JPH0514906U - 異物有無検査装置 - Google Patents
異物有無検査装置Info
- Publication number
- JPH0514906U JPH0514906U JP6726191U JP6726191U JPH0514906U JP H0514906 U JPH0514906 U JP H0514906U JP 6726191 U JP6726191 U JP 6726191U JP 6726191 U JP6726191 U JP 6726191U JP H0514906 U JPH0514906 U JP H0514906U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflected
- light
- foreign substance
- optical system
- laser light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】異物有無検査装置において、検査対象基板の表
面上における回路パターンと異物との弁別能の向上を図
る。 【構成】レーザ発振器と、ビームエキスパンダーと、レ
ーザ光走査用のミラーと、集光レンズとから成る入射光
学系と、検査対象基板に付着の異物で反射したレーザ光
の反射散乱光を検出する検出光学系とを備え、検出光学
系での反射散乱光の検出結果に基いて異物を検出するよ
うに構成された異物有無検査装置において、前記集光レ
ンズをテレセントリック系のレンズから構成している。
面上における回路パターンと異物との弁別能の向上を図
る。 【構成】レーザ発振器と、ビームエキスパンダーと、レ
ーザ光走査用のミラーと、集光レンズとから成る入射光
学系と、検査対象基板に付着の異物で反射したレーザ光
の反射散乱光を検出する検出光学系とを備え、検出光学
系での反射散乱光の検出結果に基いて異物を検出するよ
うに構成された異物有無検査装置において、前記集光レ
ンズをテレセントリック系のレンズから構成している。
Description
【0001】
本考案は、例えばLSIの製造プロセスにおけるレチクルやマスク、その他、 製品ウエハーや液晶用基板などの回路パターンが描かれた基板等に異物が付着し ているか否かを検査するための異物有無検査装置に関する。
【0002】 より詳しくは、レーザ発振器と、ビームエキスパンダーと、異物の有無を検査 する対象基板にレーザ光を走査させるミラーと、当該ミラーからのレーザ光を集 光させるレンズとから成る入射光学系と、前記検査対象基板に付着の異物で反射 したレーザ光の反射散乱光を検出する検出光学系とを備えて、前記検出光学系で の反射散乱光の検出結果に基いて前記検査対象基板に付着した異物を検出するよ うに構成された異物有無検査装置に関する。
【0003】
上記の異物有無検査装置は、検査対象基板を乗載したステージを一平面上でX 方向に直線移動させる一方、入射光学系によって検査対象基板の斜め上方から、 その検査面に対して一定の偏光角を有するレーザ光を、Y方向(一平面上で前記 X方向と直交する方向)の所定範囲内で走査させながら照射させて、検査面に異 物が存するときの当該異物で反射したレーザ光の反射散乱光を検出光学系で検出 するように構成されている。
【0004】 尚、前記検出光学系には、検査面の回路パターンで反射した一定の偏光角を有 するレーザ光の偏光方向に対して検光軸が垂直になるように検光子を配置してあ って、検査対象基板の検査面からの反射散乱光が回路パターンによるものか異物 によるものかを弁別できるようにしてある。
【0005】 即ち、一定の偏光角を有するレーザ光が回路パターンで反射した光が検出光学 系に入射された際には、この光は検光子によってカットされる。 従って、レーザ光によって検査面を走査し終えた状態で、前記検出光学系の光 検出器が反射散乱光を検出しなかったことの情報を基にして、前記検査対象基板 に異物が付着していないことが検出される。
【0006】 一方、検査面に付着している異物にレーザ光が照射されると、このレーザ光は ランダムな方向に散乱されて、その一部の光が検出光学系に入射されるが、この 光は一定した偏光角を持つものではなく、方向性のない偏光角が入り混じってお り、この内の回路パターンで反射した光と同じ偏光成分の光はカットされるもの の、残りの偏光成分の光は検光子を通過して光検出器へ到達することで、異物の 存在が検出されるのである。
【0007】 この異物有無検査装置の前記レーザ光を集光させるためのレンズとして、従来 では所謂f・θ系のレンズが用いられている。
【0008】
ところが、図3に示すように、このf・θ系の集光レンズ7を通過したレーザ 光は、検査対象基板1の検査面aを扇状に走査することになり、検査面aと入射 レーザ光の偏光方向とが成す角度が走査線上の各点で変化し、結果として、検査 面aの回路パターンからの反射散乱光の偏光方向が走査線上の各点で変化し、か つ、反射散乱光の偏光が楕円偏光になり、回路パターンで反射した光を検光子で 十分に消光し切れなくなって、回路パターンを異物と誤検出する事態があったの である。
【0009】 本考案は、かゝる実情に鑑みて成されたものであって、f・θ系のレンズとは 異なる特性の集光レンズを選択する簡単な改良技術によって、上記の不都合を解 消し、ひいては、異物と回路パターンとの弁別能の向上を図ることを目的として いる。
【0010】
