JPH05149591A - 半導体デバイスを製造するための製造設備及びクリーンルーム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 クリーンルームのある作業室内に汚染源があ
る場合でも、汚染物質がクリーンルーム内全体に拡散し
て不良品発生の原因となることを防止する。 【構成】 クリーンルーム１０内の汚染源領域４５を仕
切壁１８によって他の領域から区画する。すなわち、非
汚染領域４７の空気循環系にかかわるサプライチャンバ
１２ａ、作業室１４ａ、リターンチャンバ１６ａ、空気
循環装置２８ａと汚染源領域４５の空気循環系にかかる
サプライチャンバ１２ｂ、作業室１４ｂ、リターンチャ
ンバ１６ｂ、空気循環装置２８ｂとを仕切壁１８によっ
て分離しそれぞれの空気循環を独立の系とする。 【効果】 汚染物質がクリーンルームの作業室内で拡散
するのを防止するだけでなく、空気循環系において拡散
することも防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はたとえば半導体デバイス
等、その製造工程において、塵埃の存在を極度に嫌うた
めに、塵埃を濾過された空気中で作業を行う必要のある
デバイス、機器の製造、研究等に用いる設備、いわゆる
クリーンルームに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程のように、製
品への不純物の混入を防ぐため特に清浄な環境が要求さ
れる場合には、空気中の塵埃を濾過する設備を持った製
造設備、いわゆるクリーンルームが広く用いられてい
る。

【０００３】上記のようなクリーンルームの例としては
特開平３−１７７７３２号公報に記載されているものが
ある。この公報に掲載の例によれば、クリーンルームの
各作業室の天井にフィルターを設けて空気中の塵埃を濾
過する構造を持つ。各フィルターは、それぞれ送風ファ
ンを一体化して備え、作業室の天井の上方にあるサプラ
イチャンバから各作業室内に天井に取付けられた送風フ
ァンつきフィルターを通して一様な風速の清浄な空気が
送り込まれる。空気はクリーンルームの各作業室内を上
から下に一様に流れ、床部にあるグレーチングを通って
床下にあるリターンチャンバに入る。リターンチャンバ
に入った空気は、作業室の隣室に設けられた循環用ダク
トを介してサプライチャンバへ戻されることにより循環
使用される。そして、この構造により、クリーンルーム
の各作業室内で発生した塵埃は、各作業室内を拡散する
ことなく気流に乗って床部から作業室の外へ排出され
る。空気が循環使用される際、その中に含まれる塵埃は
天井のフィルターにより除去されるので、各作業室内の
空気は清浄に保たれる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、クリーンル
ームの作業室内においては、汚染源となる装置を使用す
る場合が多い。汚染物質としては粒子、イオン等があ
る。例えば、半導体製造においてシリコンウェハに燐を
拡散するためのリン拡散装置においては、液体のＰＯＣ
ｌ₃ をＮ₂ ガスでバブリング（ｂｕｂｂｌｉｎｇ）し、
反応管に導入するが、この装置からクリーンルームの作
業室内にＰ₂ Ｏ₅ のミスト（ｍｉｓｔ）がもれる可能性
がある。これは、ＰＳＧ（Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ Ｓｉ
ｌｉｃａｔｅｄ Ｇｌａｓｓ）やＢＰＳＧ（Ｂｏｒｏｎ
Ｐｈｏｓｐｈｏｒｕｓ Ｓｉｌｉｃａｔｅｄ Ｇｌａ
ｓｓ）のような常圧ＣＶＤ装置についても同様に可能性
がある。また、ウェハ洗浄工程のようなウエット処理か
らは、硫酸（Ｈ₂ ＳＯ₄ ）、塩酸（ＨＣｌ）、フッ化水
素（ＨＦ）、アンモニア（ＮＨ₄ ＯＨ）等の薬品ミスト
が発生する。さらに、クリーンルームの空気循環系に付
属するロータリーポンプからはオイルミストが発生し、
クリーンルームの空気中に混入するおそれがある。

