JPH05152266A - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置

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JPH05152266A
JPH05152266A JP3337802A JP33780291A JPH05152266A JP H05152266 A JPH05152266 A JP H05152266A JP 3337802 A JP3337802 A JP 3337802A JP 33780291 A JP33780291 A JP 33780291A JP H05152266 A JPH05152266 A JP H05152266A
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cassette
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義光 福▲富▼
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正美 大谷
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄処理後の処理済み基板をカセット内に収
納する際の再汚染を回避できるようにする。 【構成】 基台上に載置された状態で基板Ｗを多段に収
納するカセットと、基板Ｗを洗浄処理する基板洗浄処理
部側とにわたって移動する移動台２６に、カセットから
基板Ｗを取り出す基板取り出し用アーム３２と、処理済
み基板Ｗをカセットに搬送収納する処理済み基板収納用
アーム３３とを設けるとともに、処理済み基板収納用ア
ーム３３を昇降し、その基板支持面を、基板取り出し用
アーム３２の基板支持面より下方である基板取り出し用
アーム作用位置と、基板取り出し用アーム３２の基板支
持面より上である処理済み基板収納用アーム作用位置と
に変位可能に構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハや液晶装
置用のガラス基板等の基板を多段に収納したカセットか
ら１枚ずつ取り出して、その取り出した基板を純水など
による基板洗浄処理部に搬送供給し、その洗浄処理後の
処理済み基板をカセット内へ搬送収納するために、基台
上に載置された状態で基板を多段に収納するカセット
と、基板を洗浄処理する基板洗浄処理部との間で、真空
吸着により載置保持してカセット内の基板を取り出して
基板洗浄処理部に搬送するとともに基板洗浄処理部で洗
浄処理した後の処理済み基板を搬送して前記カセット内
に収納する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】上述のような基板搬送装置としては、カ
セット内に極力多数枚の基板を収納するために、上下の
基板間の間隔を狭くすることが好ましく、そのような狭
い箇所に、点接触で基板を載置保持するピン支持式の基
板保持手段を用いることは困難である。そこで、従来一
般に、カセットに対して基板を出し入れするために、真
空吸着式の厚みの小さい吸着アームを有するカセット側
基板搬送手段を設け、その吸着アームをカセット内に多
段に収納された基板の下方に移動させ、吸着アームの上
面に載置するとともに真空吸着によって保持し、それを
カセット外に移動して、基板待機位置にある別のピン支
持式の位置合わせ機構に受け渡し、位置合わせした後に
エッジ保持式のプロセス側基板搬送手段に受け渡し、こ
のプロセス側基板搬送手段により、基板を洗浄処理部に
搬送するように構成され、そして、洗浄処理後にあって
は、処理済み基板をプロセス側基板搬送手段によって取
り出して搬送するとともに基板位置合わせ機構に受け渡
し、ここで位置合わせされた後、そのカセット側基板搬
送手段により所定のカセットの前まで搬送した後に、カ
セット内に収納するように構成されている（特願平２−
１３７４９０号参照）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
基板搬送装置では、洗浄処理前の基板を載置保持してカ
セットから取り出す吸着アームでもって洗浄処理後の処
理済み基板をも載置保持してカセット内に収納してお