【課題を解決するための手段】 上記の目的を達成するために本考案は、レーザ発振器と、ビームエキスパンダ ーと、異物の有無を検査する対象基板にレーザ光を走査させるミラーと、当該ミ ラーからのレーザ光を集光させるレンズとから成る入射光学系と、前記検査対象 基板に付着の異物で反射したレーザ光の反射散乱光を検出する検出光学系とを備 え、前記検出光学系での反射散乱光の検出結果に基いて前記検査対象基板に付着 した異物を検出するように構成された異物有無検査装置において、前記集光レン ズをテレセントリック系のレンズから構成した点に特徴を有する。
【0011】
即ち、上記テレセントリック系のレンズは、レーザ光走査用のミラーから当該 レンズに入射される光の光軸が変化しても、レンズ軸と平行の光を出す機能を有 する。 換言すれば、検査面上での走査線の全幅にわたって、検査面と反射散乱光の偏 光方向との成す角度を一定に保ち、検査面上の回路パターンからの反射散乱光を 走査線上の各点で直線偏光と成す機能を有するもので、走査線上の各点において 安定的に検光子による回路パターンからの反射散乱光の消光が行われる。
【0012】
以下、本考案の実施例を図面に基づいて説明する。図1は異物有無検査装置を 示し、同図において、1は異物の有無を検査する対象基板で、例えば半導体ウエ ハーに回路パターンを焼付けるために用いられるレチクルであり、その周囲には ベリクル枠2が設けられ、一平面上でX方向に直線移動される図外のステージに 乗載される。
【0013】 3は前記検査対象基板1の検査面aにレーザ光を斜め上方から走査させる入射 光学系で、一定の偏光角を有するレーザ光の発振器4と、ビームエキスパンダー 5と、レーザ光をY方向(一平面上で前記X方向と直交する方向)に走査させる 例えばガルバノミラー6と、テレセントリック系の集光レンズ7から成る。
【0014】 このテレセントリック系の集光レンズ7は、図2に示すように、レーザ光走査 用のミラー6から当該レンズに入射される光の光軸が変化しても、レンズ軸と平 行の光を出す機能を有するものである。 より具体的には、検査面a上での走査線の全幅にわたって、検査面aと入射光 の偏光方向との成す角度を一定に保ち、検査面上の回路パターンからの反射散乱 光を走査線上の各点で直線偏光と成すとともに散乱光の偏光特性を一定に保つ機 能を有する。
【0015】 8,8は前記検査対象基板1の検査面aで反射した散乱光をキャッチする検出 光学系で、前記検査対象基板1に対して斜め上方の両側に配置されている。この 検出光学系8は、集光レンズ9と、スリット10と、特定の直線偏光成分(この例 では、検査面の回路パターンで反射したレーザ光の偏光成分)をカットするよう に検光軸が設定された検光子11と、例えば光電子倍増管から成る光検出器12をそ の順に設けて成る。
【0016】 上記の構成によれば、レーザ発振器4から発振された一定の偏光角を有するレ ーザ光は、前記ビームエキスパンダー5を通してレーザ光走査用のミラー6で反 射されて、テレセントリック系の集光レンズ7に入射される。 そして、前記テレセントリック系の集光レンズ7は、走査のために入射光の角 度が変化しても、レンズ軸と平行のレーザ光を検査対象基板1の検査面aに向け て出射することから、入射光の偏光方向と検査面aとの成す角が走査線全幅で一 定となり、検査面a上に異物が存在しないときには、当該検査面a上での走査線 の全幅にわたって、検査面aと反射散乱光の偏光方向との成す角度が一定に保た れる。
【0017】 而して従来のように、走査線上の両側で反射散乱光が楕円偏光になることが防 止されて、検査面a上の回路パターンからの反射散乱光を走査線上の各点で直線 偏光と成し得るもので、走査線上の各点において、回路パターンで反射した光を 安定的に検光子11で消光させることができ、この結果、従来のように回路パター ンが異物として誤検出されることがなくなり、異物のみが確実に弁別されて検出 される。
【0018】
以上説明したように本考案の異物有無検査装置によれば、集光レンズとしてテ レセントリック系のレンズを用いて、入射光の偏光方向と検査面との成す角を一 定に保たせて、検査面と反射散乱光の偏光方向との成す角度を一定に保たせるよ うにし、検査面上の回路パターンからの反射散乱光を走査線上の各点で直線偏光 と成したことで、走査線上の各点において、回路パターンで反射した光を安定的 に検光子で消光させることができるようになり、検査対象基板の表面上における 回路パターンと実際の異物との弁別能の向上が達成されるに至ったのである。
【図1】異物有無検査装置の構成図である。
【図2】テレセントリック系の集光レンズを通過したレ
ーザ光の走査説明図である。
ーザ光の走査説明図である。
【図3】従来例のf・θ系の集光レンズを通過したレー
ザ光の走査説明図である。
ザ光の走査説明図である。
1…検査対象基板、3…入射光学系、4…レーザ発振
器、5…ビームエキスパンダー、6…ミラー、7…テレ
セントリック系の集光レンズ、8…検出光学系。
器、5…ビームエキスパンダー、6…ミラー、7…テレ
セントリック系の集光レンズ、8…検出光学系。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 J 7013−4M
Claims (1)
- 【請求項1】 レーザ発振器と、ビームエキスパンダー
と、異物の有無を検査する対象基板にレーザ光を走査さ
せるミラーと、当該ミラーからのレーザ光を集光させる
レンズとから成る入射光学系と、前記検査対象基板に付
着の異物で反射したレーザ光の反射散乱光を検出する検
