JPH05148183A - キノン誘導体の製造方法 - Google Patents
キノン誘導体の製造方法Info
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- JPH05148183A JPH05148183A JP3318601A JP31860191A JPH05148183A JP H05148183 A JPH05148183 A JP H05148183A JP 3318601 A JP3318601 A JP 3318601A JP 31860191 A JP31860191 A JP 31860191A JP H05148183 A JPH05148183 A JP H05148183A
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- Japan
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- producing
- ethyl acetate
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- methyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Pyridine Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 安全で、高価な原料等を使用することなく、
更に最終目的物に金属の混入が見られない等、工業的に
有利なキノン化合物の製造方法。 【構成】 ハイドロキノン誘導体に、酸化剤として硝酸
を、触媒として塩酸を作用させて、一般式 具体的には、例えば
更に最終目的物に金属の混入が見られない等、工業的に
有利なキノン化合物の製造方法。 【構成】 ハイドロキノン誘導体に、酸化剤として硝酸
を、触媒として塩酸を作用させて、一般式 具体的には、例えば
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、キノン化合物の製造方
法に関する。更に詳しくは、キノン化合物の工業的に有
用な製造方法に関する。
法に関する。更に詳しくは、キノン化合物の工業的に有
用な製造方法に関する。
【０００２】
【発明の背景と先行技術】ＣｏＱの代表されるベンゾキ
ノン化合物は、医薬として有用なものが数多く知られて
いる。例えば、特願平２−２３７０５１号には、式
ノン化合物は、医薬として有用なものが数多く知られて
いる。例えば、特願平２−２３７０５１号には、式
【化９】 で代表されるキノン化合物が、経口肝疾患治療剤として
開示されており、また、特願平３−４４７０９号には、
式
開示されており、また、特願平３−４４７０９号には、
式
【化１０】 で代表される化合物がロイコトリエン産生抑制作用また
はトロンボキサンA2抑制作用が有効な疾患の予防・治療
剤として開示されている。
はトロンボキサンA2抑制作用が有効な疾患の予防・治療
剤として開示されている。
【０００３】さらには、特願平３−７１４８０号にロイ
コトリエン産生抑制作用またはトロンボキサンＡ2 抑制
作用が有効な疾患の予防・治療剤として開示されている
ベンゾチアゾール誘導体の中間体としてもキノン化合物
が重要な役割を果している。
コトリエン産生抑制作用またはトロンボキサンＡ2 抑制
作用が有効な疾患の予防・治療剤として開示されている
ベンゾチアゾール誘導体の中間体としてもキノン化合物
が重要な役割を果している。
【０００４】このようなキノン化合物の製造方法として
は、現在のところ、電解酸化による方法、適当な酸触媒
を用いる方法が主として用いられているが、前者は反応
に用いる電解質が比較的高かであること、水溶性の溶媒
が用いられているため、連続的に電解操作を行う際に
は、濃縮−抽出の操作を省くことが困難であること等の
欠点が挙げられ工業的方法としては問題が残る。
は、現在のところ、電解酸化による方法、適当な酸触媒
を用いる方法が主として用いられているが、前者は反応
に用いる電解質が比較的高かであること、水溶性の溶媒
が用いられているため、連続的に電解操作を行う際に
は、濃縮−抽出の操作を省くことが困難であること等の
欠点が挙げられ工業的方法としては問題が残る。
【０００５】後者においては、塩化第２鉄・６水和物、
硝酸第２セリウムアンモニウム等の金属酸化剤を用いた
場合、最終生成物に金属が混入するため、カラム精製工
程を省略することは不可能であり、また、反応で生じる
廃液処理の問題もあり、工業上問題がある。また、過酸
化水素等の過酸化物を用いた場合、その取り扱いに注意
しないと爆発する危険があり、やはり問題である。
硝酸第２セリウムアンモニウム等の金属酸化剤を用いた
場合、最終生成物に金属が混入するため、カラム精製工
程を省略することは不可能であり、また、反応で生じる
廃液処理の問題もあり、工業上問題がある。また、過酸
化水素等の過酸化物を用いた場合、その取り扱いに注意
しないと爆発する危険があり、やはり問題である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
状況に鑑み、上記のような欠点を解決した工業上有利な
製造方法について、長期間鋭意研究を重ねてきたが、下
記に示す方法が所期の目的を達成することを見いだし本
発明を完成した。
状況に鑑み、上記のような欠点を解決した工業上有利な
製造方法について、長期間鋭意研究を重ねてきたが、下
記に示す方法が所期の目的を達成することを見いだし本
発明を完成した。
【０００７】即ち、本発明の方法は以下のとおりであ
る。
る。
【０００８】一般式（Ｉ）
【化１１】 を、必要ならば塩酸を触媒として用いて、硝酸により酸
化し、一般式（II）
化し、一般式（II）
【化１２】 を製造するキノン化合物の製造方法。
【０００９】本発明方法は広くキノン化合物を製造する
のに用いられ、あらゆるハイドロキノン誘導体をベンゾ
キノン誘導体に酸化しうる方法である。
のに用いられ、あらゆるハイドロキノン誘導体をベンゾ
キノン誘導体に酸化しうる方法である。
【００１０】本発明の定義中、R1， R2 ，R4における低
級アルキル基とは、炭素数１〜８の直鎖または分枝状の
アルキル基を意味する。これらのうちい好ましい基とし
ては、メチル基、エチル基などを挙げることができる。
級アルキル基とは、炭素数１〜８の直鎖または分枝状の
アルキル基を意味する。これらのうちい好ましい基とし
ては、メチル基、エチル基などを挙げることができる。
【００１１】R1， R2 ，R4における低級アルコキシ基と
は、上記低級アルキル基より誘導される基を意味する。
は、上記低級アルキル基より誘導される基を意味する。
【００１２】R5におけるヘテロアリールアルキルにおい
て、ヘテロアリール基として好ましい基は５〜６員環の
含窒素のヘテロアリール基を挙げることができ、具体的
には、例えば、ピリジル基、イミダゾリル基等を挙げる
ことができる。これらは無置換でも良いし、例えば、メ
チル基、エチル基等の低級アルキル基；メトキシ基、エ
トキシ基等の低級アルコキシ基；フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等で置換さ
れていても良い。
て、ヘテロアリール基として好ましい基は５〜６員環の
含窒素のヘテロアリール基を挙げることができ、具体的
には、例えば、ピリジル基、イミダゾリル基等を挙げる
ことができる。これらは無置換でも良いし、例えば、メ
チル基、エチル基等の低級アルキル基；メトキシ基、エ
トキシ基等の低級アルコキシ基；フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等で置換さ
れていても良い。
【００１３】またこの場合のアルキル基、すなわちアル
キレン鎖の炭素数は１〜１０であり、好ましくは２〜
８、更に好ましくは４〜６である。これらのアルキレン
鎖は、いずれかの炭素にメチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基が結合していても良い。
キレン鎖の炭素数は１〜１０であり、好ましくは２〜
８、更に好ましくは４〜６である。これらのアルキレン
鎖は、いずれかの炭素にメチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基が結合していても良い。
【００１４】Ｘ，Ｙの定義にあるある保護された水酸基
とは、例えばメチル基、エチル基等上記低級アルキル基
で保護された基、すなわちアルコキシ基である場合；ア
セチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、ピバロイル
基、ニコチノイル基等のアシル基で保護された基、すな
わちエステルを形成している場合などを挙げることがで
きるが、要するに生体内で何らかの手段で分解されて水
酸基となり得るものであれば良い。
とは、例えばメチル基、エチル基等上記低級アルキル基
で保護された基、すなわちアルコキシ基である場合；ア
セチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、ピバロイル