【０００５】このような汚染物質がシリコンウェハに付
着し、そのままウェハを熱処理するとウェハ内に不純物
として拡散し、半導体に種々に不良を発生させる原因と
なる。また、ＨＦはヘパ（ＨＥＰＡ−Ｈｉｇｈ Ｅｆｆ
ｉｃｉｅｎｃｙ Ｐａｔｉｃｕｌａｔｅ Ａｉｒ）フィ
ルターやウルパ（ＵＬＰＡ−Ｕｌｔｒａ Ｌａｗ Ｐｅ
ｎｅｔｒａｔｉｏｎ Ａｉｒ）フィルターに付着すると
フィルターを溶かし、そこからナトリウム（Ｎａ）やボ
ロン（Ｂ）が発生する。オイルミストもヘパフィルター
に付着すると気体状の種々の物質が発生することとなっ
て、これらが半導体に不純物として含まれる恐れがあ
る。

【０００６】このような汚染発生源となる装置をクリー
ンルーム外へ出してしまうことが可能であれば問題ない
が、これらの装置も半導体の製造工程において必要であ
る限り、そのような解決主段は採れない。そのため、汚
染源がクリーンルーム内に存在するということを前提と
して、汚染源が製品に影響を与えることを防がなければ
ならない。

【０００７】塵埃はヘパフィルターやウルパフィルター
などの塵埃除去フィルターで除去することができるた
め、これらのフィルターを経てクリーンルーム内に導入
されてからルーム外へ排出されるまでの一回の流れにつ
いて塵埃が拡散しないようにすれば足りる。ところが、
前述の汚染物質は気体として空気中に混入するため、ヘ
パフィルターなどでは除去することはできず、逆にＨＦ
のようにヘパフィルターなどから汚染物質を発生するこ
とさえあるのだから、単に空気を循環させても意味がな
い。むしろ空気循環系において混合され循環されること
により、クリーンルーム全体に汚染物質が拡散してしま
うおそれがある。

【０００８】また、これらの汚染物質は極めて微量であ
るため、循環の途中で除去することはどでは除去するこ
とはできず、逆にＨＦのようにヘパフィルターなどから
汚染物質を発生することさえあるのだから、単に空気を
循環させても意味がない。むしろ空気循環系において混
合され循環されることにより、クリーンルーム全体に汚
染物質が拡散してしまうおそれがある。

【０００９】また、これらの汚染物質は極めて微量であ
るため、循環の途中で除去することは難しく、コスト的
にも不可能である。

【００１０】本発明は、このような汚染物質が全体に拡
散することを防止することができるクリーンルームを提
供することを目的とするものである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、半導体デバイスを製造するための製造設
備は、塵埃を濾過された清浄な空気を一時蓄えるための
サプライチャンバと、このサプライチャンバの下部にあ
って、サプライチャンバから供給される上記清浄な空気
の中で作業をするための作業室と、この作業室の下部に
あって、作業室から排出された空気を一時蓄えるための
リターンチャンバと、このリターンチャンバに蓄えられ
た空気を上記サプライチャンバに向けて循環させるため
の空気循環系と、この空気循環系、上記リターンチャン
バ、上記作業室、及び上記サプライチャンバのそれぞれ
を双方間での空気の出入りを遮断された少なくとも２つ
の領域に分離するための空気遮断部とを備えて構成し
た。また、上記空気循環系は空気を上記リターンチャン
バから上記サプライチャンバに向けて送るための送風フ
ァンを更に備えている。上記空気循環系は上記送風ファ
ンと上記サプライチャンバとの間に上記送風ファンで送
風される空気の塵埃を濾過するフィルタを更に備えてい
る。上記空気循環系と、上記リターンチャンバ、上記作
業室、及び上記サプライチャンバとの双方間の振動の伝
達を防ぐための防振絶縁部を更に備えている。上記サプ
ライチャンバと上記作業室との間に上記サプライチャン
バから上記作業室に入る空気の塵埃を濾過するためのフ
ィルタを更に備えている。上記フィルタはＨＥＰＡフィ
ルタを含む。上記フィルタはＵＬＰＡフィルタを含む。
上記空気循環系は上記リターンチャンバからの空気の一
部を外部に放出するための排気ダクトを更に備えてい
る。上記空気循環系は上記サプライチャンバに外気を供
給するための供給ダクトを更に備えている。上記供給ダ
クトは上記サプライチャンバに供給する空気の塵埃及び
特定のガスを濾過、及び温度を調整するための空調装置
を更に備えている。上記空気循環系は上記リターンチャ
ンバからの空気の一部を上記空調装置に循環させる第２
の循環ダクトを更に備えている。