出光学系とを備え、前記検出光学系での反射散乱光の検
出結果に基いて前記検査対象基板に付着した異物を検出
するように構成された異物有無検査装置において、前記
集光レンズをテレセントリック系のレンズから構成して
あることを特徴とする異物有無検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6726191U JPH0514906U (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 異物有無検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6726191U JPH0514906U (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 異物有無検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0514906U true JPH0514906U (ja) | 1993-02-26 |
Family
ID=13339843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6726191U Pending JPH0514906U (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 異物有無検査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0514906U (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11613873B2 (en) | 2017-03-07 | 2023-03-28 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Shovel and work support system for construction machine |
-
1991
- 1991-07-30 JP JP6726191U patent/JPH0514906U/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11613873B2 (en) | 2017-03-07 | 2023-03-28 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Shovel and work support system for construction machine |
US12031301B2 (en) | 2017-03-07 | 2024-07-09 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Shovel and work support system for construction machine |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4669875A (en) | Foreign particle detecting method and apparatus | |
JP3140664B2 (ja) | 異物検査方法及び装置 | |
JP2796316B2 (ja) | 欠陥または異物の検査方法およびその装置 | |
WO1985003353A1 (en) | Inspection system utilizing dark-field illumination | |
JP3259331B2 (ja) | 表面状態検査装置 | |
JPH0786465B2 (ja) | 異物検出方法及び装置 | |
US5446542A (en) | Mark position determining apparatus for use in exposure system | |
USRE33991E (en) | Foreign particle detecting method and apparatus | |
JP2003185593A (ja) | ウェーハ外観検査装置 | |
EP0335163B1 (en) | Apparatus for detecting foreign matter on the surface of a substrate | |
JPS6365904B2 (ja) | ||
JPH06249791A (ja) | 欠陥検査装置 | |
JPH0514906U (ja) | 異物有無検査装置 | |
JP2577920B2 (ja) | 異物有無検査装置 | |
JPH0534128A (ja) | 異物検査装置 | |
JPH09145631A (ja) | 表面異物検査装置 | |
JPH06258237A (ja) | 欠陥検査装置 | |
JPH0514905U (ja) | 異物有無検査装置 | |
JPH0755721A (ja) | シート材の検査装置 | |
JP2970235B2 (ja) | 表面状態検査装置 | |
JPH01239437A (ja) | 異物有無検査装置 | |
JPS6246239A (ja) | 表面異物検査装置 | |
JP3796101B2 (ja) | 異物検査装置および方法 | |
JPH04103144A (ja) | 異物検査方法 | |
JPH0792439B2 (ja) | 異物検査装置 |