基、ニコチノイル基等のアシル基で保護された基、すな
わちエステルを形成している場合などを挙げることがで
きるが、要するに生体内で何らかの手段で分解されて水
酸基となり得るものであれば良い。
【００１５】本発明製造方法は、必要ならば濃塩酸を触
媒として用い、硝酸により酸化することにより、ハイド
ロキノン誘導体からベンゾキノン誘導体を製造する方法
である。
媒として用い、硝酸により酸化することにより、ハイド
ロキノン誘導体からベンゾキノン誘導体を製造する方法
である。
【００１６】反応溶媒としては、酢酸エチルまたは酢酸
エチル−酢酸混合溶液などが好ましい。なお、酢酸エチ
ル−酢酸を使用する場合、その混合割合は特に限定され
ない。
エチル−酢酸混合溶液などが好ましい。なお、酢酸エチ
ル−酢酸を使用する場合、その混合割合は特に限定され
ない。
【００１７】反応温度は、１０℃以下が好ましい。
【００１８】またハイドロキノン体と反応溶媒の割合は
特に限定されないが、原料化合物１ｇに対して５〜２０
ｍｌが好ましい。
特に限定されないが、原料化合物１ｇに対して５〜２０
ｍｌが好ましい。
【００１９】原料化合物のハイドロキノン体と酸化剤で
ある硝酸の割合は、適宜設定しうるが、ハイドロキノン
体１モルに対し硝酸１〜５モルぐらいが好ましく、更に
好ましくは、ハイドロキノン体１モルに対し硝酸１〜３
モルである。
ある硝酸の割合は、適宜設定しうるが、ハイドロキノン
体１モルに対し硝酸１〜５モルぐらいが好ましく、更に
好ましくは、ハイドロキノン体１モルに対し硝酸１〜３
モルである。
【００２０】更に必要に応じて触媒として塩酸を用いる
ことができるが、その量は、適宜設定される。
ことができるが、その量は、適宜設定される。
【００２１】本発明方法は、ハイドロキノン誘導体を酸
化してベンゾキノン誘導体を製造するに際に、硝酸を酸
化剤として用い、必要ならば触媒として塩酸を用いるこ
とができるということを特徴とするベンゾキノン誘導体
の製造方法であるが、 金属酸化剤を用いないため作業性が良くなり、ま
た、廃液処理に工夫を凝らす必要がない。 最終目的物に金属の混入が見られない。 過酸化物による酸化では、爆発の危険性を有してい
るが、本発明方法ではこのような危険性はない。 触媒として濃塩酸を添加し、反応温度・反応溶媒を
制御することができる。 電解酸化による方法のように、高価な電解質や特別
な器具装置を必要としない。 等極めて工業的に有用な方法である。
化してベンゾキノン誘導体を製造するに際に、硝酸を酸
化剤として用い、必要ならば触媒として塩酸を用いるこ
とができるということを特徴とするベンゾキノン誘導体
の製造方法であるが、 金属酸化剤を用いないため作業性が良くなり、ま
た、廃液処理に工夫を凝らす必要がない。 最終目的物に金属の混入が見られない。 過酸化物による酸化では、爆発の危険性を有してい
るが、本発明方法ではこのような危険性はない。 触媒として濃塩酸を添加し、反応温度・反応溶媒を
制御することができる。 電解酸化による方法のように、高価な電解質や特別
な器具装置を必要としない。 等極めて工業的に有用な方法である。
【００２２】
【実施例】以下に本発明方法による実施例を示すが、本
発明がこれらのみに限定されないことはいうまでもな
い。
発明がこれらのみに限定されないことはいうまでもな
い。
【００２３】実施例１ ３−［５−（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１，４
−ベンゾキノイル）］−２−ノニル−２−プロペン酸の
製法
−ベンゾキノイル）］−２−ノニル−２−プロペン酸の
製法
【００２４】
【化１３】
【００２５】３−［５−（１−ヒドロキシ−６メチル−
２，３，４−トリメトキシ）フェニル］−２−ノニル−
２−プロペン酸１０ｇを酢酸エチル９０mlと酢酸１０ml
の混合溶液に溶解後、５℃まで冷却する。冷却後、６１
％濃硝酸２．８９ｇを滴下した。その温度を保持して３
時間反応させた。反応終了後、水１００mlで５回洗浄
後、酢酸エチル層を濃縮する。得られた濃縮残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル−ト
ルエン系）にて生成した後、ｎ−ヘキサン、エタノール
水で再結晶し、橙色固体の標題化合物４．１ｇを得た。
２，３，４−トリメトキシ）フェニル］−２−ノニル−
２−プロペン酸１０ｇを酢酸エチル９０mlと酢酸１０ml
の混合溶液に溶解後、５℃まで冷却する。冷却後、６１
％濃硝酸２．８９ｇを滴下した。その温度を保持して３
時間反応させた。反応終了後、水１００mlで５回洗浄
後、酢酸エチル層を濃縮する。得られた濃縮残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル−ト
ルエン系）にて生成した後、ｎ−ヘキサン、エタノール
水で再結晶し、橙色固体の標題化合物４．１ｇを得た。
【００２６】
・融点 ６８℃
・1H-NMR
（δ）:0.86(t,J=6Hz,3H), 1.02-1.60(m,14H), 1.96(d,
J=2Hz,3H),2.01-2.22(m,2H), 3.99(s,3H), 4.01(S,3H),
7.20(bs,1H)
・融点 ６８℃
・1H-NMR
（δ）:0.86(t,J=6Hz,3H), 1.02-1.60(m,14H), 1.96(d,
J=2Hz,3H),2.01-2.22(m,2H), 3.99(s,3H), 4.01(S,3H),
7.20(bs,1H)
【００２７】
実施例２ ３−［５−（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１、４
−ベンゾキノイル）］−２−ノニル−２−プロペン酸
実施例２ ３−［５−（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１、４
−ベンゾキノイル）］−２−ノニル−２−プロペン酸
【００２８】
【化１４】
【００２９】３−［５−（１，２，３，４−トリメトキ
シ−６メチル）フェニル］−２−ノニル−２−プロペン
酸１０ｇを酢酸エチル５０mlと酢酸５０mlの混合溶媒に
溶解後、濃塩酸０．２５ｇを加え、その溶液を５℃まで
冷却する。冷却後、６１％濃硝酸６．３３ｇを滴下す
る。滴下後、５〜１０℃の内温を保持しながら、２０時
間反応させた。反応終了後、酢酸エチル５０mlにつき水
１００mlで洗浄する。更に酢酸エチル層を水１００mlで
３回洗浄後、酢酸エチル層を濃縮する。得られた濃縮残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：トルエ
ン−酢酸エチル系）で生成した後ｎ−ヘキサン、エタノ
−ル水で再結晶し、橙色固体の標題化合物４．０ｇを得
た。
シ−６メチル）フェニル］−２−ノニル−２−プロペン
酸１０ｇを酢酸エチル５０mlと酢酸５０mlの混合溶媒に
溶解後、濃塩酸０．２５ｇを加え、その溶液を５℃まで
冷却する。冷却後、６１％濃硝酸６．３３ｇを滴下す
る。滴下後、５〜１０℃の内温を保持しながら、２０時
間反応させた。反応終了後、酢酸エチル５０mlにつき水
１００mlで洗浄する。更に酢酸エチル層を水１００mlで
３回洗浄後、酢酸エチル層を濃縮する。得られた濃縮残
渣をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒：トルエ
ン−酢酸エチル系）で生成した後ｎ−ヘキサン、エタノ
−ル水で再結晶し、橙色固体の標題化合物４．０ｇを得
た。
【００３０】
実施例３ ２−（３，５−ジメチル−１、４−ベンゾキノニル）−
（３−ピリジル）−メチルアセテートの製法
実施例３ ２−（３，５−ジメチル−１、４−ベンゾキノニル）−
（３−ピリジル）−メチルアセテートの製法
【００３１】
【化１５】
【００３２】α−（３−ピリジル）−２，５−ジメトキ
シ−４、６−ジメチルベンジルアセテート１０ｇを酢酸
５０mlと酢酸エチル５mlの混合溶媒に溶解後、その溶液
を５℃まで冷却した。冷却後、濃塩酸１．２８ｇ、濃硝
酸８．２０ｇを加え、１０℃以下で２４時間反応した。
反応液に酢酸エチル１００ml、５％炭酸水素ナトリウム
水１００mlを加え、有機層を分離した。有機層を食塩水
５０mlで洗浄後有機層を分離した。有機層を食塩水５０
mlで洗浄後、有機層を濃縮した。濃縮残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル
系）により精製し、橙色油状の標題化合物７．９ｇを得
た。
シ−４、６−ジメチルベンジルアセテート１０ｇを酢酸
５０mlと酢酸エチル５mlの混合溶媒に溶解後、その溶液
を５℃まで冷却した。冷却後、濃塩酸１．２８ｇ、濃硝
酸８．２０ｇを加え、１０℃以下で２４時間反応した。
反応液に酢酸エチル１００ml、５％炭酸水素ナトリウム
水１００mlを加え、有機層を分離した。有機層を食塩水
５０mlで洗浄後有機層を分離した。有機層を食塩水５０
mlで洗浄後、有機層を濃縮した。濃縮残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル
系）により精製し、橙色油状の標題化合物７．９ｇを得
た。
【００３３】
・1H-NMR（400MHz,CDCl3）δ(ppm):2.