【００１２】さらに、本発明は、上記目的を達成するた
めにクリーンルームは、塵埃を濾過された清浄な空気を
一時蓄えるためのサプライチャンバと、このサプライチ
ャンバの下部にあって、サプライチャンバから供給され
る上記清浄な空気の中で作業をするための作業室と、こ
の作業室の下部にあって、作業室から排出された空気を
一時蓄えるためのリターンチャンバと、このリターンチ
ャンバに蓄えられた空気を上記サプライチャンバに向け
て循環させるための空気循環系とを有するものにおい
て、上記空気循環系、上記リターンチャンバ、上記作業
室、及び上記サプライチャンバのそれぞれを双方間での
空気の出入りを遮断された少なくとも２つの領域に分離
するための空気遮断部を備えて構成した。

【００１３】さらに、本発明は、上記目的を達成するた
めに、外界の空気中の塵を濾過するための濾過装置を備
え、この濾過装置で濾過した空気中で作業するための設
備を備えたクリーンルームは、外界からの直接の空気の
流入を遮断された少なくとも２個の部屋を有する１つの
建物と、この建物の上記２つの部屋間の空気の直接の入
出を絶つための隔離部材と、上記２つの部屋それぞれの
ために独立に備えた空気循環系とを備えて構成した。ま
た、上記２つの部屋のうちの１つの部屋は他の部屋の雰
囲気中では取り扱えない材料を使用する設備を更に備え
ている。上記２つの部屋のうちの１つの部屋は燐、ボロ
ンまたはフッ化水素酸のいずれか１つを含有する材料を
使用する設備を有する。上記２つの部屋はそれぞれ塵埃
を濾過された清浄な空気を一時蓄えるためのサプライチ
ャンバと、このサプライチャンバの下部にあって、サプ
ライチャンバから供給される上記清浄な空気の中で作業
をするための作業室と、この作業室の下部にあって、作
業室から排出された空気を一時蓄えるためのリターンチ
ャンバとを更に有する。上記作業室と上記リターンチェ
ンバとの間に上記作業室から上記リターンチェンバへの
空気の流れを円滑にするためのグレーチングを更に有す
る。上記サプライチャンバと上記作業室との間に上記サ
プライチャンバから上記作業室に入る空気の塵埃を濾過
するためのフィルタを更に備えている。上記フィルタは
ＨＥＰＡフィルタを含む。上記フィルタはＵＬＰＡフィ
ルタを含む。

【００１４】

【作用】本発明は、上記構成により以下のように作用す
る。この半導体デバイスの製造設備は、塵埃を濾過され
た清浄な空気をサプライチャンバに一時蓄え、このサプ
ライチャンバの下部には作業室を備え、作業室ではサプ
ライチャンバから供給される上記清浄な空気の中で作業
をする。この作業室の下部にはリターンチャンバがあっ
て、作業室から排出された空気を一時蓄える。このリタ
ーンチャンバに蓄えられた空気は、空気循環系によって
上記サプライチャンバに向けて循環させられる。そし
て、本発明は、この空気循環系、上記リターンチャン
バ、上記作業室、及び上記サプライチャンバのそれぞれ
を少なくとも２つの領域に分離するための空気遮断部を
備え、双方間での空気の出入りを遮断することにより、
クリーンルーム内の汚染源領域を他の領域から区画し、
クリーンルーム内における汚染物質の拡散を防止すると
ともに、空気循環過程において汚染物質が拡散すること
をも防止している。