り、カセットから基板を取り出すときに、基板の裏面に
付着したパーティクルが吸着アームの載置面箇所に転移
し、その同じ吸着アームで処理済み基板をカセット内に
収納するようにしているため、折角洗浄処理した処理済
み基板の裏面を再汚染して品質が低下する欠点があっ
た。殊に、基板の表裏両面を洗浄するタイプの基板洗浄
装置における基板搬送装置では、歩留りが悪くて改善が
望まれていた。
【０００４】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、請求項１に係る基板搬送装置は、洗浄
処理後の処理済み基板をカセット内に収納する際の再汚
染を回避できるようにすることを目的とし、そして、請
求項２に係る基板搬送装置は、上述再汚染を回避するた
めの搬送構成を簡単にできるようにすることを目的と
し、また、請求項３に係る基板搬送装置は、上述再汚染
を回避するための搬送構成を簡単かつコンパクトにでき
るようにすることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明の基
板搬送装置は、上述のような目的を達成するために、基
台上に載置された状態で基板を多段に収納するカセット
と、基板を洗浄処理する基板洗浄処理部との間で、真空
吸着により載置保持してカセット内の基板を取り出して
基板洗浄処理部に搬送するとともに基板洗浄処理部で洗
浄処理した後の処理済み基板を搬送して前記カセット内
に収納する基板搬送装置において、基板洗浄処理部への
搬送のためにカセットから基板を取り出す基板取り出し
用搬送手段と、処理済み基板をカセットに搬送収納する
処理済み基板収納用搬送手段とをそれぞれ専用に設けて
構成する。
【０００６】請求項２に係る発明の基板搬送装置は、上
述のような目的を達成するために、基台上に載置された
状態で基板を多段に収納するカセットと、基板を洗浄処
理する基板洗浄処理部との間で、真空吸着により載置保
持してカセット内の基板を取り出して基板洗浄処理部に
搬送するとともに基板洗浄処理部で洗浄処理した後の処
理済み基板を搬送して前記カセット内に収納する基板搬
送装置において、カセットと基板洗浄処理部側とにわた
って移動する移動台に、カセットから基板を取り出す基
板取り出し用搬送機構と、処理済み基板をカセットに搬
送収納する処理済み基板収納用搬送機構とを設けて構成
する。
【０００７】請求項３に係る発明の基板搬送装置は、上
述のような目的を達成するために、基台上に載置された
状態で基板を多段に収納するカセットと、基板を洗浄処
理する基板洗浄処理部との間で、真空吸着により載置保
持してカセット内の基板を取り出して基板洗浄処理部に
搬送するとともに基板洗浄処理部で洗浄処理した後の処
理済み基板を搬送してカセット内に収納する基板搬送装
置において、カセットと基板洗浄処理部側とにわたって
移動する移動台に、カセットから基板を取り出す基板取
り出し用アームと、処理済み基板をカセットに搬送収納
する処理済み基板収納用アームとを設けるとともに、基
板取り出し用アームの基板支持面が処理済み基板収納用
アームの基板支持面より上方である基板取り出し用アー
ム作用位置と、前記処理済み基板収納用アームの基板支
持面が基板取り出し用アームの基板支持面より上方であ
る処理済み基板収納用アーム作用位置とに、前記両アー
ム間を相対的に昇降変位可能に構成する。
【０００８】
【作用】請求項１に係る発明の基板搬送装置の構成によ
れば、カセット内からの基板の取り出しは基板取り出し
用搬送手段によって行い、一方、カセット内への処理済
み基板の収納は処理済み基板収納用搬送手段によって行
うことができる。
【０００９】請求項２に係る発明の基板搬送装置の構成
によれば、同一の移動台の移動により、基板取り出し用
搬送機構によるカセット内の基板の取り出しと、処理済
み基板収納用搬送機構による処理済み基板のカセット内
への収納とを行うことができる。
【００１０】請求項３に係る発明の基板搬送装置の構成
によれば、同一の移動台がカセットと基板洗浄処理部側
とにわたって移動する。この移動に加えて、基板取り出
し用アームの基板支持面を、処理済み基板収納用アーム
の基板支持面よりも上方にする基板取り出し用アーム作
用位置にすることにより、洗浄処理前の基板の下面が、
処理済み基板収納用アームの基板支持面に接触して処理