07(s,3H), 2.13(s,3H), 2.20(s,3H),6.61(s,1H),7.14
(s,1H),7.28(dd,1h,J=4.5,7.5Hz),7.66(dt,1H,J=1.5,7.
5Hz),8.54(dt,1H,J=1.5,4.5Hz),8.59(br,s,1H)
・1H-NMR（400MHz,CDCl3）δ(ppm):2.
07(s,3H), 2.13(s,3H), 2.20(s,3H),6.61(s,1H),7.14
(s,1H),7.28(dd,1h,J=4.5,7.5Hz),7.66(dt,1H,J=1.5,7.
5Hz),8.54(dt,1H,J=1.5,4.5Hz),8.59(br,s,1H)
【００３４】
実施例４ （Ｅ）−３−（２−メトキシ−３，６−ジメチル−１，
４−ベンゾキノン−５−イル）−２−［５−（３−ピリ
ジル）ペンチル］プロペノン酸の製法
実施例４ （Ｅ）−３−（２−メトキシ−３，６−ジメチル−１，
４−ベンゾキノン−５−イル）−２−［５−（３−ピリ
ジル）ペンチル］プロペノン酸の製法
【００３５】
【化１６】
【００３６】
３−（２−メトキシ−３，６−ジメ
チル−１，４−ハイドロキノン−５−イル）−２−［５
−（３−ピリジル）ペンチル］プロペノン酸３．０ｇを
酢酸２７ml、酢酸エチル３mlの混合溶媒に溶解し、濃塩
酸０．０６mlを加えた。反応液を氷浴にて冷却した後、
濃硝酸１．８８ｇを徐々に滴下した。反応液を室温に戻
し１４時間撹拌した後飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用
いｐＨ６に調製した。これを酢酸エチル５０mlで２回抽
出した。飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した。得られた残渣２．７ｇについてシ
リカゲルクロマトグラフィーを行った（溶出溶媒：トル
エン−酢酸エチル系）。目的物含有フラクションを合一
し、得られた濃縮残渣１．９ｇを酢酸エチルより結晶化
し黄色結晶１．２ｇを得た。これをエタノ−ル−水の混
合溶媒から再結晶し、標題化合物０．６ｇを得た。
３−（２−メトキシ−３，６−ジメ
チル−１，４−ハイドロキノン−５−イル）−２−［５
−（３−ピリジル）ペンチル］プロペノン酸３．０ｇを
酢酸２７ml、酢酸エチル３mlの混合溶媒に溶解し、濃塩
酸０．０６mlを加えた。反応液を氷浴にて冷却した後、
濃硝酸１．８８ｇを徐々に滴下した。反応液を室温に戻
し１４時間撹拌した後飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用
いｐＨ６に調製した。これを酢酸エチル５０mlで２回抽
出した。飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、溶媒を留去した。得られた残渣２．７ｇについてシ
リカゲルクロマトグラフィーを行った（溶出溶媒：トル
エン−酢酸エチル系）。目的物含有フラクションを合一
し、得られた濃縮残渣１．９ｇを酢酸エチルより結晶化
し黄色結晶１．２ｇを得た。これをエタノ−ル−水の混
合溶媒から再結晶し、標題化合物０．６ｇを得た。
【００３７】
・融点 １３４〜１３５℃
・1H-NMR
（δ）:1.26(2H,tt,J=7.0,7.0Hz), 1.50(2H,tt,J=7.0,
7.0Hz), 1.61(2H,tt,J=7.0,7.0Hz),1.61(2H,tt,J=7.0,
7.0Hz),1.95(3H,s),1.96(3H,s),2.12(2H,t,J=7.0Hz),2.
60(2H,t,J=7.0Hz),4.01(3H,s),7.26(1H,s),7.27(1H,dd,
J=8.5,5.0Hz)7.55(1H,brd,J=8.5,1Hz),8.44(1H,brd,J=
5.0,1Hz),8.50(1H,brs)
・融点 １３４〜１３５℃
・1H-NMR
（δ）:1.26(2H,tt,J=7.0,7.0Hz), 1.50(2H,tt,J=7.0,
7.0Hz), 1.61(2H,tt,J=7.0,7.0Hz),1.61(2H,tt,J=7.0,
7.0Hz),1.95(3H,s),1.96(3H,s),2.12(2H,t,J=7.0Hz),2.