【００１５】また、上記空気循環系は空気を上記リター
ンチャンバから上記サプライチャンバに向けて送るため
の送風ファンを更に備えて強制適に所定方向の空気の流
れを作ることにより、空気の停滞よる汚染物質の滞留を
防いでいる。上記空気循環系は上記送風ファンと上記サ
プライチャンバとの間に上記送風ファンで送風される空
気の塵埃を濾過するフィルタを更に備えていることによ
り、サプライチャンバに供給される空気が送風ファンか
ら発生する塵埃やオイルミスト等の汚染物質を含まない
ように浄化している。上記空気循環系と、上記リターン
チャンバ、上記作業室、及び上記サプライチャンバとの
双方間の振動の伝達を防ぐための防振絶縁部を更に備え
ていることにより、空気循環系の送風ファンや空調機の
振動がクリーンルームの特に作業室に伝わらないように
している。上記サプライチャンバと上記作業室との間に
上記サプライチャンバから上記作業室に入る空気の塵埃
を濾過するためのフィルタを更に備えていることによ
り、作業室に入る塵埃を可能な限り無くするようにして
いる。上記フィルタはＨＥＰＡフィルタを含む。上記フ
ィルタはＵＬＰＡフィルタを含む。上記空気循環系は上
記リターンチャンバからの空気の一部を外部に放出する
ための排気ダクトを更に備えていることにより、所定量
ずつクリーンルーム内の空気を入替え、酸素不足を防止
している。上記空気循環系は上記サプライチャンバに外
気を供給するための供給ダクトを更に備えていることに
より、酸素量の多い外気を所定量ずつ供給して、作業室
内の酸素不足を防いでいる。上記供給ダクトは上記サプ
ライチャンバに供給する空気の塵埃及び特定のガスを濾
過、及び温度を調整するための空調装置を更に備えてい
ることにより、二酸化炭素濃度や室温、湿度が調節され
た状態に保つことができる。上記空気循環系は上記リタ
ーンチャンバからの空気の一部を上記空調装置に循環さ
せる第２の循環ダクトを更に備えていることにより、循
環する空気の所定量を常に空調をかけるようにして、室
内環境を最適値に保持している。

【００１６】本発明のクリーンルームは、塵埃を濾過さ
れた清浄な空気を一時蓄えるためのサプライチャンバ
と、このサプライチャンバの下部にあって、サプライチ
ャンバから供給される上記清浄な空気の中で作業をする
ための作業室と、この作業室の下部にあって、作業室か
ら排出された空気を一時蓄えるためのリターンチャンバ
と、このリターンチャンバに蓄えられた空気を上記サプ
ライチャンバに向けて循環させるための空気循環系とを
有するものにおいて、上記空気循環系、上記リターンチ
ャンバ、上記作業室、及び上記サプライチャンバのそれ
ぞれを双方間での空気の出入りを遮断された少なくとも
２つの領域に分離するための空気遮断部を備えることに
より、双方間での空気の出入りを遮断することにより、
クリーンルーム内の汚染源領域を他の領域から区画し、
クリーンルーム内における汚染物質の拡散を防止すると
ともに、空気循環過程において汚染物質が拡散すること
をも防止している。

【００１７】さらに、本発明は、上記構成により、外界
の空気中の塵を濾過するための濾過装置を備え、この濾
過装置で濾過した空気中で作業するための設備を備えた
クリーンルームは、外界からの直接の空気の流入を遮断
された少なくとも２個の部屋を有する１つの建物と、こ
の建物の上記２つの部屋間の空気の直接の入出を絶つた
めの隔離部材と、上記２つの部屋それぞれのために独立
に備えた空気循環系とを備え、双方間での空気の出入り
を遮断することにより、クリーンルーム内の汚染源領域
を他の領域から区画し、クリーンルーム内における汚染
物質の拡散を防止するとともに、空気循環過程において
汚染物質が拡散することをも防止している。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しながら
説明する。

