JPH05154662A - シーム溶接装置 - Google Patents
シーム溶接装置Info
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- JPH05154662A JPH05154662A JP32615491A JP32615491A JPH05154662A JP H05154662 A JPH05154662 A JP H05154662A JP 32615491 A JP32615491 A JP 32615491A JP 32615491 A JP32615491 A JP 32615491A JP H05154662 A JPH05154662 A JP H05154662A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 重ね量ｐ0を測定するプレート１４ａ、１４
ｂ及びポテンショメータ１５ａ、１５ａと、ポテンショ
メータ１５ａ、１５ｂの出力信号に基づいて各溶接条件
を最適溶接条件に設定する演算装置１６及びコントロー
ラ１７とを備えたことを特徴としている。 【効果】 重ね量ｐ0が変化した場合にも最適の溶接条
件でシーム溶接を行うことができるシーム溶接装置が得
られる効果がある。
ｂ及びポテンショメータ１５ａ、１５ａと、ポテンショ
メータ１５ａ、１５ｂの出力信号に基づいて各溶接条件
を最適溶接条件に設定する演算装置１６及びコントロー
ラ１７とを備えたことを特徴としている。 【効果】 重ね量ｐ0が変化した場合にも最適の溶接条
件でシーム溶接を行うことができるシーム溶接装置が得
られる効果がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、先行ストリップ及び
後行ストリップを重ね合わせて、１対の電極円盤から電
流を供給し、電気抵抗発熱を利用して両ストリップを連
続的に溶接するシーム溶接装置に関するものである。
後行ストリップを重ね合わせて、１対の電極円盤から電
流を供給し、電気抵抗発熱を利用して両ストリップを連
続的に溶接するシーム溶接装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８は、本出願人が既に出願している
「シーム溶接装置」（特願平３−３６８２７号）に記載
された従来のシーム溶接装置を示す斜視図である。シー
ム溶接装置は、先行ストリップ１と後行ストリップ２
（または２ａ）とを溶接して鉄鋼プロセスラインの処理
装置に連続的に材料を供給するために設けられている。
先行ストリップ１及び後行ストリップ２は被溶接材を構
成する。なお、図８の構成例で、後行ストリップ２の上
側に別の後行ストリップ２ａが設けられているのは、先
行ストリップと後行ストリップの接続時間を短縮するた
めである。
「シーム溶接装置」（特願平３−３６８２７号）に記載
された従来のシーム溶接装置を示す斜視図である。シー
ム溶接装置は、先行ストリップ１と後行ストリップ２
（または２ａ）とを溶接して鉄鋼プロセスラインの処理
装置に連続的に材料を供給するために設けられている。
先行ストリップ１及び後行ストリップ２は被溶接材を構
成する。なお、図８の構成例で、後行ストリップ２の上
側に別の後行ストリップ２ａが設けられているのは、先
行ストリップと後行ストリップの接続時間を短縮するた
めである。
【０００３】図８(ａ)に示すように、従来のシーム溶接
装置においては、コモンベース３に出側クランプ４及び
入側クランプ５が装着され、両クランプ４、５間にキャ
リッジ６が配置されている。キャリッジ６は、コモンベ
ース３上に設置されているガイド機構（図示せず）を案
内として、キャリッジ駆動装置７によって駆動される。
キャリッジ６には、ストリップ１、２を押し潰しながら
シーム溶接を行う１対の電極円盤８、ストリップ１、２
を切断するためのギロチンシャー９、溶接電流を給電す
るための溶接トランス１０及び二次導体１１が装着され
ている。
装置においては、コモンベース３に出側クランプ４及び
入側クランプ５が装着され、両クランプ４、５間にキャ
リッジ６が配置されている。キャリッジ６は、コモンベ
ース３上に設置されているガイド機構（図示せず）を案
内として、キャリッジ駆動装置７によって駆動される。
キャリッジ６には、ストリップ１、２を押し潰しながら
シーム溶接を行う１対の電極円盤８、ストリップ１、２
を切断するためのギロチンシャー９、溶接電流を給電す
るための溶接トランス１０及び二次導体１１が装着され
ている。
【０００４】次に、図８に示した従来のシーム溶接装置
の動作について、図９を参照しながら説明する。まず、
図９(ａ)のように、先行ストリップ１の終端と後行スト
リップ２の先端とがギロチンシャー９の中央部（ダブル