済み基板収納用アームの基板支持面を汚染する事態を生
じることなく、基板取り出し用アームが洗浄処理前の基
板をカセット内から取り出す。
【００１１】一方、処理済み基板収納用アームの基板支
持面が、基板取り出し用アームの基板支持面より相対的
に上方となる処理済み基板収納用アーム作用位置にて、
移動台を移動することにより、基板取り出し用アームの
基板支持面に洗浄処理済みの基板の下面が接触して洗浄
処理済みの基板が汚染される事態を生じることなく、処
理済み基板収納用アームが、洗浄処理済みの基板をカセ
ット内に収納することができる。
【００１２】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
【００１３】＜第１実施例＞図１は本発明の第１実施例
に係る基板搬送装置が使用された基板洗浄装置の概略構
成を示す斜視図である。
【００１４】この基板洗浄装置は、シリコンウエハなど
の半導体基板（以下、単に基板という）Ｗの表裏両面を
洗浄処理するとともに乾燥処理するための装置であり、
大きく分けて、未処理基板や処理済み基板を保管する部
分（以下、インデクサーモジュールと称する）１と、基
板Ｗを洗浄処理する基板洗浄処理部２とから構成されて
いる。
【００１５】インデクサーモジュール１は、固定の基台
３上に一列状態に載置された４個のカセットＣ…と、そ
れらのカセットＣ…と所定の基板受渡し位置Ｐとの間で
基板Ｗを搬送するインデクサー搬送ユニット４とを設け
て構成されている。前記カセットＣ…それぞれ内には、
基板Ｗを多段に収納できるようになっている。
【００１６】基板洗浄処理部２は、基板Ｗの表裏両面を
純水の供給と洗浄ブラシ（図示せず）とによって洗浄す
るとともに回転によって水分を振り切り乾燥するスピン
ナーユニット５ａ，５ｂと、基板Ｗを表裏反転する基板
反転ユニット６と、振り切り乾燥後の基板Ｗの表面の水
分子を蒸発するための熱処理ユニット６ａ，６ｂと、前
述した所定の基板受渡し位置Ｐと各ユニット５ａ，５
ｂ，６，６ａ，６ｂとの間で基板Ｗを搬送するプロセス
搬送ユニット７とを設けて構成されている。プロセス搬
送ユニット７は、基板Ｗの周縁を保持するＵの字状の基
板支持アーム８を鉛直軸芯周りで旋回可能に設けて構成
されている。
【００１７】インデクサー搬送ユニット４は、図２の一
部省略分解斜視図、図３の要部の背面図、および、図４
の要部の平面図それぞれに示すように、支持台９上に設
けられた位置整合機構１０と、本発明の対象である真空
吸着式基板搬送装置１１とを設けて構成されている。
【００１８】支持台９は、カセットＣ…の並設方向に平
行に設けられた一対の第１のガイド１２，１２に外嵌さ
れるとともに、正逆転可能な電動モータ（図示せず）に
よって駆動回転される第１のネジ軸１３に螺合され、支
持台９をカセットＣ…の並設方向に往復移動するととも
に、所定のカセットＣの前ならびに前述した基板受渡し
位置Ｐそれぞれにおいて停止できるように構成されてい
る。
【００１９】支持台９に門型フレーム１４が設けられる
とともに、その門型フレーム１４に一対の第２のガイド
１５，１５が設けられ、その第２のガイド１５，１５に
昇降支持台１６が外嵌されるとともに、昇降支持台１６
に第２のネジ軸１７が螺合されている。第２のネジ軸１
７の上端に第１のベルト式伝動機構１８を介して正逆転
可能な第１の電動モータ１９が連動連結され、所定のカ
セットＣに対応させた状態で昇降支持台１６を駆動昇降
できるように構成されている。
【００２０】昇降支持台１６に取り付けられた昇降台１
６ａ上には、カセットＣ…の並設方向に直交する水平方
向に第３のガイド２０が設けられ、また、第１のプーリ
ー２１と第２のプーリー２２とにわたってベルト２３が
巻回されるとともに、第１のプーリー２２と正逆転可能
な第２の電動モータ２４とが第２のベルト式伝動機構２
５を介して連動連結され、かつ、ベルト２３に一体的に
移動台２６が取り付けられるとともにその移動台２６が
第３のガイド２０に外嵌され、後述する基板取り出し用
アーム３２および処理済み基板収納用アーム３３をカセ
ットＣに遠近する方向に駆動移動して、基板Ｗをカセッ
トＣ内から取り出したり、あるいは、カセットＣ内に収
納したりできるように構成されている。
【００２１】位置整合機構１０は、昇降可能で上昇によ
り基板Ｗの下向き面を載置支持する３本の支持ピン２７