【００１９】図１は、本発明の一実施例を示す概略正面
図である。図１のクリーンルーム１０は、３階建ての建
物で構成され、上階からサプライチャンバ１２、作業室
１４、リターンチャンバ１６を備える。これらサプライ
チャンバ１２、作業室１４、リターンチャンバ１６は上
階から下階まで一続きで各室を仕切る仕切壁１８によっ
て、第１のサプライチャンバ１２ａ、第２のサプライチ
ャンバ１２ｂ、第１の作業室１４ａ、第２の作業室１４
ｂ、第１のリターンチャンバ１６ａ、第２のリターンチ
ャンバ１６ｂに仕切られている。この仕切壁１８及びク
リーンルーム１０の外壁１９の材質は、従来よりクリー
ンルームに使用されている壁材と同一の材質、たとえ
ば、静電気の発生を避けるために防塵塗装を施したスチ
ールパーティションを用いる。サプライチャンバ１２と
作業室１４との間は作業室１４の天井２０によって仕切
られている。作業室１４の天井２０には、ヘパフィルタ
ー２２が多数取付けられ、各ヘパフィルター２２の間に
は所定間隔で光源２４等の付属装置が取付けられてい
る。サプライチャンバ１２中の空気は、ヘパフィルター
２２によって塵埃を濾過され、作業室１４に供給され
る。作業室１４とリターンチャンバ１６とは、作業室１
４の床２６によって仕切られている。床２６には所定間
隔の排気孔を有するグレーチング２８が取付けられ、作
業室の空気が床面２６からリターンチャンバ１６に円滑
に通過できるように構成されている。リターンチャンバ
１６ａ、１６ｂにはそれぞれ独立した空気循環装置２８
ａ、２８ｂがそれぞれ循環ダクト３０ａ、３０ｂを介し
て接続されており、リターンチャンバ１６ａ、１６ｂ内
の空気が循環ダクト３０ａ、３０ｂを通って空気循環装
置２８ａ、２８ｂに入るように構成されている。空気循
環装置２８ａ、２８ｂはそれぞれ強制的な空気の流れを
発生させるための循環用ファン３２ａ、３２ｂと、この
循環用ファン３２ａ、３２ｂを通貨した空気中の塵埃や
循環用ファン３２ａ、３２ｂで混入したオイルミスト等
を濾過するためのプレフィルター３４ａ、３４ｂを有す
る。空気循環装置２８ａ、２８ｂは、送風ダクト３６
ａ、３６ｂを介してサプライチャンバ１２ａ、１２ｂと
接続され、空気循環装置２８ａ、２８ｂによって強制的
に一方向の流れを持たされた空気流をサプライチャンバ
１２ａ、１２ｂに再供給するように構成している。さら
に、クリーンルーム１０と空気循環装置２８との間は防
振絶縁を施し、空気循環装置の循環用ファン３２等の振
動がクリーンルーム１０に伝わらない構造になってい
る。

【００２０】循環ダクト３０ａ、３０ｂには排気ダクト
３８ａ、３８ｂが接続される。この排気ダクト３８ａ、
３８ｂは図示しない換気装置と接続される換気ダクト４
０および空調機４２に接続する。この換気ダクト４０を
通してクリーンルーム１０内の空気は所定量ずつ外気と
交換される。空調機４２は換気ダクト４０から室外の空
気を所定量ずつ取り込みつつクリーンルーム内の空気の
温度や湿度が所定値を保ように制御する。空調機４２は
送風ダクト３６ａ、３６ｂと空気供給ダクト４４ａ、４
４ｂと接続し、温度や湿度を所定値に保持し、塵埃等を
濾過した空気を送風ダクト３６ａ、３６ｂに供給する。
送風ダクト３６ａ、３６ｂに供給された空気は空気循環
装置２８ａ、２８ｂによって強制循環された空気と混合
し、サプライチャンバ１２ａ、１２ｂにそれぞれ供給さ
れる。なお、図１において、排気ダクト３８ｂ、空気供
給ダクト４４ｂと外部との接続は省略されているが、そ
れぞれ排気ダクト３８ａ、空気供給ダクト４４ａと同様
の構成で、別の換気ダクト及び空調機が接続されてい
る。また、リターンチャンバ１６には仕切壁１８を突き
切って配管７０が設けられているが、この仕切壁１８の
配管貫通部７２にはシリコンシールを施すことにより、
第１のリターンチャンバ１６ａと第２のリターンチャン
バ１６ｂとの間の塵埃や空気の拡散を防止している。