カットシャー刃幅内）に停止した後、出側クランプ４及
び入側クランプ５でそれぞれストリップ１、２をクラン
プ拘束し、ギロチンシャー９によって先行ストリップ１
の終端と後行ストリップ２の先端とを切断する。続い
て、図９(ｂ)のように、切断された先行ストリップ１を
出側クランプ４によって傾動し、後行ストリップ２を入
側クランプ５によってインデックス（前進）する。イン
デックスが完了し出側クランプ４の傾動が元に戻ること
により重ね合わせ動作が終了し、先行ストリップ１と後
行ストリップ２とは図示の重ね量ｐ0だけ互いに重なり
合う状態になる。
の動作について、図９を参照しながら説明する。まず、
図９(ａ)のように、先行ストリップ１の終端と後行スト
リップ２の先端とがギロチンシャー９の中央部（ダブル
カットシャー刃幅内）に停止した後、出側クランプ４及
び入側クランプ５でそれぞれストリップ１、２をクラン
プ拘束し、ギロチンシャー９によって先行ストリップ１
の終端と後行ストリップ２の先端とを切断する。続い
て、図９(ｂ)のように、切断された先行ストリップ１を
出側クランプ４によって傾動し、後行ストリップ２を入
側クランプ５によってインデックス（前進）する。イン
デックスが完了し出側クランプ４の傾動が元に戻ること
により重ね合わせ動作が終了し、先行ストリップ１と後
行ストリップ２とは図示の重ね量ｐ0だけ互いに重なり
合う状態になる。
【０００５】さらに、図９(ｃ)のように、重ね合わせ動
作によってストリップ端に得られた重ね量ｐ0の重ね合
わせ部に電極円盤８を下降させ、キャリッジ６をキャリ
ッジ駆動装置７によって移動させながら、溶接トランス
１０及び二次導体１１から溶接電流を供給することによ
りシーム溶接を行う。図９(ｄ)は図９(ｃ)の同じ状態の
斜視図である。溶接が完了すると、出側クランプ４、入
側クランプ５はそれぞれ先行ストリップ１、後行ストリ
ップ２を開放する。なお、図９(ｂ)のインデックス量を
調整することにより、重ね量ｐ0を調整することができ
る。
作によってストリップ端に得られた重ね量ｐ0の重ね合
わせ部に電極円盤８を下降させ、キャリッジ６をキャリ
ッジ駆動装置７によって移動させながら、溶接トランス
１０及び二次導体１１から溶接電流を供給することによ
りシーム溶接を行う。図９(ｄ)は図９(ｃ)の同じ状態の
斜視図である。溶接が完了すると、出側クランプ４、入
側クランプ５はそれぞれ先行ストリップ１、後行ストリ
ップ２を開放する。なお、図９(ｂ)のインデックス量を
調整することにより、重ね量ｐ0を調整することができ
る。
【０００６】ここで、図９(ｃ)に示すように、重ね合わ
せ部のストリップ１、２は斜めになるので、シーム溶接
の際に電極円盤８で上下から圧力を加えると、ストリッ
プ１、２には互いに逃げようとする力が作用する。この
ため、出側クランプ４、入側クランプ５には、それぞれ
図中の矢印Ａ1、Ａ2方向の力が作用する。両クランプ
４、５は、この力を受けても動くことがないように、高
剛性の構造にする必要がある。しかるに、出側クランプ
４は傾動機能、入側クランプ５はインデックス機能を有
しているため高剛性の構造は得にくく、重ね量ｐ0がス
トリップ１、２の幅方向（図９(ａ)〜(ｃ)で紙面に垂直
な方向）に沿って変化してしまい、しばしば、溶接終端
において両クランプ４、５の間隔が広がり溶接不良が生
じていた。この現象は、重ね量ｐ0が小さいときや厚板
の溶接時に生じやすい傾向がある。
せ部のストリップ１、２は斜めになるので、シーム溶接
の際に電極円盤８で上下から圧力を加えると、ストリッ
プ１、２には互いに逃げようとする力が作用する。この
ため、出側クランプ４、入側クランプ５には、それぞれ
図中の矢印Ａ1、Ａ2方向の力が作用する。両クランプ
４、５は、この力を受けても動くことがないように、高
剛性の構造にする必要がある。しかるに、出側クランプ
４は傾動機能、入側クランプ５はインデックス機能を有
しているため高剛性の構造は得にくく、重ね量ｐ0がス
トリップ１、２の幅方向（図９(ａ)〜(ｃ)で紙面に垂直
な方向）に沿って変化してしまい、しばしば、溶接終端
において両クランプ４、５の間隔が広がり溶接不良が生
じていた。この現象は、重ね量ｐ0が小さいときや厚板
の溶接時に生じやすい傾向がある。
【０００７】ところで、表面処理を施してある鋼板をシ
ーム溶接する場合には、電極円盤８の外周部に塗料等が
付着してしまう。これを取り除くために、一般に、図７
のように、電極円盤８ａ、８ｂの外周部にアクチュエー
タ１２ａ、１２ｂの作用によってドレッサ（電極成形用
のカッター）１３ａ、１３ｂを押し付け、電極円盤８
ａ、８ｂの外周部の研削、成形を行っている。この作業
はシーム溶接と同時に、あるいは整備用の時間を別に設
けて行われる。電極円盤８ａ、８ｂの外周部の研削、成