60(2H,t,J=7.0Hz),4.01(3H,s),7.26(1H,s),7.27(1H,dd,
J=8.5,5.0Hz)7.55(1H,brd,J=8.5,1Hz),8.44(1H,brd,J=
5.0,1Hz),8.50(1H,brs)
【００３８】
実施例５
６−メチル
−２，５−ジメトキシ−１，４−ベンゾキノンの製法
実施例５
６−メチル
−２，５−ジメトキシ−１，４−ベンゾキノンの製法
【００３９】
【化１７】
【００４０】
２，３，４，５−テトラメトキシト
ルエン１．０６ｇと酢酸エチル１５mlを反応容器に仕込
み容器を氷浴で冷却した。内温が５℃になったところで
濃塩酸５０mgを入れ、次に濃硝酸１．３ｇを内温が１０
℃越えないよう注意しながら約１０分間かけて滴下し
た。その後５〜６℃を維持し、約１２時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで有
機層を乾燥し濃縮することにより、赤色オイル状の粗Ｃ
ｏＱが０．９ｇ得られた。これを高速液体クロマトグラ
フィーに付して定量した結果、ＣｏＱとして０．３２ｇ
生成していることが分かった。収率３５．１％
２，３，４，５−テトラメトキシト
ルエン１．０６ｇと酢酸エチル１５mlを反応容器に仕込
み容器を氷浴で冷却した。内温が５℃になったところで
濃塩酸５０mgを入れ、次に濃硝酸１．３ｇを内温が１０
℃越えないよう注意しながら約１０分間かけて滴下し
た。その後５〜６℃を維持し、約１２時間撹拌した。反
応終了後、反応液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで有
機層を乾燥し濃縮することにより、赤色オイル状の粗Ｃ
ｏＱが０．９ｇ得られた。これを高速液体クロマトグラ
フィーに付して定量した結果、ＣｏＱとして０．３２ｇ
生成していることが分かった。収率３５．１％
【００４１】
次に、本発明方法を用いて、キノン
化合物を製造した例を参考例として示す。
次に、本発明方法を用いて、キノン
化合物を製造した例を参考例として示す。
【００４２】
参考例
３−［５−
（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１，４−ベンゾキ
ノイル）］ −２−ノニル−２−プロペン酸の製法
参考例
３−［５−
（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１，４−ベンゾキ
ノイル）］ −２−ノニル−２−プロペン酸の製法
【００４３】
【化１８】
【００４４】
（１）２，３，６−トリブロム−ｐ−
クレゾ−ルの製造
（１）２，３，６−トリブロム−ｐ−
クレゾ−ルの製造
【００４５】
【化１９】
【００４６】
ｐ−クレゾール２１６．４ｇをクロ
ロホルム２．２ｌに溶解し、これを氷冷して内温を１０
〜２０℃に保つように臭素４７９．４ｇを１時間かけて
滴下し、反応を行った。滴下終了後、１時間そのまま撹
拌を続行して反応を行った。反応混合液に１０％炭酸ナ
トリウム水２ｌ、クロロホルム２ｌを入れ抽出を行っ
た。クロロホルム層を１．６ｌの水で２回洗い、クロロ
ホルム層を減圧濃縮して、乾固物６７０．０ｇを得た。
これにｎ−ヘキサン１．７ｌを加えって再結晶を行い、
標題化合物の結晶２８２．８ｇを得た。
ｐ−クレゾール２１６．４ｇをクロ
ロホルム２．２ｌに溶解し、これを氷冷して内温を１０
〜２０℃に保つように臭素４７９．４ｇを１時間かけて
滴下し、反応を行った。滴下終了後、１時間そのまま撹
拌を続行して反応を行った。反応混合液に１０％炭酸ナ
トリウム水２ｌ、クロロホルム２ｌを入れ抽出を行っ
た。クロロホルム層を１．６ｌの水で２回洗い、クロロ
ホルム層を減圧濃縮して、乾固物６７０．０ｇを得た。
これにｎ−ヘキサン１．７ｌを加えって再結晶を行い、
標題化合物の結晶２８２．８ｇを得た。
【００４７】
（２）２，３，６−トリメトキシ−ｐ
−クレゾールの製造
（２）２，３，６−トリメトキシ−ｐ
−クレゾールの製造
【００４８】
【化２０】
【００４９】
（１）で得られた２，３，６−トリ
ブロム−ｐ−クレゾール５６５．６ｇ、ヨウ化銅６５．
６ｇ、ジメチルフラン２２６mlからなる混合物を加熱
し、ナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液3980
ｇを 1度に注入した。徐々に加熱して反応を進めた。７
５℃位からメタノールが留出し始め、８５℃位で発泡が
起こった。４５分で発泡が終了し、反応が終了した。冷
却後、水３．２ｌを入れ、酢酸エチル３．２ｌで抽出し
た。水層を酢酸エチル３．２ｌで再抽出し、酢酸エチル
層を合一し、４．８ｌの水で２回洗った。酢酸エチル層
を減圧濃縮し、２８５．８ｇの標題化合物を得た。
（１）で得られた２，３，６−トリ
ブロム−ｐ−クレゾール５６５．６ｇ、ヨウ化銅６５．
６ｇ、ジメチルフラン２２６mlからなる混合物を加熱
し、ナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液3980
ｇを 1度に注入した。徐々に加熱して反応を進めた。７
５℃位からメタノールが留出し始め、８５℃位で発泡が
起こった。４５分で発泡が終了し、反応が終了した。冷
却後、水３．２ｌを入れ、酢酸エチル３．２ｌで抽出し
た。水層を酢酸エチル３．２ｌで再抽出し、酢酸エチル
層を合一し、４．８ｌの水で２回洗った。酢酸エチル層
を減圧濃縮し、２８５．８ｇの標題化合物を得た。
【００５０】
（３）２，３，４，５−テトラメトキ
シトルエンの製造
（３）２，３，４，５−テトラメトキ
シトルエンの製造
【００５１】
【化２１】
【００５２】
（２）で得られた２，３，６−トリ
メトキシ−ｐ−クレゾールをアセトン ２．４ｌに溶
解し、水酸化カリウム９６．４ｇを加え、ジメチル硫酸
２１６．８ｇを撹拌下滴下した。内温は２０℃から５０
℃に上昇し、反応は３０分で終了した。反応液に水２．
４ｌ、ジクロロメタン２．４ｌを入れて抽出した。ジク
ロロメタン層を３．６ｌの水で３回洗い、ジクロロメタ
ン層を減圧濃縮し、粗テトラメトキシ体２９６．２ｇを
得た。これをシリカゲルクロマトグラフィーに付した
（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン−イソプロピルエーテル
系）。メイン分画を濃縮し標題化合物２４５．８ｇを得
た。
（２）で得られた２，３，６−トリ
メトキシ−ｐ−クレゾールをアセトン ２．４ｌに溶
解し、水酸化カリウム９６．４ｇを加え、ジメチル硫酸
２１６．８ｇを撹拌下滴下した。内温は２０℃から５０
℃に上昇し、反応は３０分で終了した。反応液に水２．
４ｌ、ジクロロメタン２．４ｌを入れて抽出した。ジク
ロロメタン層を３．６ｌの水で３回洗い、ジクロロメタ
ン層を減圧濃縮し、粗テトラメトキシ体２９６．２ｇを
得た。これをシリカゲルクロマトグラフィーに付した
（溶出溶媒：ｎ−ヘキサン−イソプロピルエーテル
系）。メイン分画を濃縮し標題化合物２４５．８ｇを得
た。
【００５３】
（４）６−メチル−２，３，４，５−
テトラメトキシトルエンの製造
（４）６−メチル−２，３，４，５−
テトラメトキシトルエンの製造
【００５４】
【化２２】
【００５５】
（３）で得られた２，３，４，５−
テトラメトキシトルエン１５０ｇ、トリフルオロ酢酸
１．８ｌを混合し、均一に溶解した後撹拌下ヘキサメチ
レンテトラミンを加え、８０〜９０℃まで加熱した。２
時間加熱還流を行った後、常圧にてトリフルオロ酢酸を
加熱留去した。留出中、内温は８５℃から徐々に上昇し
１１０℃となった時点で留出が終わった。濃縮液を冷却
後、水４ｌに溶解し無水炭酸ナトリウムにてｐＨ８位ま
でにし、ついで酢酸エチル２ｌで抽出分取し、水層を合
一し無水硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒を減圧留去し
て、標題化合物１７７．１ｇを得た。
（３）で得られた２，３，４，５−
テトラメトキシトルエン１５０ｇ、トリフルオロ酢酸