【００２１】したがって、上記構成により図１の矢印に
示すような第１のサプライチャンバ１２ａ、第１の作業
室１４ａ、第１のリターンチャンバ１６ａ、循環ダクト
３０ａ、空気循環装置２８ａ、送風ダクト３６ａをこの
順に循環する空気の流れと、第２のサプライチャンバ１
２ｂ、第２の作業室１４ｂ、第２のリターンチャンバ１
６ｂ、循環ダクト３０ｂ、空気循環装置２８ｂ、送風ダ
クト３６ｂをこの順に循環する空気の流れとが仕切壁１
８とクリーンルーム１０の外壁１９とによって互いに隔
絶されて形成され、双方の空気は混合しない。そこで、
例えばクリーンルーム１０の作業室１４ｂ内には、リン
拡散装置等の汚染発生装置５０を設置し、作業室１４ａ
内には汚染物質が存在するのを避ける必要がある酸化拡
散炉等の熱処理装置５２を設置する。そして、仕切壁１
８により汚染発生装置５０を含む領域、即ち第２のサプ
ライチャンバ１２ｂ、第２の作業室１４ｂ、第２のリタ
ーンチャンバ１６ｂをその空気循環装置２８ｂを含めて
汚染源領域４５として他の領域である非汚染領域４７か
ら区分し、第１の作業室１４ａ等への汚染物質の拡散を
防ぐ。

【００２２】図２にはクリーンルーム１０の平面概略断
面図を示している。本図は、大きくはクリーンルーム１
０と、このクリーンルーム１０の空気循環装置２８や図
１に示した空調機等の振動の大きな設備を収容する空調
設備室５５とを備えて構成される。クリーンルーム１０
と空調設備室５５とは周知の防振絶縁がされて仕切られ
ており、空調設備室５５の循環ファン３２等で発生する
振動はクリーンルーム１０には伝わらない構造になって
いる。なお、図２において、空調設備質５５の内部構造
は図１の構造を９０度回転させた形で表現している。仕
切壁１８及びクリーンルーム１０の外壁１９の材質は、
従来よりクリーンルームに使用されている壁材と同一の
材質でよい。たとえば、静電気の発生を避けるために鉄
板の表面に防塵塗装を施したスチールパーティションな
どが一般的に使用されている。仕切壁１８及びクリーン
ルーム１０の外壁１９は、所定幅の壁材をつなぎ合わせ
て構成し、各壁材のつなぎ目はシリコンシールを施して
塵埃や空気の混入を防いでいる。この仕切壁１８はクリ
ーンルーム１０の作業室１４だけでなく、サプライチャ
ンバ１２、リターンチャンバ１６にも設け、それぞれ作
業室１４ａ、１４ｂ、サプライチャンバ１２ａ、１２
ｂ、リターンチャンバ１６ａ、１６ｂとして独立させ
る。そして、循環用ダクト３０、循環用ファン３２も独
立して設け、空気循環系において汚染物質が拡散するこ
とを防止する。

【００２３】クリーンルーム１０の仕切壁１８には、必
要に応じて人や物が通過するための開閉扉６０を設ける
ことが可能である。人や物の通過に必要なときだけ開
き、不要なときは閉じておけば良いのであって、この際
の汚染物質の拡散は少なく、無視できるほどのものであ
る。

【００２４】汚染源領域４５の空気には汚染物質が蓄積
されることになるが、その領域内だけであればある程度
の蓄積は差し支えない。また、適宜排気し、浄化処理す
ることにより許容量を超えないように調整することがで
きる。

【００２５】複数の汚染源がある場合は、汚染物質の種
類に応じて別の区画とすることができるし、それらのい
くつかで混合しても構わないものがあれば、それらの汚
染物質についてはまとめて一つの区画とすることもでき
る。