…と、基板Ｗの外周縁に当接して位置決めを行う８本の
突起２８…とから構成されている。突起２８…のうちの
４本が第１の整合板２９ａに設けられるとともに、他方
の４本が第２の整合板２９ｂに設けられ、第１の整合板
２９ａと第２の整合板２９ｂとが、支持ピン２７…の昇
降に連動して互いに遠近する方向に変位するように設け
られ、基板取り出し用アーム３２に保持された基板Ｗを
支持ピン２７…上に載置支持した後、あるいは、ピン２
７…上に載置支持された処理済み基板Ｗを処理済み基板
収納用アーム３３へ移動する前に、所定位置まで下降し
てから、第１および第２の整合板２９ａ，２９ｂを互い
に接近する側に変位して基板Ｗの外周縁に突起２８…を
当接し、基板Ｗを所定姿勢に載置支持するように構成さ
れている。
【００２２】基板取り出し用アーム３２および処理済み
基板収納用アーム３３は、図５の要部の側面図に示すよ
うに、移動台２６上に第１の支柱３０と第２の支柱３１
とを立設し、第１の支柱３０の上端に薄肉で中空状の基
板取り出し用アーム３２を一体的に取り付けるととも
に、第２の支柱３１の上端に薄肉で中空状の処理済み基
板収納用アーム３３を設けて構成されている。
【００２３】第２の支柱３１は、移動台２６側の下側支
柱３１ａと先端側の上側支柱３１ｂとに上下二分割さ
れ、上側支柱３１ｂが昇降可能に設けられるとともに、
上側支柱３１ｂと下側支柱３１ａとの間に単動式のエア
シリンダ３４が介装され、エアシリンダ３４からのエア
ー排気によって処理済み基板収納用アーム３３の載置保
持面を基板取り出し用アーム３２の載置保持面より下方
に（例えば、約 0.5mm）引退した非作用位置に変位さ
せ、一方、エアシリンダ３４へのエアー供給によって処
理済み基板収納用アーム３３の載置保持面を基板取り出
し用アーム３２の載置保持面より上方に（例えば、約
0.5mm）突出した作用位置に変位するように構成されて
いる。
【００２４】図５において、３５は、上側支柱３１ｂの
下降位置を当接によって規制するストッパーを示してい
る。上昇位置の規制はエアシリンダ３４のストロークエ
ンドによって行っている。
【００２５】基板取り出し用アーム３２の載置保持面の
先端側には、図６の平面図に示すように、凹部３６が形
成され、一方、処理済み基板収納用アーム３３の載置保
持面の先端側には、前記凹部３６内に入り込む凸部３７
が形成され、両アーム３２，３３それぞれの基板Ｗに対
する載置面積が互いに等しくなるとともに中心に近い箇
所で基板Ｗを載置できるようになっている。
【００２６】基板取り出し用アーム３２および処理済み
基板収納用アーム３３それぞれの載置保持面の途中箇所
には吸着孔３８，３９が形成され、その吸着孔３８，３
９と図外のコンプレッサーとが、第１および第２の支柱
３０，３１それぞれに形成した通気孔４０と制御弁４１
とエアー配管４２を介して接続され、エアシリンダ３４
の伸縮動作に連動して制御弁４１を切換え、載置保持面
が上方側に位置するアーム３２または３３の吸着孔３８
または３９のいずれか一方に対してのみエアーを吸引す
るようになっている。
【００２７】以上の構成により、先ず、カセットＣ内か
ら基板Ｗを取り出すときには、支持台９を所定のカセッ
トＣの前まで移動して停止するとともに昇降台１６ａを
上昇して、両アーム３２，３３を取り出そうとする基板
Ｗのやや下方に位置させ、図７の（ａ）の要部の断面図
に示すように、基板取り出し用アーム３２の載置保持面
を、処理済み基板収納用アーム３３の載置保持面を下降
させてこれより相対的に上方に位置させた状態で移動台
２６をカセットＣ側に移動して両アーム３２，３３をカ
セットＣ内に進入するとともに、昇降台１６ａを少し上
昇させてカセットＣ内での基板Ｗを下からすくい上げる
ようにして移載し、基板取り出し用アーム３２の載置保
持面に吸着保持してから移動台２６をカセットＣの外方
に水平移動して基板Ｗを取り出す。
【００２８】基板Ｗを取り出した後には、昇降台１６ａ
を下降して支持ピン２７…に受け渡し、その支持ピン２
７…を所定位置まで下降するとともに位置整合機構１０
により位置合わせを行った後、支持台９を移動して基板
受渡し位置Ｐまで移動し、支持ピン２７…を所定位置ま
で上昇させてからプロセス搬送ユニット７に受け渡し、
基板洗浄処理部２において、基板Ｗの表裏両面を洗浄処
理するとともに乾燥処理する。