形に伴って電極円盤８ａ、８ｂの径は変化し、ストリッ
プ１、２と電極円盤８ａ、８ｂの接触面積すなわち通電
面積も変化する。つまり、電極円盤８ａ、８ｂの径が小
さくなると、外周の曲率が大きくなるため、通電面積は
小さくなる。なお、アクチュエータ１２ａ、１２ｂとド
レッサ１３ａ、１３ｂとによって電極成形手段が構成さ
れる。
ーム溶接する場合には、電極円盤８の外周部に塗料等が
付着してしまう。これを取り除くために、一般に、図７
のように、電極円盤８ａ、８ｂの外周部にアクチュエー
タ１２ａ、１２ｂの作用によってドレッサ（電極成形用
のカッター）１３ａ、１３ｂを押し付け、電極円盤８
ａ、８ｂの外周部の研削、成形を行っている。この作業
はシーム溶接と同時に、あるいは整備用の時間を別に設
けて行われる。電極円盤８ａ、８ｂの外周部の研削、成
形に伴って電極円盤８ａ、８ｂの径は変化し、ストリッ
プ１、２と電極円盤８ａ、８ｂの接触面積すなわち通電
面積も変化する。つまり、電極円盤８ａ、８ｂの径が小
さくなると、外周の曲率が大きくなるため、通電面積は
小さくなる。なお、アクチュエータ１２ａ、１２ｂとド
レッサ１３ａ、１３ｂとによって電極成形手段が構成さ
れる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来のシーム溶接装置
においては、重ね量ｐ0がストリップ１、２の幅方向で
変化している場合にも電流値等の溶接条件は一定のまま
である。このため、重ね量ｐ0が変化する場合には、こ
の変化に従って通電面積が変化し、さらに抵抗発熱量に
寄与する電流密度が変化するので、良好な溶接品質を安
定して得ることができないという問題点があった。ま
た、重ね量ｐ0を一定に保つためには、特別の拘束装置
が必要となり、構造の複雑化、重量及びコストの増大を
招くという問題点があった。
においては、重ね量ｐ0がストリップ１、２の幅方向で
変化している場合にも電流値等の溶接条件は一定のまま
である。このため、重ね量ｐ0が変化する場合には、こ
の変化に従って通電面積が変化し、さらに抵抗発熱量に
寄与する電流密度が変化するので、良好な溶接品質を安
定して得ることができないという問題点があった。ま
た、重ね量ｐ0を一定に保つためには、特別の拘束装置
が必要となり、構造の複雑化、重量及びコストの増大を
招くという問題点があった。
【０００９】また、電極円盤８ａ、８ｂの外周部の研
削、成形を、特にシーム溶接と同時に行う場合には、同
様に、通電面積の変化に従って電流密度が変化するの
で、良好な溶接品質を安定して得ることができないとい
う問題点があった。
削、成形を、特にシーム溶接と同時に行う場合には、同
様に、通電面積の変化に従って電流密度が変化するの
で、良好な溶接品質を安定して得ることができないとい
う問題点があった。
【００１０】この発明は、上記のような問題点を解決す
るためになされたもので、重ね量や電極円盤径が変化し
た場合にも最適の溶接条件でシーム溶接を行うことがで
きるシーム溶接装置を得ることを目的とする。
るためになされたもので、重ね量や電極円盤径が変化し
た場合にも最適の溶接条件でシーム溶接を行うことがで
きるシーム溶接装置を得ることを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に係
る発明のシーム溶接装置は、重ね量を測定する重ね量測
定手段と、重ね量測定手段の出力信号に基づいて各溶接
条件を最適溶接条件に設定する溶接条件設定手段とを備
えたものである。
る発明のシーム溶接装置は、重ね量を測定する重ね量測
定手段と、重ね量測定手段の出力信号に基づいて各溶接
条件を最適溶接条件に設定する溶接条件設定手段とを備
えたものである。
【００１２】また、この発明の請求項２に係る発明のシ
ーム溶接装置は、電極円盤の径を測定する電極円盤径測
定手段と、電極円盤径測定手段の出力信号に基づいて各
溶接条件を最適溶接条件に設定する溶接条件設定手段と
を備えたものである。
ーム溶接装置は、電極円盤の径を測定する電極円盤径測
定手段と、電極円盤径測定手段の出力信号に基づいて各
溶接条件を最適溶接条件に設定する溶接条件設定手段と
を備えたものである。
【００１３】さらに、この発明の請求項３に係る発明の
シーム溶接装置は、電極成形手段が外周部の研削及び成
形を行った時間を測定することにより電極円盤の径を間
接的に測定する電極円盤径間接測定手段と、電極円盤径
間接測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶
接条件に設定する溶接条件設定手段とを備えたものであ
る。
シーム溶接装置は、電極成形手段が外周部の研削及び成
形を行った時間を測定することにより電極円盤の径を間
接的に測定する電極円盤径間接測定手段と、電極円盤径