１．８ｌを混合し、均一に溶解した後撹拌下ヘキサメチ
レンテトラミンを加え、８０〜９０℃まで加熱した。２
時間加熱還流を行った後、常圧にてトリフルオロ酢酸を
加熱留去した。留出中、内温は８５℃から徐々に上昇し
１１０℃となった時点で留出が終わった。濃縮液を冷却
後、水４ｌに溶解し無水炭酸ナトリウムにてｐＨ８位ま
でにし、ついで酢酸エチル２ｌで抽出分取し、水層を合
一し無水硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒を減圧留去し
て、標題化合物１７７．１ｇを得た。
【００５６】
（５）（Ｅ）−３−［５−（１−ヒド
ロキシ−６−メチル−２，３，４−トリメトキシフェニ
ル］−２−ノニル−２−プロペン酸エチルの製造
（５）（Ｅ）−３−［５−（１−ヒド
ロキシ−６−メチル−２，３，４−トリメトキシフェニ
ル］−２−ノニル−２−プロペン酸エチルの製造
【００５７】
【化２３】
【００５８】
（４）で得られた６−メチル−２，
３，４，５−テトラメトキシベンズアルデヒド１１７．
１ｇ、２−ジエチルホスホノウンデカノン酸エチル３８
７．９ｇ、トルエン１．８ｌの混合液に２８％ナトリウ
ムメトキシドメタノ−ル溶液を滴下する。内温が１０℃
位上昇した後５５〜６０℃に加熱して撹拌した。約３．
５時間反応後冷却した。イソプロピルエーテル１．８
ｌ、ジエチルエーテル０．３ｌを加えて、水３．６ｌに
て洗った。水層をイソプロピルエーテル８００mlにて再
抽出した。イソプロピルエーテル層を合一し、５％食塩
水２ｌで３回洗った。減圧濃縮後、３７４．６ｇの黄色
粘性液を得た。
（４）で得られた６−メチル−２，
３，４，５−テトラメトキシベンズアルデヒド１１７．
１ｇ、２−ジエチルホスホノウンデカノン酸エチル３８
７．９ｇ、トルエン１．８ｌの混合液に２８％ナトリウ
ムメトキシドメタノ−ル溶液を滴下する。内温が１０℃
位上昇した後５５〜６０℃に加熱して撹拌した。約３．
５時間反応後冷却した。イソプロピルエーテル１．８
ｌ、ジエチルエーテル０．３ｌを加えて、水３．６ｌに
て洗った。水層をイソプロピルエーテル８００mlにて再
抽出した。イソプロピルエーテル層を合一し、５％食塩
水２ｌで３回洗った。減圧濃縮後、３７４．６ｇの黄色
粘性液を得た。
【００５９】
（６）（Ｅ）−３−［５−（１−ヒド
ロキシ−６−メチル−２，３，４−トリメトキシフェニ
ル］−２−ノニル−２−プロペン酸の製造
（６）（Ｅ）−３−［５−（１−ヒド
ロキシ−６−メチル−２，３，４−トリメトキシフェニ
ル］−２−ノニル−２−プロペン酸の製造
【００６０】
【化２４】
【００６１】
（５）で得られた（Ｅ）−３−［５
−（１−ヒドロキシ−６メチル−２，３，４−トリメト
キシフェニル］−２−ノニル−２−プロペン酸エチルを
エタノール２ｌに溶解し、水酸化ナトリウム８０．５
ｇ、水１２０mlからなる溶液を加え、３時間加熱還流し
た。反応が進行するにつれて、白色沈殿物が析出した。
氷冷後、反応液をろ過し、白色不溶物を除去した。得ら
れたろ液に水２ｌを加えて２ｌのｎ−ヘキサンで３回洗
浄した。次いで水相を濃塩酸１７０mlで酸性にした。こ
れに酢酸エチル２ｌを加え、水２ｌで洗浄した。溶媒を
減圧下留去し２２１．６ｇの黄色粘性液を得た。
（５）で得られた（Ｅ）−３−［５
−（１−ヒドロキシ−６メチル−２，３，４−トリメト
キシフェニル］−２−ノニル−２−プロペン酸エチルを
エタノール２ｌに溶解し、水酸化ナトリウム８０．５
ｇ、水１２０mlからなる溶液を加え、３時間加熱還流し
た。反応が進行するにつれて、白色沈殿物が析出した。
氷冷後、反応液をろ過し、白色不溶物を除去した。得ら
れたろ液に水２ｌを加えて２ｌのｎ−ヘキサンで３回洗
浄した。次いで水相を濃塩酸１７０mlで酸性にした。こ
れに酢酸エチル２ｌを加え、水２ｌで洗浄した。溶媒を
減圧下留去し２２１．６ｇの黄色粘性液を得た。
【００６２】
（７）（Ｅ）−３−［５−（２，３−
ジメトキシ−６−メチル−１，４−ベンゾキノニル）］
−２−ノニル−２−プロペン酸の製造（本発明方法）
（７）（Ｅ）−３−［５−（２，３−
ジメトキシ−６−メチル−１，４−ベンゾキノニル）］
−２−ノニル−２−プロペン酸の製造（本発明方法）
【００６３】
【化２５】
【００６４】
（６）で得られた（Ｅ）−３−［５
−（１−ヒドロキシ−６−メチル−２，３，４−トリメ
トキシフェニル］−２−ノニル−２−プロペン酸２２
１．６ｇ、酢酸エチル１．１ｌ、酢酸１．１ｌの混合液
を食塩−氷で冷却した。冷却中に濃塩酸５．５ｇを加え
た。２℃まで冷却された時点で濃硝酸１４０．０ｇを５
℃以下に保ちながら３０分かけて滴下した。滴下終了
後、反応容器を５℃の部屋に移し約１４時間撹拌した。
その後部屋を移し室温で４．５時間反応させて反応を完
結させた。
（６）で得られた（Ｅ）−３−［５
−（１−ヒドロキシ−６−メチル−２，３，４−トリメ
トキシフェニル］−２−ノニル−２−プロペン酸２２
１．６ｇ、酢酸エチル１．１ｌ、酢酸１．１ｌの混合液
を食塩−氷で冷却した。冷却中に濃塩酸５．５ｇを加え
た。２℃まで冷却された時点で濃硝酸１４０．０ｇを５
℃以下に保ちながら３０分かけて滴下した。滴下終了
後、反応容器を５℃の部屋に移し約１４時間撹拌した。
その後部屋を移し室温で４．５時間反応させて反応を完
結させた。
【００６５】
反応液に酢酸エチル１．１リット
ル、水３．３ｌを加えて抽出した。得られた酢酸エチル
層を２ｌの５％食塩水で３回洗浄した。溶媒留去後トル
エン４５０mlに溶解し氷冷後ろ過し、ろ液を減圧濃縮し
赤黒色粘性物２１３．７ｇを得た。これを４１４mlのト
ルエンに溶解し、シリカゲルクロマトグラフィーで生成
した（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル系）。メイン分
画を合一し、濃縮して１２６．３ｇの濃縮残渣を得た。
この濃縮残渣１２６．３ｇをｎ−ヘキサン６２０mlに溶
解させ、室温にて結晶化を行い、析出した結晶をろ取し
た。
反応液に酢酸エチル１．１リット
ル、水３．３ｌを加えて抽出した。得られた酢酸エチル
層を２ｌの５％食塩水で３回洗浄した。溶媒留去後トル
エン４５０mlに溶解し氷冷後ろ過し、ろ液を減圧濃縮し
赤黒色粘性物２１３．７ｇを得た。これを４１４mlのト
ルエンに溶解し、シリカゲルクロマトグラフィーで生成
した（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル系）。メイン分
画を合一し、濃縮して１２６．３ｇの濃縮残渣を得た。
この濃縮残渣１２６．３ｇをｎ−ヘキサン６２０mlに溶
解させ、室温にて結晶化を行い、析出した結晶をろ取し
た。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年２月８日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 キノン誘導体の製造方法
【特許請求の範囲】
【化１】 を、必要ならば塩酸を触媒として用いて、硝酸により酸
化し、一般式（II）
化し、一般式（II）
【化２】 を製造するキノン化合物の製造方法。
【化３】 で示される基である請求項１記載のキノン化合物の製造
方法。
方法。
【化４】 で示される基である請求項１の記載のキノン化合物の製
造方法。
造方法。
【化５】 で示される基である請求項５記載のキノン化合物の製造
方法。
方法。
【化６】 で示される基、R4がメチル基であり、Ｘ，Ｙがメトキシ
基である請求項１記載のキノン化合物の製造方法。
基である請求項１記載のキノン化合物の製造方法。
【化７】 で示される基、R4がメチル基であり、Ｘ，Ｙがメトキシ
基である請求項１記載のキノン化合物の製造方法。
基である請求項１記載のキノン化合物の製造方法。
【化８】 で示される基、R4がメチル基、Ｘ，Ｙがメトキシ基であ
る請求項１記載のキノン化合物の製造方法。
る請求項１記載のキノン化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、キノン化合物の製造方