【００２９】洗浄処理された処理済み基板Ｗは、プロセ
ス搬送ユニット７によって基板受渡し位置Ｐまで搬送
し、その処理済み基板Ｗを支持ピン２７…に受け渡し、
その支持ピン２７…を所定位置まで下降するとともに位
置整合機構１０により位置合わせを行った後、支持台９
を移動して所定のカセットＣの前まで移動する。その
後、図７の（ｂ）の要部の断面図に示すように、処理済
み基板収納用アーム３３の載置保持面を基板取り出し用
アーム３２の載置保持面より上方に位置させた状態で昇
降台１６ａを上昇し、処理済み基板Ｗを処理済み基板収
納用アーム３３の載置保持面に吸着保持するとともに所
定の高さまで上昇させてから、移動台２６をカセットＣ
側に移動して両アーム３２，３３をカセットＣ内に進入
するとともに、所定位置まで進入した後に昇降台１６ａ
を下降して基板Ｗの吸着保持を解除することによりカセ
ットＣ内側に基板Ｗを受け渡し、その後に基板Ｗの吸着
保持を解除した状態で移動台２６をカセットＣの外方に
移動して基板ＷのカセットＣ内への収納を終了する。こ
れらの動作により、処理済み基板Ｗを、処理前の基板の
下向面に付着のパーティクルが再付着することで汚染さ
れること無くカセットＣ内に搬送収納できる。
【００３０】前記移動台２６が、特許請求の範囲の請求
項３で言うところの、カセットと基板洗浄部側とにわた
って移動する移動台に相当し、前記基板取り出し用アー
ム３２が、特許請求の範囲の請求項３で言うところの、
カセットから基板を取り出す基板取り出し用アームに相
当し、前記処理済み基板収納用アーム３３が、特許請求
の範囲の請求項３で言うところの、処理済み基板をカセ
ットに搬送収納する処理済み基板収納用アームに相当す
る。
【００３１】＜第２実施例＞図８は第２実施例の要部の
側面図、図９は要部の平面図、図１０は基板載置状態を
示す要部の側面図であり、移動台２６に立設した支柱５
１の上端にブラケット５２が取り付けられ、そのブラケ
ット５２に、移動台２６の移動方向と平行な水平方向の
軸芯周りで回転可能に支軸５３が設けられるとともに、
上面が第１の平滑面Ｆ１と第２の平滑面Ｆ２とから成る
山形状の板状アーム５４が支軸５３に一体的に取り付け
られている。
【００３２】板状アーム５４内は、第１および第２の平
滑面Ｆ１，Ｆ２それぞれの下方に対応する空間に仕切ら
れるとともに、その途中箇所に各空間それぞれに連通す
る吸着孔５５，５６が形成され、各空間それぞれと支柱
５１に形成された通気孔５７，５７それぞれとがフレキ
シブルチューブ５８を介して接続されている。
【００３３】ブラケット５２にはエアーアクチュエータ
５９が取り付けられるとともに、そのエアーアクチュエ
ータ５９と支軸５３とが連動連結され、支軸５３を所定
角度回転することにより、カセットＣから基板Ｗを取り
出すときには、図１０の（ａ）に示すように、第１の平
滑面Ｆ１を水平姿勢にし、一方、処理済み基板Ｗをカセ
ットＣに搬送収納するときには、図１０の（ｂ）に示す
ように、第２の平滑面Ｆ２を水平姿勢にし、洗浄処理後
の処理済み基板Ｗを再汚染すること無くカセットＣ内に
搬送収納できるように構成されている。
【００３４】前記第１の平滑面Ｆ１が、特許請求の範囲
の請求項２で言うところの、カセットＣから基板Ｗを取
り出す基板取り出し用搬送機構に相当し、そして、第２
の平滑面Ｆ２が、処理済み基板ＷをカセットＣに搬送収
納する処理済み基板収納用搬送機構に相当する。
【００３５】＜第３実施例＞図１１は、第３実施例の要
部の斜視図であり、昇降支持台６１に設けられた昇降台
６１ａ上に、ガイド６２と正逆転可能なベルト６３とを
介してカセットＣと遠近する方向に移動可能に移動台６
４が設けられ、その移動台６４に立設した支柱６５の上
端に、上面が第１の平滑面Ｆ１と第２の平滑面Ｆ２とか
ら成る山形状の板状アーム６６が一体的に取り付けられ
ている。
【００３６】板状アーム６６内は、第１および第２の平
滑面Ｆ１，Ｆ２それぞれの下方に対応する空間に仕切ら
れるとともに、その途中箇所に各空間それぞれに連通す
る吸着孔６７，６８が形成され、各空間それぞれと支柱
６５に形成された通気孔（図示せず）それぞれとが接続
されている。
【００３７】昇降支持台６１に昇降台６１ａが、移動台
６４の移動方向と平行な水平方向の軸芯周りで回転可能
に取り付けられるとともに、昇降支持台６１と昇降台６