間接測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶
接条件に設定する溶接条件設定手段とを備えたものであ
る。
【００１４】
【作用】この発明の請求項１に係る発明においては、重
ね量測定手段によって被溶接材の重ね量が測定され、溶
接条件設定手段によって、測定された重ね量に基づいて
最適溶接条件が求められさらに各溶接条件が最適溶接条
件に設定される。
ね量測定手段によって被溶接材の重ね量が測定され、溶
接条件設定手段によって、測定された重ね量に基づいて
最適溶接条件が求められさらに各溶接条件が最適溶接条
件に設定される。
【００１５】また、この発明の請求項２に係る発明にお
いては、電極円盤径測定手段によって電極円盤の径が測
定され、溶接条件設定手段によって、測定された電極円
盤径に基づいて最適溶接条件が求められさらに各溶接条
件が最適溶接条件に設定される。
いては、電極円盤径測定手段によって電極円盤の径が測
定され、溶接条件設定手段によって、測定された電極円
盤径に基づいて最適溶接条件が求められさらに各溶接条
件が最適溶接条件に設定される。
【００１６】さらに、この発明の請求項３に係る発明に
おいては、電極円盤径間接測定手段によって、電極成形
手段による研削及び成形の時間に基づいて電極円盤径が
間接的に測定され、溶接条件設定手段によって、測定さ
れた電極円盤径に基づいて最適溶接条件が求められさら
に各溶接条件が最適溶接条件に設定される。
おいては、電極円盤径間接測定手段によって、電極成形
手段による研削及び成形の時間に基づいて電極円盤径が
間接的に測定され、溶接条件設定手段によって、測定さ
れた電極円盤径に基づいて最適溶接条件が求められさら
に各溶接条件が最適溶接条件に設定される。
【００１７】
実施例１．図１はこの発明の請求項１に係る発明の実施
例１を示す構成図、図２は同じく斜視図であり、図８、
図９と同一または相当部分には同一符号を付し、その説
明は省略する。先行ストリップ１の終端位置は、この位
置に応じて前後するプレート１４ａを備えたポテンショ
メータ１５ａによって測定される。同様に、後行ストリ
ップ２の先端位置は、プレート１４ｂを備えたポテンシ
ョメータ１５ｂによって測定される。ポテンショメータ
１５ａ、１５ｂは、キャリッジ６（図８参照）に取り付
けられている。演算装置１６は、ポテンショメータ１５
ａ、１５ｂの出力信号を入力されてストリップ１、２の
重ね量ｐ0を演算し、さらに、最適溶接条件を演算す
る。コントローラ１７は、各溶接条件（溶接電流、溶接
速度及び電極円盤加圧力）を演算によって求められた最
適溶接条件に設定する。また、プレート１４ａ、１４ｂ
とポテンショメータ１５ａ、１５ｂは重ね量測定手段を
構成し、演算装置１６とコントローラ１７は溶接条件設
定手段を構成する。
例１を示す構成図、図２は同じく斜視図であり、図８、
図９と同一または相当部分には同一符号を付し、その説
明は省略する。先行ストリップ１の終端位置は、この位
置に応じて前後するプレート１４ａを備えたポテンショ
メータ１５ａによって測定される。同様に、後行ストリ
ップ２の先端位置は、プレート１４ｂを備えたポテンシ
ョメータ１５ｂによって測定される。ポテンショメータ
１５ａ、１５ｂは、キャリッジ６（図８参照）に取り付
けられている。演算装置１６は、ポテンショメータ１５
ａ、１５ｂの出力信号を入力されてストリップ１、２の
重ね量ｐ0を演算し、さらに、最適溶接条件を演算す
る。コントローラ１７は、各溶接条件（溶接電流、溶接
速度及び電極円盤加圧力）を演算によって求められた最
適溶接条件に設定する。また、プレート１４ａ、１４ｂ
とポテンショメータ１５ａ、１５ｂは重ね量測定手段を
構成し、演算装置１６とコントローラ１７は溶接条件設
定手段を構成する。
【００１８】次に、図１、図２に示したこの発明の実施
例１の動作について、図３のフローチャートを参照しな
がら説明する。まず、互いに距離Ｌだけ離して設置され
たポテンショメータ１５ａ、１５ｂによって、先行スト
リップ１の終端位置までの距離ｐaと後行ストリップ２
の先端位置までの距離ｐbとが測定される（ステップＳ
１）。なお、プレート１４ａ、１４ｂは、電極円盤８か
ら溶接線方向（図１において紙面に垂直な方向）に一定
間隔離して設置されている。続いて、演算装置１６は、
ポテンショメータ１５ａ、１５ｂから距離ｐa、ｐbを入
力されて、次の式に従って重ね量ｐ0を演算する（ス
テップＳ２）。
例１の動作について、図３のフローチャートを参照しな
がら説明する。まず、互いに距離Ｌだけ離して設置され
たポテンショメータ１５ａ、１５ｂによって、先行スト
リップ１の終端位置までの距離ｐaと後行ストリップ２
の先端位置までの距離ｐbとが測定される（ステップＳ