法に関する。更に詳しくは、キノン化合物の工業的に有
用な製造方法に関する。
法に関する。更に詳しくは、キノン化合物の工業的に有
用な製造方法に関する。
【０００２】
【発明の背景と先行技術】ＣｏＱ10で代表されるベンゾ
キノン化合物は、医薬として有用なものが数多く知られ
ている。例えば、特願平２−２３７０５１号には、式
キノン化合物は、医薬として有用なものが数多く知られ
ている。例えば、特願平２−２３７０５１号には、式
【化９】 で代表されるキノン化合物が、経口肝疾患治療剤として
開示されており、また、特願平３−４４７０９号には、
式
開示されており、また、特願平３−４４７０９号には、
式
【化１０】 で代表される化合物がロイコトリエン産生抑制作用また
はトロンボキサンA2抑制作用が有効な疾患の予防・治療
剤として開示されている。
はトロンボキサンA2抑制作用が有効な疾患の予防・治療
剤として開示されている。
【０００３】さらには、特願平３−７１４８０号にロイ
コトリエン産生抑制作用またはトロンボキサンＡ2 抑制
作用が有効な疾患の予防・治療剤として開示されている
ベンゾチアゾール誘導体の中間体としてもキノン化合物
が重要な役割を果している。
コトリエン産生抑制作用またはトロンボキサンＡ2 抑制
作用が有効な疾患の予防・治療剤として開示されている
ベンゾチアゾール誘導体の中間体としてもキノン化合物
が重要な役割を果している。
【０００４】このようなキノン化合物の製造方法として
は、現在のところ、電解酸化による方法、適当な酸触媒
を用いる方法が主として用いられているが、前者は反応
に用いる電解質が比較的高価であること、水溶性の溶媒
が用いられているため、連続的に電解操作を行う際に
は、濃縮−抽出の操作を省くことが困難であること等の
欠点が挙げられ工業的方法としては問題が残る。
は、現在のところ、電解酸化による方法、適当な酸触媒
を用いる方法が主として用いられているが、前者は反応
に用いる電解質が比較的高価であること、水溶性の溶媒
が用いられているため、連続的に電解操作を行う際に
は、濃縮−抽出の操作を省くことが困難であること等の
欠点が挙げられ工業的方法としては問題が残る。
【０００５】後者においては、塩化第２鉄・６水和物、
硝酸第２セリウムアンモニウム等の金属酸化剤を用いた
場合、最終生成物に金属が混入するため、カラム精製工
程を省略することは不可能であり、また、反応で生じる
廃液処理の問題もあり、工業上問題がある。また、過酸
化水素等の過酸化物を用いた場合、その取り扱いに注意
しないと爆発する危険があり、やはり問題である。
硝酸第２セリウムアンモニウム等の金属酸化剤を用いた
場合、最終生成物に金属が混入するため、カラム精製工
程を省略することは不可能であり、また、反応で生じる
廃液処理の問題もあり、工業上問題がある。また、過酸
化水素等の過酸化物を用いた場合、その取り扱いに注意
しないと爆発する危険があり、やはり問題である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らはこのような
状況に鑑み、上記のような欠点を解決した工業上有利な
製造方法について、長期間鋭意研究を重ねてきたが、下
記に示す方法が所期の目的を達成することを見いだし本
発明を完成した。
状況に鑑み、上記のような欠点を解決した工業上有利な
製造方法について、長期間鋭意研究を重ねてきたが、下
記に示す方法が所期の目的を達成することを見いだし本
発明を完成した。
【０００７】即ち、本発明の方法は以下のとおりであ
る。
る。
【０００８】一般式（Ｉ）
【化１１】 を、必要ならば塩酸を触媒として用いて、硝酸により酸
化し、一般式（II）
化し、一般式（II）
【化１２】 を製造するキノン化合物の製造方法。
【０００９】本発明方法は広くキノン化合物を製造する
のに用いられ、あらゆるハイドロキノン誘導体をベンゾ
キノン誘導体に酸化しうる方法である。
のに用いられ、あらゆるハイドロキノン誘導体をベンゾ
キノン誘導体に酸化しうる方法である。
【００１０】本発明の定義中、R1， R2 ，R4における低
級アルキル基とは、炭素数１〜８の直鎖または分枝状の
アルキル基を意味する。これらのうち好ましい基として
は、メチル基、エチル基などを挙げることができる。
級アルキル基とは、炭素数１〜８の直鎖または分枝状の
アルキル基を意味する。これらのうち好ましい基として
は、メチル基、エチル基などを挙げることができる。
【００１１】R1， R2 ，R4における低級アルコキシ基と
は、上記低級アルキル基より誘導される基を意味する。
は、上記低級アルキル基より誘導される基を意味する。
【００１２】R5におけるヘテロアリールアルキルにおい
て、ヘテロアリール基として好ましい基は５〜６員環の
含窒素のヘテロアリール基を挙げることができ、具体的
には、例えば、ピリジル基、イミダゾリル基等を挙げる
ことができる。これらは無置換でも良いし、例えば、メ
チル基、エチル基等の低級アルキル基；メトキシ基、エ
トキシ基等の低級アルコキシ基；フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等で置換さ
れていても良い。
て、ヘテロアリール基として好ましい基は５〜６員環の
含窒素のヘテロアリール基を挙げることができ、具体的
には、例えば、ピリジル基、イミダゾリル基等を挙げる
ことができる。これらは無置換でも良いし、例えば、メ
チル基、エチル基等の低級アルキル基；メトキシ基、エ
トキシ基等の低級アルコキシ基；フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子等で置換さ
れていても良い。
【００１３】またこの場合のアルキル基、すなわちアル
キレン鎖の炭素数は１〜１０であり、好ましくは２〜
８、更に好ましくは４〜６である。これらのアルキレン
鎖は、いずれかの炭素にメチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基が結合していても良い。
キレン鎖の炭素数は１〜１０であり、好ましくは２〜
８、更に好ましくは４〜６である。これらのアルキレン
鎖は、いずれかの炭素にメチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基が結合していても良い。
【００１４】Ｘ，Ｙの定義にあるある保護された水酸基
とは、例えばメチル基、エチル基等上記低級アルキル基
で保護された基、すなわちアルコキシ基である場合；ア
セチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、ピバロイル
基、ニコチノイル基等のアシル基で保護された基、すな
わちエステルを形成している場合などを挙げることがで
きるが、要するに、通常有機合成において用いられる水
酸基の保護基であれば、いかなる基もこれに含有され
る。
とは、例えばメチル基、エチル基等上記低級アルキル基
で保護された基、すなわちアルコキシ基である場合；ア
セチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、ピバロイル
基、ニコチノイル基等のアシル基で保護された基、すな
わちエステルを形成している場合などを挙げることがで
きるが、要するに、通常有機合成において用いられる水
酸基の保護基であれば、いかなる基もこれに含有され
る。
【００１５】本発明製造方法は、必要ならば濃塩酸を触
媒として用い、硝酸により酸化することにより、ハイド
ロキノン誘導体からベンゾキノン誘導体を製造する方法
である。
媒として用い、硝酸により酸化することにより、ハイド
ロキノン誘導体からベンゾキノン誘導体を製造する方法
である。
【００１６】反応溶媒としては、酢酸エチルまたは酢酸
エチル−酢酸混合溶液などが好ましい。なお、酢酸エチ
ル−酢酸を使用する場合、その混合割合は特に限定され
ない。
エチル−酢酸混合溶液などが好ましい。なお、酢酸エチ