１ａとの間にエアシリンダ６９が介装され、昇降台６１
ａを所定角度回転することにより、カセットＣから基板
Ｗを取り出すときには第１の平滑面Ｆ１を水平姿勢に
し、一方、処理済み基板ＷをカセットＣに搬送収納する
ときには第２の平滑面Ｆ２を水平姿勢にし、洗浄処理後
の処理済み基板Ｗを再汚染すること無くカセットＣ内に
搬送収納できるように構成されている。
【００３８】この第３実施例においても第２実施例と同
様に、前記第１の平滑面Ｆ１が、特許請求の範囲の請求
項２で言うところの、カセットＣから基板Ｗを取り出す
基板取り出し用搬送機構に相当し、そして、第２の平滑
面Ｆ２が、処理済み基板ＷをカセットＣに搬送収納する
処理済み基板収納用搬送機構に相当する。
【００３９】＜第４実施例＞図１２は、第４実施例の要
部の一部切欠側面図、図１３は、図１２のＡ−Ａ線断面
図であり、支柱７１の上端にブラケット７２が取り付け
られ、そのブラケット７２に、上下面を第１および第２
の平滑面Ｆ１１，Ｆ１２にするとともに基端部を有底状
の筒軸７３ａで構成した中空状の吸着アーム７３が、移
動台の移動方向と平行な軸芯周りで回転可能に取り付け
られ、かつ、筒軸７３ａに電動モータ７４が連動連結さ
れている。
【００４０】吸着アーム７３内は、第１および第２の平
滑面Ｆ１１，Ｆ１２間の中央箇所で二つの空間に仕切ら
れるとともに、第１および第２の平滑面Ｆ１１，Ｆ１２
それぞれの長手方向途中箇所に、それぞれの空間と連通
する吸着孔７５，７６が形成され、そして、筒軸７３ａ
内の各空間それぞれと支柱７１に形成した通気孔（図示
せず）とが、エアー配管７７とロータリージョイント７
８とを介して択一的に接続するように構成されている。
【００４１】この構成により、カセットＣから基板Ｗを
取り出すときには第１の平滑面Ｆ１１を上向き姿勢に
し、一方、処理済み基板ＷをカセットＣに搬送収納する
ときには、吸着アーム７３を 180°回転して第２の平滑
面Ｆ１２を上向き姿勢にし、洗浄処理後の処理済み基板
Ｗを再汚染すること無くカセットＣ内に搬送収納できる
ように構成されている。
【００４２】この第４実施例において、前記第１の平滑
面Ｆ１１が、特許請求の範囲の請求項２で言うところ
の、カセットＣから基板Ｗを取り出す基板取り出し用搬
送機構に相当し、そして、第２の平滑面Ｆ１２が、処理
済み基板ＷをカセットＣに搬送収納する処理済み基板収
納用搬送機構に相当する。
【００４３】＜第５実施例＞図１４は、第５実施例の要
部の一部切欠側面図であり、支柱８１の上端に、上面を
平滑面にしたＴ字状の吸着アーム８２が、鉛直方向の軸
芯周りで回転可能に設けられるとともに、その吸着アー
ム８２に電動モータ８３が連動連結されている。
【００４４】吸着アーム８２は、回転軸芯部分を境界に
した中空状の左右の第１および第２のアーム部分８２
ａ，８２ｂと、電動モータ８３に連動連結する有底状の
筒軸部分８２ｃとから構成され、かつ、筒軸部分８２ｃ
を中央で第１のアーム部分８２ａ側と第２のアーム部分
８２ｂ側とに二分割する状態で二つの空間に仕切られる
とともに、左右の第１および第２のアーム部分８２ａ，
８２ｂそれぞれの長手方向途中箇所に、それぞれの空間
と連通する吸着孔８４，８５が形成され、そして、筒軸
部分８２ｃの各空間それぞれと支柱８１に形成した通気
孔（図示せず）とが、エアー配管８６とロータリージョ
イント８７とを介して択一的に接続するように構成され
ている。
【００４５】この構成により、カセットＣから基板Ｗを
取り出すときには第１のアーム部分８２ａをカセットＣ
側を向いた姿勢にし、一方、処理済み基板Ｗをカセット
Ｃに搬送収納するときには、吸着アーム８２を 180°回
転して第２のアーム部分８２ｂをカセットＣ側を向いた
姿勢にし、洗浄処理後の処理済み基板Ｗを再汚染するこ
と無くカセットＣ内に搬送収納できるように構成されて
いる。
【００４６】この第５実施例において、前記第１のアー
ム部分８２ａが、特許請求の範囲の請求項２で言うとこ
ろの、カセットＣから基板Ｗを取り出す基板取り出し用
搬送機構に相当し、そして、第２のアーム部分８２ｂ
が、処理済み基板ＷをカセットＣに搬送収納する処理済
み基板収納用搬送機構に相当する。
【００４７】＜第６実施例＞図１５は、第６実施例の要
部の一部切欠側面図、図１６は、図１５のＢ−Ｂ線矢視
図であり、支柱９１の上端にブラケット９２が取り付け