１）。なお、プレート１４ａ、１４ｂは、電極円盤８か
ら溶接線方向（図１において紙面に垂直な方向）に一定
間隔離して設置されている。続いて、演算装置１６は、
ポテンショメータ１５ａ、１５ｂから距離ｐa、ｐbを入
力されて、次の式に従って重ね量ｐ0を演算する（ス
テップＳ２）。
【００１９】ｐ0＝Ｌ−（ｐa＋ｐb） …
【００２０】求められた重ね量ｐ0に対応する最適溶接
条件、すなわち、溶接電流、溶接速度及び電極円盤加圧
力の最適な組み合わせが、演算装置１６によって演算さ
れる（ステップＳ３）。ここで、種々の重ね量ｐ0に対
応する最適溶接条件は、実測データまたは数値計算デー
タを用いて予め求められている。さらに、コントローラ
１７は、溶接条件を、演算によって求められた最適溶接
条件に設定する（ステップＳ４）。以上の動作は、前回
求められた最適溶接条件のシーム溶接と同時に行われ、
また、シーム溶接が終了するまで（ステップＳ５）繰り
返し連続的に行われる。
条件、すなわち、溶接電流、溶接速度及び電極円盤加圧
力の最適な組み合わせが、演算装置１６によって演算さ
れる（ステップＳ３）。ここで、種々の重ね量ｐ0に対
応する最適溶接条件は、実測データまたは数値計算デー
タを用いて予め求められている。さらに、コントローラ
１７は、溶接条件を、演算によって求められた最適溶接
条件に設定する（ステップＳ４）。以上の動作は、前回
求められた最適溶接条件のシーム溶接と同時に行われ、
また、シーム溶接が終了するまで（ステップＳ５）繰り
返し連続的に行われる。
【００２１】なお、実施例１では重ね量ｐ0の測定手段
としてポテンショメータ１５ａ、１５ｂを用いたが、図
４のように、非接触式計測器１８ａ、１８ｂ、例えばレ
ーザ変位計やＣＣＤカメラを用いてもよい。
としてポテンショメータ１５ａ、１５ｂを用いたが、図
４のように、非接触式計測器１８ａ、１８ｂ、例えばレ
ーザ変位計やＣＣＤカメラを用いてもよい。
【００２２】実施例２．図５はこの発明の請求項２に係
る発明の実施例２を示す構成図であり、１、２、８ａ、
８ｂ、１７は前述と同様のものである。ストリップ１、
２は、図示の範囲Ｂ1においては溶接され一体となって
おり、範囲Ｂ2においては溶接前であり別々の状態であ
る。変位計１９ａ、１９ｂは、外周部の研削、成形に伴
って変化する電極円盤８ａ、８ｂの外周までの距離を測
定するレーザ変位計あるいはポテンショメータ等であ
り、また、キャリッジ６（図８参照）に取り付けられて
いる。演算装置１６ａは、変位計１９ａ、１９ｂの出力
信号を入力されて電極円盤８ａ、８ｂの径を演算し、さ
らに、最適溶接条件を演算する。また、変位計１９ａ、
１９ｂは電極円盤径測定手段を構成し、演算装置１６ａ
とコントローラ１７は溶接条件設定手段を構成する。
る発明の実施例２を示す構成図であり、１、２、８ａ、
８ｂ、１７は前述と同様のものである。ストリップ１、
２は、図示の範囲Ｂ1においては溶接され一体となって
おり、範囲Ｂ2においては溶接前であり別々の状態であ
る。変位計１９ａ、１９ｂは、外周部の研削、成形に伴
って変化する電極円盤８ａ、８ｂの外周までの距離を測
定するレーザ変位計あるいはポテンショメータ等であ
り、また、キャリッジ６（図８参照）に取り付けられて
いる。演算装置１６ａは、変位計１９ａ、１９ｂの出力
信号を入力されて電極円盤８ａ、８ｂの径を演算し、さ
らに、最適溶接条件を演算する。また、変位計１９ａ、
１９ｂは電極円盤径測定手段を構成し、演算装置１６ａ
とコントローラ１７は溶接条件設定手段を構成する。
【００２３】次に、図５に示したこの発明の実施例２の
動作について、図６のフローチャートを参照しながら説
明する。まず、電極円盤８ａの中心から距離Ｌ1の位置
に設置された変位計１９ａによって、電極円盤８ａの外
周までの距離ｑ1が測定される。同様に距離ｑ2も測定さ
れる（ステップＳ６）。続いて、演算装置１６ａは、変
位計１９ａ、１９ｂから距離ｑ1、ｑ2を入力されて、次
の式、に従って電極円盤径ｑ01、ｑ02を演算する
（ステップＳ７）。
動作について、図６のフローチャートを参照しながら説
明する。まず、電極円盤８ａの中心から距離Ｌ1の位置
に設置された変位計１９ａによって、電極円盤８ａの外
周までの距離ｑ1が測定される。同様に距離ｑ2も測定さ
れる（ステップＳ６）。続いて、演算装置１６ａは、変
位計１９ａ、１９ｂから距離ｑ1、ｑ2を入力されて、次
の式、に従って電極円盤径ｑ01、ｑ02を演算する
（ステップＳ７）。
【００２４】ｑ01＝Ｌ1−ｑ1 … ｑ02＝Ｌ2−ｑ2 …
【００２５】ここで、演算装置１６ａは、求められた電
極円盤径ｑ01、ｑ02から電極円盤８ａ、８ｂの径の差す
なわち｜ｑ01−ｑ02｜を演算し、これが基準値内にある