【００２６】なお、本実施例では、サプライチャンバ１
２やリターンチャンバ１６内にも仕切壁を設けた構成と
しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、
作業室１４の天井のヘパフィルター２２や床のグレーチ
ング２８に直接送風ダクト３６、循環ダクト３０を接続
しても構わない。空気循環系が独立のものであるかぎ
り、その具体的態様は種々のものを採用できる。クリー
ンルームの構造についても、以上に示したもののほか、
側壁リターン方式として側壁にリターン口を設けたもの
があるが、本発明はそのような方式の違いにかかわらず
採用可能である。

【００２７】また、本実施例では図１において汚染源領
域４５側に空調機の図示を省略しているが、本発明にお
いては、空調機に限らず、通常空気循環系に使用する装
置を汚染源領域の空気循環系に設けることができるのは
いうまでもないことである。

【００２８】さらに、本実施例では汚染発生装置５０と
してリン拡散装置を示したが、本発明はこれに限定され
るものではない。ＢＰＳＧのような常圧ＣＶＤ装置につ
いても同様の汚染が発生し、この場合の汚染物質として
はボロン等が考えられる。また、ウエット処理装置も汚
染発生装置と考えられるものであり、この場合の汚染物
質はフッ化水素（ＨＦ）である。

【００２９】さらに、本実施例では塵埃吸着用のフィル
ターとしてヘパフィルターを使用したが、本発明は要請
により、より高い清浄度を実現することができるウルパ
フィルターを使用することも可能である。

【００３０】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、汚染物質
を使用する部屋とその他の部屋とのそれぞれのために独
立に備えた空気循環系を備え、双方間での空気の出入り
を遮断することにより、クリーンルーム内の汚染源領域
を他の領域から区画し、クリーンルーム内における汚染
物質の拡散を防止するとともに、空気循環過程において
汚染物質が拡散することも防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す側面の概略断面図であ
る。