られ、そのブラケット９２に、一方の面を平滑面にした
第１および第２のアーム部分９３ａ，９３ｂと基端部を
有底状の筒軸９３ｃとで構成した中空状のＬ字状の吸着
アーム９３が、移動台の移動方向に直交する水平方向の
軸芯周りで回転可能に取り付けられ、かつ、筒軸９３ｃ
に電動モータ９４が連動連結されている。
【００４８】吸着アーム９３内は、筒軸９３ｃを中央で
第１のアーム部分９３ａ側と第２のアーム部分９３ｂ側
とに二分割する状態で二つの空間に仕切られるととも
に、左右の第１および第２のアーム部分９３ａ，９３ｂ
それぞれの長手方向途中箇所に、それぞれの空間と連通
する吸着孔９５，９６が形成され、そして、筒軸９３ｃ
の各空間それぞれと支柱９１に形成した通気孔（図示せ
ず）とがロータリージョイント９７を介して択一的に接
続するように構成されている。
【００４９】この構成により、カセットＣから基板Ｗを
取り出すときには第１のアーム部分９３ａをカセットＣ
側を向いた姿勢にし、一方、処理済み基板Ｗをカセット
Ｃに搬送収納するときには、吸着アーム９３を90°回転
して第２のアーム部分９３ｂをカセットＣ側を向いた姿
勢にし、洗浄処理後の処理済み基板Ｗを再汚染すること
無くカセットＣ内に搬送収納できるように構成されてい
る。
【００５０】この第６実施例において、前記第１のアー
ム部分９３ａが、特許請求の範囲の請求項２で言うとこ
ろの、カセットＣから基板Ｗを取り出す基板取り出し用
搬送機構に相当し、そして、第２のアーム部分９３ｂ
が、処理済み基板ＷをカセットＣに搬送収納する処理済
み基板収納用搬送機構に相当する。
【００５１】＜第７実施例＞図１７は、第７実施例に係
る基板搬送装置が使用された基板洗浄装置の概略構成を
示す斜視図である。先の実施例では、基板取り出し用ア
ーム３２と基板収納用アーム３３のいずれをも同一の移
動台２６に設けているが、第７実施例では、前記第１実
施例における移動台２６、および、それを組み付けて支
持している各構成要素（例えば、支持台９や昇降支持台
１６他）から成る搬送手段をもう一つ設け、一方に基板
取り出し用アーム３２を組み付けてカセットＣから基板
を取り出す基板取り出し用搬送手段１００を構成し、も
う一方には処理済み基板収容アーム３３を組み付けて基
板収納用搬送手段１０１を構成し、基板取り出し用と処
理済み基板収納用とで、各々専用の搬送手段を備える。
この第７実施例ににおいて、基板取り出し用搬送手段１
００が、特許請求の範囲の請求項１で言うところの基板
取り出し用搬送手段に相当し、処理済み基板収納用搬送
手段１０１が、処理済み基板収納用搬送手段に相当す
る。
【００５２】また、本発明としては、次のように構成す
ることが可能である。 第１実施例では、固定の基台３上に４個のカセット
Ｃを並設しているが、カセットＣの数は１個、２個、３
個、あるい５個以上であってもよい。 第１実施例において、カセットＣを固定の基台３上
に設け、一方、移動台２６を昇降台１６ａに設け、移動
台２６を昇降して多段に収納されたカセットＣ…のうち
の所定の高さのものを取り出すようにしているが、移動
台２６を昇降させずに、カセットＣ側を昇降するように
しても良い。 搬送対象となる基板としては、実施例のような半導
体基板に限らず、例えば、液晶表示器用のガラス基板な
ど、種々の基板を対象とすることができる。
【００５３】
【発明の効果】請求項１に係る発明の基板搬送装置によ
れば、カセット内への処理済み基板の搬送収納に、カセ
ット内からの基板の取り出し時に用いた搬送手段を使用
しないから、基板の再汚染を確実に回避でき、処理済み
基板の品質を向上できるようになった。
【００５４】請求項２に係る発明の基板搬送装置によれ
ば、基板取り出し用搬送機構と処理済み基板収納用搬送
機構とを同一の移動台に設けるから、カセットに対する
基板の取り出しおよび収納のための移動構成を兼用で
き、それぞれ個別の移動台に設ける場合に比べ、基板の
再汚染を回避するための搬送構成を簡単にできるように
なった。
【００５５】請求項３に係る発明の基板搬送装置によれ
ば、基板取り出し用アームと処理済み基板収納用アーム
とを同一の移動台に設けて、カセットに対する基板の取
り出しおよび収納のための移動構成を兼用するのみなら
ず、両アームの載置保持面を相対的に昇降することによ
り、基板の取り出しおよび収納を択一的に行うから、両