か否かを判定して（ステップＳ８）、基準値より大きい
場合には円盤電極８ａ、８ｂの交換等の処置をさせるた
めに異常シグナルを出力する（ステップＳ９）。一方、
基準値内にある場合には、演算装置１６ａは、電極円盤
径ｑ01、ｑ02（または、ｑ01、ｑ02の平均値）に対応す
る最適溶接条件を演算する（ステップＳ１０）。ここ
で、種々の電極円盤径ｑ01、ｑ02に対応する最適溶接条
件は、実測データまたは数値計算データを用いて予め求
められている。さらに、コントローラ１７は、各溶接条
件を、演算によって求められた最適溶接条件に設定する
（ステップＳ１１）。以上の動作は、前回求められた最
適溶接条件のシーム溶接と同時に行われ、また、シーム
溶接が終了するまで（ステップＳ１２）繰り返し連続的
に行われる。
極円盤径ｑ01、ｑ02から電極円盤８ａ、８ｂの径の差す
なわち｜ｑ01−ｑ02｜を演算し、これが基準値内にある
か否かを判定して（ステップＳ８）、基準値より大きい
場合には円盤電極８ａ、８ｂの交換等の処置をさせるた
めに異常シグナルを出力する（ステップＳ９）。一方、
基準値内にある場合には、演算装置１６ａは、電極円盤
径ｑ01、ｑ02（または、ｑ01、ｑ02の平均値）に対応す
る最適溶接条件を演算する（ステップＳ１０）。ここ
で、種々の電極円盤径ｑ01、ｑ02に対応する最適溶接条
件は、実測データまたは数値計算データを用いて予め求
められている。さらに、コントローラ１７は、各溶接条
件を、演算によって求められた最適溶接条件に設定する
（ステップＳ１１）。以上の動作は、前回求められた最
適溶接条件のシーム溶接と同時に行われ、また、シーム
溶接が終了するまで（ステップＳ１２）繰り返し連続的
に行われる。
【００２６】実施例３．実施例２においては、電極円盤
８ａ、８ｂの径を、変位計１９ａ、１９ｂによって言わ
ば直接的に測定した。これを、ドレッサ１３ａ、１３ｂ
による電極円盤径の研削及び成形の時間を測定すること
により、電極円盤径を間接的に測定するようにしてもよ
い。つまり、ドレッサ１３ａ、１３ｂの研削成形能力
は、例えば１秒当たり１ｍｍというように一定であるの
で、研削及び成形の時間と既知である電極円盤径の初期
値とから、その時点での電極円盤径を間接的に測定する
ことができる。なお、実施例３はこの発明の請求項３に
係る発明の実施例であり、研削及び成形の時間の測定器
が電極円盤径間接測定手段を構成する。
８ａ、８ｂの径を、変位計１９ａ、１９ｂによって言わ
ば直接的に測定した。これを、ドレッサ１３ａ、１３ｂ
による電極円盤径の研削及び成形の時間を測定すること
により、電極円盤径を間接的に測定するようにしてもよ
い。つまり、ドレッサ１３ａ、１３ｂの研削成形能力
は、例えば１秒当たり１ｍｍというように一定であるの
で、研削及び成形の時間と既知である電極円盤径の初期
値とから、その時点での電極円盤径を間接的に測定する
ことができる。なお、実施例３はこの発明の請求項３に
係る発明の実施例であり、研削及び成形の時間の測定器
が電極円盤径間接測定手段を構成する。
【００２７】
【発明の効果】以上のようにこの発明の請求項１に係る
発明によれば、重ね量を測定する重ね量測定手段と、重
ね量測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶
接条件に設定する溶接条件設定手段とを備えたので、重
ね量が変化した場合にも最適の溶接条件でシーム溶接を
行うことができるシーム溶接装置が得られる効果があ
る。
発明によれば、重ね量を測定する重ね量測定手段と、重
ね量測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶
接条件に設定する溶接条件設定手段とを備えたので、重
ね量が変化した場合にも最適の溶接条件でシーム溶接を
行うことができるシーム溶接装置が得られる効果があ
る。
【００２８】また、この発明の請求項２に係る発明によ
れば、電極円盤の径を測定する電極円盤径測定手段と、
電極円盤径測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を
最適溶接条件に設定する溶接条件設定手段とを備えたの
で、電極円盤径が変化した場合にも最適の溶接条件でシ
ーム溶接を行うことができるシーム溶接装置が得られる
効果がある。
れば、電極円盤の径を測定する電極円盤径測定手段と、
電極円盤径測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を
最適溶接条件に設定する溶接条件設定手段とを備えたの
で、電極円盤径が変化した場合にも最適の溶接条件でシ
ーム溶接を行うことができるシーム溶接装置が得られる
効果がある。
【００２９】さらに、この発明の請求項３に係る発明に