【図２】本発明一実施例を示す平面の概略断面図であ
る。

【符号の説明】

１０ クリーンルーム １２ サプライチャンバ １４ 作業室 １６ リターンチャンバ １８ 仕切壁 ２８ 空気循環装置 ４５ 汚染源領域

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塵埃を濾過された清浄な空気を一時蓄え
   るためのサプライチャンバと、このサプライチャンバの
   下部にあって、サプライチャンバから供給される上記清
   浄な空気の中で作業をするための作業室と、この作業室
   の下部にあって、作業室から排出された空気を一時蓄え
   るためのリターンチャンバと、このリターンチャンバに
   蓄えられた空気を上記サプライチャンバに向けて循環さ
   せるための空気循環系と、この空気循環系、上記リター
   ンチャンバ、上記作業室、及び上記サプライチャンバの
   それぞれを双方間での空気の出入りを遮断された少なく
   とも２つの領域に分離するための空気遮断部と、を備え
   た半導体デバイスを製造するための製造設備。
2. 【請求項２】 上記空気循環系は空気を上記リターンチ
   ャンバから上記サプライチャンバに向けて送るための送
   風ファンを更に備えていることを特徴とする請求項１記
   載の製造設備。
3. 【請求項３】 上記空気循環系は上記送風ファンと上記
   サプライチャンバとの間に上記送風ファンで送風される
   空気の塵埃を濾過するフィルタを更に備えていることを
   特徴とする請求項２記載の製造設備。
4. 【請求項４】 上記空気循環系と、上記リターンチャン
   バ、上記作業室、及び上記サプライチャンバとの双方間
   の振動の伝達を防ぐための防振絶縁部を更に備えている
   ことを特徴とする請求項１記載の製造設備。
5. 【請求項５】 上記サプライチャンバと上記作業室との
   間に上記サプライチャンバから上記作業室に入る空気の
   塵埃を濾過するためのフィルタを更に備えていることを
   特徴とする請求項１記載の製造設備。
6. 【請求項６】 上記フィルタはヘパフィルタを含むこと
   を特徴とする請求項５記載の製造設備。
7. 【請求項７】 上記フィルタはウルパフィルタを含むこ
   とを特徴とする請求項５記載の製造設備。
8. 【請求項８】 上記空気循環系は上記リターンチャンバ
   からの空気の一部を外部に放出するための排気ダクトを
   更に備えていることを特徴とする請求項１記載の製造設
   備。
9. 【請求項９】 上記空気循環系は上記サプライチャンバ
   に外気を供給するための供給ダクトを更に備えているこ
   とを特徴とする請求項１記載の製造設備。
10. 【請求項１０】 上記供給ダクトは上記サプライチャン
    バに供給する空気の塵埃及び特定のガスを濾過、及び温
    度を調整するための空調装置を更に備えていることを特
    徴とする請求項９記載の製造設備。
11. 【請求項１１】 上記空気循環系は上記リターンチャン
    バからの空気の一部を上記空調装置に循環させる第２の
    循環ダクトを更に備えていることを特徴とする請求項１
    ０記載の製造設備。
12. 【請求項１２】 塵埃を濾過された清浄な空気を一時蓄
    えるためのサプライチャンバと、このサプライチャンバ
    の下部にあって、サプライチャンバから供給される上記
    清浄な空気の中で作業をするための作業室と、この作業
    室の下部にあって、作業室から排出された空気を一時蓄
    えるためのリターンチャンバと、このリターンチャンバ
    に蓄えられた空気を上記サプライチャンバに向けて循環
    させるための空気循環系とを有するクリーンルームにお
    いて、上記空気循環系、上記リターンチャンバ、上記作
    業室、及び上記サプライチャンバのそれぞれを双方間で
    の空気の出入りを遮断された少なくとも２つの領域に分
    離するための空気遮断部を備えたことを特徴とするクリ
    ーンルーム。
13. 【請求項１３】 外界の空気中の塵を濾過するための濾
    過装置を備え、この濾過装置で濾過した空気中で作業す
    るための設備を備えたクリーンルームにおいて、外界か
    らの直接の空気の流入を遮断された少なくとも２個の部
    屋を有する１つの建物と、この建物の上記２つの部屋間
    の空気の直接の入出を絶つための隔離部材と、上記２つ
    の部屋それぞれのために独立に備えた空気循環系とを備
    えたことを特徴とするクリーンルーム。
14. 【請求項１４】 上記２つの部屋のうちの１つの部屋は
    他の部屋の雰囲気中では取り扱えない材料を使用する設
    備を更に備えていることを特徴とする請求項１３記載の
    クリーンルーム。
15. 【請求項１５】 上記２つの部屋のうちの１つの部屋は
    燐、ボロンまたはフッ化水素酸のいずれか１つを含有す
    る材料を使用する設備を有することを特徴とする請求項
    １４記載のクリーンルーム。
16. 【請求項１６】 上記２つの部屋はそれぞれ塵埃を濾過
    された清浄な空気を一時蓄えるためのサプライチャンバ
    と、このサプライチャンバの下部にあって、サプライチ
    ャンバから供給される上記清浄な空気の中で作業をする
    ための作業室と、この作業室の下部にあって、作業室か
    ら排出された空気を一時蓄えるためのリターンチャンバ
    とを更に有することを特徴とする請求項１３記載のクリ
    ーンルーム。
17. 【請求項１７】 上記作業室と上記リターンチェンバと
    の間に上記作業室から上記リターンチェンバへの空気の
    流れを円滑にするためのグレーチングを更に有すること
    を特徴とする請求項１３記載のクリーンルーム。
18. 【請求項１８】 上記サプライチャンバと上記作業室と
    の間に上記サプライチャンバから上記作業室に入る空気
    の塵埃を濾過するためのフィルタを更に備えていること
    を特徴とする請求項１３記載のクリーンルーム。
19. 【請求項１９】 上記フィルタはヘパフィルタを含むこ
    とを特徴とする請求項１８記載のクリーンルーム。
20. 【請求項２０】 上記フィルタはウルパフィルタを含む
    ことを特徴とする請求項１８記載のクリーンルーム。