アームの載置保持面の相対的な上下関係を微小量変更す
るだけで済み、再汚染を回避するための搬送構成を簡単
かつコンパクトにできるようになった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例に係る基板搬送装置が使用
された半導体製造装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】一部省略分解斜視図である。
【図３】要部の背面図である。
【図４】要部の平面図である。
【図５】要部の側面図である。
【図６】平面図である。
【図７】要部の断面図である。
【図８】第２実施例の要部の側面図である。
【図９】要部の平面図である。
【図１０】基板載置状態を示す要部の側面図である。
【図１１】第３実施例の要部の斜視図である。
【図１２】第４実施例の要部の一部切欠側面図である。
【図１３】図１２のＡ−Ａ線断面図である。
【図１４】第５実施例の要部の一部切欠側面図である。
【図１５】第６実施例の要部の一部切欠側面図である。
【図１６】図１５のＢ−Ｂ線矢視図である。
【図１７】第７実施例に係る基板搬送装置が使用された
基板洗浄装置の概略構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
２…基板洗浄処理部 ２６…移動台 ３２…基板取り出し用アーム ３３…処理済み基板収納用アーム Ｃ…カセット Ｗ…基板

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基台上に載置された状態で基板を多段に
    収納するカセットと、前記基板を洗浄処理する基板洗浄
    処理部との間で、真空吸着により載置保持して前記カセ
    ット内の基板を取り出して前記基板洗浄処理部に搬送す
    るとともに前記基板洗浄処理部で洗浄処理した後の処理
    済み基板を搬送して前記カセット内に収納する基板搬送
    装置において、 前記基板洗浄処理部への搬送のために前記カセットから
    前記基板を取り出す基板取り出し用搬送機構と、前記処
    理済み基板を前記カセットに搬送収納する処理済み基板
    収納用搬送機構とをそれぞれ専用に設けたことを特徴と
    する基板搬送装置。
  2. 【請求項２】 基台上に載置された状態で基板を多段に
    収納するカセットと、前記基板を洗浄処理する基板洗浄
    処理部との間で、真空吸着により載置保持して前記カセ
    ット内の基板を取り出して前記基板洗浄処理部に搬送す
    るとともに前記基板洗浄処理部で洗浄処理した後の処理
    済み基板を搬送して前記カセット内に収納する基板搬送
    装置において、 前記カセットと前記基板洗浄処理部側とにわたって移動
    する移動台に、前記カセットから前記基板を取り出す基
    板取り出し用搬送手段と、前記処理済み基板を前記カセ
    ットに搬送収納する処理済み基板収納用搬送手段とを設
    けたことを特徴とする基板搬送装置。
  3. 【請求項３】 基台上に載置された状態で基板を多段に
    収納するカセットと、前記基板を洗浄処理する基板洗浄
    処理部との間で、真空吸着により載置保持して前記カセ
    ット内の基板を取り出して前記基板洗浄処理部に搬送す
    るとともに前記基板洗浄処理部で洗浄処理した後の処理
    済み基板を搬送して前記カセット内に収納する基板搬送
    装置において、 前記カセットと前記基板洗浄処理部側とにわたって移動
    する移動台に、前記カセットから前記基板を取り出す基
    板取り出し用アームと、前記処理済み基板をカセットに
    搬送収納する処理済み基板収納用アームとを設けるとと
    もに、基板取り出し用アームの基板支持面が処理済み基
    板収納用アームの基板支持面より上方である基板取り出
    し用アーム作用位置と、前記処理済み基板収納用アーム
    の基板支持面が基板取り出し用アームの基板支持面より
    上方である処理済み基板収納用アーム作用位置とに、前
    記両アーム間を相対的に昇降変位可能に構成したことを
    特徴とする基板搬送装置。
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