ル−酢酸を使用する場合、その混合割合は特に限定され
ない。
【００１７】反応温度は、１０℃以下が好ましい。
【００１８】またハイドロキノン体と反応溶媒の割合は
特に限定されないが、原料化合物１ｇに対して５〜２０
ｍｌが好ましい。
特に限定されないが、原料化合物１ｇに対して５〜２０
ｍｌが好ましい。
【００１９】原料化合物のハイドロキノン体と酸化剤で
ある硝酸の割合は、適宜設定しうるが、ハイドロキノン
体１モルに対し硝酸１〜５モルぐらいが好ましく、更に
好ましくは、ハイドロキノン体１モルに対し硝酸１〜３
モルである。
ある硝酸の割合は、適宜設定しうるが、ハイドロキノン
体１モルに対し硝酸１〜５モルぐらいが好ましく、更に
好ましくは、ハイドロキノン体１モルに対し硝酸１〜３
モルである。
【００２０】更に必要に応じて触媒として塩酸を用いる
ことができるが、その量は、適宜設定される。
ことができるが、その量は、適宜設定される。
【００２１】本発明方法は、ハイドロキノン誘導体を酸
化してベンゾキノン誘導体を製造するに際に、硝酸を酸
化剤として用い、必要ならば触媒として塩酸を用いるこ
とができるということを特徴とするベンゾキノン誘導体
の製造方法であるが、 金属酸化剤を用いないため作業性が良くなり、ま
た、廃液処理に工夫を凝らす必要がない。 最終目的物に金属の混入が見られない。 過酸化物による酸化では、爆発の危険性を有してい
るが、本発明方法ではこのような危険性はない。 触媒として濃塩酸を添加し、反応温度・反応溶媒を
制御することができる。 電解酸化による方法のように、高価な電解質や特別
な器具装置を必要としない。 等極めて工業的に有用な方法である。
化してベンゾキノン誘導体を製造するに際に、硝酸を酸
化剤として用い、必要ならば触媒として塩酸を用いるこ
とができるということを特徴とするベンゾキノン誘導体
の製造方法であるが、 金属酸化剤を用いないため作業性が良くなり、ま
た、廃液処理に工夫を凝らす必要がない。 最終目的物に金属の混入が見られない。 過酸化物による酸化では、爆発の危険性を有してい
るが、本発明方法ではこのような危険性はない。 触媒として濃塩酸を添加し、反応温度・反応溶媒を
制御することができる。 電解酸化による方法のように、高価な電解質や特別
な器具装置を必要としない。 等極めて工業的に有用な方法である。
【００２２】
【実施例】以下に本発明方法による実施例を示すが、本
発明がこれらのみに限定されないことはいうまでもな
い。
発明がこれらのみに限定されないことはいうまでもな
い。
【００２３】実施例１ ３−（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１，４−ベン
ゾキノン−５−イル）−２−ノニル−２−プロペン酸 の
製法
ゾキノン−５−イル）−２−ノニル−２−プロペン酸 の
製法
【００２４】
【化１３】
【００２５】３−［５−（６−メチル−１，２，３，４
−テトラメトキシ）フェニル］−２−ノニル−２−プロ
ペン酸１０ｇを酢酸エチル９０mlと酢酸１０mlの混合溶
液に溶解後、５℃まで冷却する。冷却後、６１％濃硝酸
２．８９ｇを滴下した。その温度を保持して３時間反応
させた。反応終了後、水１００mlで５回洗浄後、酢酸エ
チル層を濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル−トルエン系）
にて精製した後、ｎ−ヘキサン、エタノール水で再結晶
し、橙色固体の標題化合物４．１ｇを得た。
−テトラメトキシ）フェニル］−２−ノニル−２−プロ
ペン酸１０ｇを酢酸エチル９０mlと酢酸１０mlの混合溶
液に溶解後、５℃まで冷却する。冷却後、６１％濃硝酸
２．８９ｇを滴下した。その温度を保持して３時間反応
させた。反応終了後、水１００mlで５回洗浄後、酢酸エ
チル層を濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー（溶出溶媒：酢酸エチル−トルエン系）
にて精製した後、ｎ−ヘキサン、エタノール水で再結晶
し、橙色固体の標題化合物４．１ｇを得た。
【００２６】・融点 ６８℃ ・1H-NMR（δ）: 0.86(t,J=6Hz,3H), 1.02-1.60(m,14
H), 1.96(d,J=2Hz,3H),2.01-2.22(m,2H), 3.99(s,3H),
4.01(s,3H), 7.20(bs,1H)
H), 1.96(d,J=2Hz,3H),2.01-2.22(m,2H), 3.99(s,3H),
4.01(s,3H), 7.20(bs,1H)
【００２７】実施例２ ３−（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１，４−ベン
ゾキノン−５−イル）−２−ノニル−２−プロペン酸
ゾキノン−５−イル）−２−ノニル−２−プロペン酸
【００２８】
【化１４】
【００２９】３−［５−（６−メチル−１，２，３，４
−テトラメトキシ）フェニル］−２−ノニル−２−プロ
ペン酸１０ｇを酢酸エチル５０mlと酢酸５０mlの混合溶
媒に溶解後、濃塩酸０．２５ｇを加え、その溶液を５℃
まで冷却する。冷却後、６１％濃硝酸６．３３ｇを滴下
する。滴下後、５〜１０℃の内温を保持しながら、２０
時間反応させた。反応終了後、水１００mlで洗浄した。
更に酢酸エチル層を水１００mlで３回洗浄後、酢酸エチ
ル層を濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル系）で
精製した後ｎ−ヘキサン、エタノ−ル水で再結晶し、橙
色固体の標題化合物４．０ｇを得た。
−テトラメトキシ）フェニル］−２−ノニル−２−プロ
ペン酸１０ｇを酢酸エチル５０mlと酢酸５０mlの混合溶
媒に溶解後、濃塩酸０．２５ｇを加え、その溶液を５℃
まで冷却する。冷却後、６１％濃硝酸６．３３ｇを滴下
する。滴下後、５〜１０℃の内温を保持しながら、２０
時間反応させた。反応終了後、水１００mlで洗浄した。
更に酢酸エチル層を水１００mlで３回洗浄後、酢酸エチ
ル層を濃縮する。得られた濃縮残渣をシリカゲルクロマ
トグラフィー（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル系）で
精製した後ｎ−ヘキサン、エタノ−ル水で再結晶し、橙
色固体の標題化合物４．０ｇを得た。
【００３０】実施例３ （３，５−ジメチル−１，４−ベンゾキノン−２−イ
ル） −（３−ピリジル）−メチルアセテートの製法
ル） −（３−ピリジル）−メチルアセテートの製法
【００３１】
【化１５】
【００３２】α−（３−ピリジル）−３，６−ジメトキ
シ−２，４−ジメチルベンジルアセテート１０ｇを酢酸
５０mlと酢酸エチル５mlの混合溶媒に溶解後、その溶液
を５℃まで冷却した。冷却後、濃塩酸１．２８ｇ、濃硝
酸８．２０ｇを加え、１０℃以下で２４時間反応した。
反応液に酢酸エチル１００ml、５％炭酸水素ナトリウム
水１００mlを加え、有機層を分離した。有機層を食塩水
５０mlで洗浄後有機層を分離した。有機層を更に食塩水
５０mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、
有機層を濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル系）により精
製し、橙色油状の標題化合物７．９ｇを得た。
シ−２，４−ジメチルベンジルアセテート１０ｇを酢酸
５０mlと酢酸エチル５mlの混合溶媒に溶解後、その溶液
を５℃まで冷却した。冷却後、濃塩酸１．２８ｇ、濃硝
酸８．２０ｇを加え、１０℃以下で２４時間反応した。
反応液に酢酸エチル１００ml、５％炭酸水素ナトリウム
水１００mlを加え、有機層を分離した。有機層を食塩水
５０mlで洗浄後有機層を分離した。有機層を更に食塩水
５０mlで洗浄後、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥し、
有機層を濃縮した。濃縮残渣をシリカゲルクロマトグラ