よれば、電極成形手段が外周部の研削及び成形を行った
時間を測定することにより電極円盤の径を間接的に測定
する電極円盤径間接測定手段と、電極円盤径間接測定手
段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶接条件に設
定する溶接条件設定手段とを備えたので、電極円盤径が
変化した場合にも最適の溶接条件でシーム溶接を行うこ
とができるシーム溶接装置が得られる効果がある。
よれば、電極成形手段が外周部の研削及び成形を行った
時間を測定することにより電極円盤の径を間接的に測定
する電極円盤径間接測定手段と、電極円盤径間接測定手
段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶接条件に設
定する溶接条件設定手段とを備えたので、電極円盤径が
変化した場合にも最適の溶接条件でシーム溶接を行うこ
とができるシーム溶接装置が得られる効果がある。
【図１】この発明の請求項１に係る発明の実施例１を示
す構成図である。
す構成図である。
【図２】実施例１を示す斜視図である。
【図３】実施例１の動作を示すフローチャートである。
【図４】この発明の請求項１に係る発明の別の実施例を
示す構成図である。
示す構成図である。
【図５】この発明の請求項２に係る発明の実施例２を示
す構成図である。
す構成図である。
【図６】実施例２の動作を示すフローチャートである。
【図７】一般的なシーム溶接装置における電極円盤外周
部の研削、成形を示す構成図である。
部の研削、成形を示す構成図である。
【図８】従来のシーム溶接装置を示す斜視図である。
【図９】従来のシーム溶接装置の動作の説明図である。
１ 先行ストリップ ２ 後行ストリップ ８、８ａ、８ｂ 電極円盤 １２ａ、１２ｂ アクチュエータ １３ａ、１３ｂ ドレッサ １４ａ、１４ｂ プレート １５ａ、１５ｂ ポテンショメータ １６、１６ａ 演算装置 １７ コントローラ １８ａ、１８ｂ 非接触式計測器 １９ａ、１９ｂ 変位計 ｐ0 重ね量 ｑ01、ｑ02 電極円盤径
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ２３Ｋ 11/24 ３９４ 9265−4Ｅ 11/30 ３５５ 9265−4Ｅ
Claims (3)
- 【請求項１】 重ね量だけ互いに重なり合う１対の被溶
接材の重ね合わせ部を挟みこんで前記重ね合わせ部に溶
接電流を供給することにより、電気抵抗発熱を利用して
前記被溶接材の溶接を連続的に行う１対の電極円盤を有
するシーム溶接装置において、 前記重ね量を測定する重ね量測定手段と、前記重ね量測
定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶接条件
に設定する溶接条件設定手段とを備えたことを特徴とす
るシーム溶接装置。 - 【請求項２】 互いに重なり合い表面処理を施してある
１対の被溶接材の重ね合わせ部を挟みこんで前記重ね合
わせ部に溶接電流を供給することにより、電気抵抗発熱
を利用して前記被溶接材の溶接を連続的に行う１対の電
極円盤と、前記表面処理の影響を受けた前記電極円盤の
外周部の研削及び成形を行う電極成形手段とを有するシ
ーム溶接装置において、 前記電極円盤の径を測定する電極円盤径測定手段と、前
記電極円盤径測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件
を最適溶接条件に設定する溶接条件設定手段とを備えた
ことを特徴とするシーム溶接装置。 - 【請求項３】 互いに重なり合い表面処理を施してある
１対の被溶接材の重ね合わせ部を挟みこんで前記重ね合
わせ部に溶接電流を供給することにより、電気抵抗発熱
を利用して前記被溶接材の溶接を連続的に行う１対の電
極円盤と、前記表面処理の影響を受けた前記電極円盤の
外周部の研削及び成形を行う電極成形手段とを有するシ
ーム溶接装置において、 前記電極成形手段が前記外周部の研削及び成形を行った
時間を測定することにより前記電極円盤の径を間接的に
測定する電極円盤径間接測定手段と、前記電極円盤径間
接測定手段の出力信号に基づいて各溶接条件を最適溶接
条件に設定する溶接条件設定手段とを備えたことを特徴
とするシーム溶接装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3326154A JP2650663B2 (ja) | 1991-12-10 | 1991-12-10 | シーム溶接装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3326154A JP2650663B2 (ja) | 1991-12-10 | 1991-12-10 | シーム溶接装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05154662A true JPH05154662A (ja) | 1993-06-22 |
