもよい。かかる場合に
は、信号処理部ごとに赤外線検出が行え、赤外線検出部
間でクロストークが発生すると、赤外線検出の誤動作と
なるが、この場合であっても赤外線検出部2・・の相互
間の位置に設けた干渉防止用導体3(又は3a)の作用
により赤外線検出部間のクロストークを解消でき、赤外
線検出の適正化が図れる。
【0025】また、本発明は熱分離空間部5の形成手段
も上述の実施例で示した基板の裏面側をエッチングする
手段に限定されない。例えば、図7に示すように、半導
体基板1の表面の絶縁膜4にスリット6を形成し、当該
スリット6からエッチッグ液を注入することにより半導
体基板1の上面側を一部除去し、熱分離空間部5を形成
してもよい。尚、本発明では、図10で示した従来のよ
うに、一つの赤外線検出部2に対して一つの熱分離空間
部5を対応させて形成する必要性はなく、四つの赤外線
検出部2・・が設けられた領域に対して一つの熱分離空
間部5を形成すればよい。更に、赤外線検出部2の電極
2a、2aは、図4に示すような櫛型状のものに限ら
ず、例えば前記図7で示すように、薄膜抵抗体2bを上
下から挟み込むタイプにしてもよい。その他、本発明は
基板の片面に赤外線検出部2を複数設けることが前提条
件であるが、その具体的な数が四つに限定されないこと
は言うまでもない。
【0026】
【発明の効果】以上の説明から理解されるように、請求
項1乃至3に記載の本発明に係る赤外線検出素子によれ
ば、赤外線検出部どうしを相互に接近させた場合であっ
ても、干渉防止用導体の熱吸収作用によって赤外線検出
部間のクロストークが解消できて、赤外線検出感度の向
上、或いは赤外線検出の過誤防止が図れ、しかも干渉防
止用導体は赤外線検出部の相互間に大きなサイズで設け
る必要がなく、また従来のように赤外線検出部の相互間
に基板の一部を幅広い状態で残存させる必要もなくなる
から、赤外線検出部の集積度を従来よりも高めることが
できるという効果が得られる。また、本発明では、干渉
防止用導体を赤外線検出部の相互間に設けるだけでよい
から、赤外線検出素子全体の構成が嵩張らず、赤外線検
出素子を簡易且つ小型に製造できる利点もある。
【0027】特に、請求項2記載の本発明に係る赤外線
検出素子によれば、干渉防止用導体で吸収した熱を基板
に逃がすことにより、干渉防止用導体を大きなサイズに
形成することなく、その熱吸収量を増大させることでき
るため、赤外線検出部間のクロストークの防止、並びに
赤外線検出部の集積度の向上を一層徹底して図れるとい
う効果が得られる。また、請求項3記載の本発明に係る
赤外線検出素子によれば、干渉防止用導体を赤外線検出
部の電極用の電気配線として機能させ得るために、赤外
線検出部の電極用の電気配線の省略化が図れ、赤外線検
出素子の構造を一層簡素にできる利点も得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る赤外線検出素子の第1実施例を示
す平面図。
【図2】図1のX−X線断面図。
【図3】図2のY−Y線端面図。
【図4】図1に示す赤外線検出素子の要部拡大平面図。
【図5】本発明に係る赤外線検出素子の第2実施例を示
す平面図。
【図6】図5に示す赤外線検出素子の要部断面図。
【図7】本発明に係る赤外線検出素子の他の実施例を示
す断面図。
【図8】従来の赤外線検出素子の一例を示す断面図。
【図9】二次元アレイ化した従来の赤外線検出素子の一
例を示す平面図。
【図10】二次元アレイ化した従来の赤外線検出素子の
一例を示す断面図。
【符号の説明】
1 半導体基板 2 赤外線検出部 2a,2a 電極 2b 薄膜抵抗体 2c 赤外線吸収膜 3,3a 干渉防止用導体 4 絶縁膜 5 熱分離空間部 A,Aa 赤外線検出素子

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板の片面に複数の赤外線検出部が設けら
    れて、これら赤外線検出部の下方位置に、赤外線検出部
    と基板との両者間の熱伝導を抑制するための熱分離空間
    部が設けられている赤外線検出素子であって、 前記複数の赤外線検出部の相互間には、赤外線検出部か
    らの流出熱を吸収する干渉防止用導体が設けられている
    ことを特徴とする赤外線検出素子。
  2. 【請求項2】請求項1において、上記干渉防止用導体
    が、吸収した熱を基板に逃がすように基板に接続されて
    いることを特徴とする赤外線検出素子。
  3. 【請求項3】請求項1又は2において、上記干渉防止用
    導体が、赤外線検出部の電極に電気的に接続されている
    ことを特徴とする赤外線検出素子。
JP3352113A 1991-12-12 1991-12-12 赤外線検出素子 Withdrawn JPH05164604A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3408630B1 (en) * 2016-01-28 2024-03-27 AMS Sensors UK Limited An ir detector array device

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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