| JP2650663B2 JP2650663B2 (ja) | 1997-09-03 |
Family
ID=18184657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3326154A Expired - Lifetime JP2650663B2 (ja) | 1991-12-10 | 1991-12-10 | シーム溶接装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2650663B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001064384A1 (fr) * | 2000-02-28 | 2001-09-07 | Kikuchi Co., Ltd. | Dispositif et procede de soudage continu |
| JP2002192348A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Kikuchi Co Ltd | シーム溶接装置 |
| JP2006167745A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Horie Metal Co Ltd | シーム溶接機の溶接制御装置 |
| JP2016140865A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | Ｊｆｅスチール株式会社 | シーム溶接機下電極輪高さ制御装置、シーム溶接システムおよびシーム溶接機の下電極輪高さ制御方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6021823A (ja) * | 1983-07-19 | 1985-02-04 | Asahi Glass Co Ltd | 珪酸塩中空体 |
| JPS6152994A (ja) * | 1984-08-21 | 1986-03-15 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 連続熱間圧延方法 |
| JPS63115685A (ja) * | 1986-11-04 | 1988-05-20 | Horie Kinzoku Kogyo Kk | シ−ム溶接機の溶接条件自動切換装置 |
| JPH01135176U (ja) * | 1988-03-09 | 1989-09-14 |
-
1991
- 1991-12-10 JP JP3326154A patent/JP2650663B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| EP1211014A1 (en) * | 2000-02-28 | 2002-06-05 | Kikuchi Co. Ltd. | Device and method for seam welding |
| US6518535B2 (en) | 2000-02-28 | 2003-02-11 | Kikuchi Co., Ltd. | Device and method for seaming welding |
| EP1211014A4 (en) * | 2000-02-28 | 2007-08-08 | Kikuchi Co Ltd | METHOD AND DEVICE FOR CONTINUOUS SEAM WELDING |
| JP2002192348A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-07-10 | Kikuchi Co Ltd | シーム溶接装置 |
| JP2006167745A (ja) * | 2004-12-15 | 2006-06-29 | Horie Metal Co Ltd | シーム溶接機の溶接制御装置 |
| JP2016140865A (ja) * | 2015-01-30 | 2016-08-08 | Ｊｆｅスチール株式会社 | シーム溶接機下電極輪高さ制御装置、シーム溶接システムおよびシーム溶接機の下電極輪高さ制御方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2650663B2 (ja) | 1997-09-03 |
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