フィー（溶出溶媒：トルエン−酢酸エチル系）により精
製し、橙色油状の標題化合物７．９ｇを得た。
【００３３】・1H-NMR（400MHz,CDCl3）δ(ppm):2.07
(s,3H), 2.13(s,3H), 2.20(s,3H),6.61(s,1H),7.14(s,1
H),7.28(dd,1H,J=4.5,7.5Hz),7.66(dt,1H,J=1.5,7.5H
z),8.54(dt,1H,J=1.5,4.5Hz),8.59(br-s,1H)
(s,3H), 2.13(s,3H), 2.20(s,3H),6.61(s,1H),7.14(s,1
H),7.28(dd,1H,J=4.5,7.5Hz),7.66(dt,1H,J=1.5,7.5H
z),8.54(dt,1H,J=1.5,4.5Hz),8.59(br-s,1H)
【００３４】実施例４ （Ｅ）−３−（２−メトキシ−３，６−ジメチル−１，
４−ベンゾキノン−５−イル）−２−［５−（３−ピリ
ジル）ペンチル］プロペン酸の製法
４−ベンゾキノン−５−イル）−２−［５−（３−ピリ
ジル）ペンチル］プロペン酸の製法
【００３５】
【化１６】
【００３６】３−（２−メトキシ−３，６−ジメチル−
１，４−ハイドロキノン−５−イル）−２−［５−（３
−ピリジル）ペンチル］プロペン酸３．０ｇを酢酸２７
ml、酢酸エチル３mlの混合溶媒に溶解し、濃塩酸０．０
６mlを加えた。反応液を氷浴にて冷却した後、濃硝酸
１．８８ｇを徐々に滴下した。反応液を室温に戻し１４
時間撹拌した後飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用いｐＨ
６に調製した。これを酢酸エチル５０mlで２回抽出し
た。飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去した。得られた残渣２．７ｇについてシリカ
ゲルクロマトグラフィーを行った（溶出溶媒：トルエン
−酢酸エチル系）。目的物含有フラクションを合一し、
得られた濃縮残渣１．９ｇを酢酸エチルより結晶化し黄
色結晶１．２ｇを得た。これをエタノ−ル−水の混合溶
媒から再結晶し、標題化合物０．６ｇを得た。
１，４−ハイドロキノン−５−イル）−２−［５−（３
−ピリジル）ペンチル］プロペン酸３．０ｇを酢酸２７
ml、酢酸エチル３mlの混合溶媒に溶解し、濃塩酸０．０
６mlを加えた。反応液を氷浴にて冷却した後、濃硝酸
１．８８ｇを徐々に滴下した。反応液を室温に戻し１４
時間撹拌した後飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用いｐＨ
６に調製した。これを酢酸エチル５０mlで２回抽出し
た。飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去した。得られた残渣２．７ｇについてシリカ
ゲルクロマトグラフィーを行った（溶出溶媒：トルエン
−酢酸エチル系）。目的物含有フラクションを合一し、
得られた濃縮残渣１．９ｇを酢酸エチルより結晶化し黄
色結晶１．２ｇを得た。これをエタノ−ル−水の混合溶
媒から再結晶し、標題化合物０．６ｇを得た。
【００３７】・融点 １３４〜１３５℃ ・1H-NMR（δ）:1.26(2H,tt,J=7.0,7.0Hz), 1.50(2H,t
t,J=7.0,7.0Hz),1.61(2H,tt,J=7.0, 7.0Hz),1.61(2H,t
t,J=7.0,7.0Hz),1.95(3H,s),1.96(3H,s),2.12(2H,t,J=
7.0Hz),2.60(2H,t,J=7.0Hz),4.01(3H,s),7.26(1H,s),7.
27(1H,dd,J=8.5,5.0Hz)7.55(1H,br-d,J=8.5,1Hz),8.44
(1H,br-d,J=5.0,1Hz),8.50(1H,br-s)
t,J=7.0,7.0Hz),1.61(2H,tt,J=7.0, 7.0Hz),1.61(2H,t
t,J=7.0,7.0Hz),1.95(3H,s),1.96(3H,s),2.12(2H,t,J=
7.0Hz),2.60(2H,t,J=7.0Hz),4.01(3H,s),7.26(1H,s),7.
27(1H,dd,J=8.5,5.0Hz)7.55(1H,br-d,J=8.5,1Hz),8.44
(1H,br-d,J=5.0,1Hz),8.50(1H,br-s)
【００３８】実施例５ ５−メチル−２，３−ジメトキシ−１，４−ベンゾキノ
ン の製法
ン の製法
【００３９】
【化１７】
【００４０】２，３，４，５−テトラメトキシトルエン
１．０６ｇと酢酸エチル１５mlを反応容器に仕込み容器
を氷浴で冷却した。内温が５℃になったところで濃塩酸
５０mgを入れ、次に濃硝酸１．３ｇを内温が１０℃越え
ないよう注意しながら約１０分間かけて滴下した。その
後５〜６℃を維持し、約１２時間撹拌した。反応終了
後、反応液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで有機層を
乾燥し濃縮することにより、赤色オイル状の粗生成物が
０．９ｇ得られた。これを高速液体クロマトグラフィー
に付して定量した結果、標題化合物として０．３２ｇ生
成していることが分かった。収率３５．１％。
１．０６ｇと酢酸エチル１５mlを反応容器に仕込み容器
を氷浴で冷却した。内温が５℃になったところで濃塩酸
５０mgを入れ、次に濃硝酸１．３ｇを内温が１０℃越え
ないよう注意しながら約１０分間かけて滴下した。その
後５〜６℃を維持し、約１２時間撹拌した。反応終了
後、反応液を水洗し、無水硫酸マグネシウムで有機層を
乾燥し濃縮することにより、赤色オイル状の粗生成物が
０．９ｇ得られた。これを高速液体クロマトグラフィー
に付して定量した結果、標題化合物として０．３２ｇ生
成していることが分かった。収率３５．１％。
【００４１】次に、本発明方法を用いて、キノン化合物
を製造した例を参考例として示す。
を製造した例を参考例として示す。
【００４２】参考例 ３−（２，３−ジメトキシ−６−メチル−１，４−ベン
ゾキノン−５−イル）−２−ノニル−２−プロペン酸の
製法
ゾキノン−５−イル）−２−ノニル−２−プロペン酸の
製法
【００４３】
【化１８】
【００４４】（１）２，３，６−トリブロモ−ｐ−クレ
ゾ−ルの製造
ゾ−ルの製造
【００４５】
【化１９】
【００４６】ｐ−クレゾール２１６．４ｇをクロロホル
ム２．２ｌに溶解し、これを氷冷して内温を１０〜２０
℃に保つように臭素４７９．４ｇを１時間かけて滴下
し、反応を行った。滴下終了後、１時間そのまま撹拌を
続行して反応を行った。反応混合液に１０％炭酸ナトリ
ウム水２ｌ、クロロホルム２ｌを入れ抽出を行った。ク
ロロホルム層を１．６ｌの水で２回洗い、クロロホルム
層を減圧濃縮して、乾固物６７０．０ｇを得た。これに
ｎ−ヘキサン１．７ｌを加えて再結晶を行い、標題化合
物の結晶２８２．８ｇを得た。
ム２．２ｌに溶解し、これを氷冷して内温を１０〜２０
℃に保つように臭素４７９．４ｇを１時間かけて滴下
し、反応を行った。滴下終了後、１時間そのまま撹拌を
続行して反応を行った。反応混合液に１０％炭酸ナトリ
ウム水２ｌ、クロロホルム２ｌを入れ抽出を行った。ク
ロロホルム層を１．６ｌの水で２回洗い、クロロホルム
層を減圧濃縮して、乾固物６７０．０ｇを得た。これに
ｎ−ヘキサン１．７ｌを加えて再結晶を行い、標題化合
物の結晶２８２．８ｇを得た。
【００４７】（２）２，３，６−トリメトキシ−ｐ−ク
レゾールの製造
レゾールの製造
【００４８】
【化２０】
【００４９】（１）で得られた２，３，６−トリブロモ
−ｐ−クレゾール５６５．６グラム、ヨウ化銅６５．６
ｇ、ジメチルフラン２２６mlからなる混合物を加熱し、
ナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液3980ｇを
1度に注入した。徐々に加熱して反応を進めた。７５℃
位からメタノールが留出し始め、８５℃位で発泡が起こ
った。４５分で発泡が終了し、反応が終了した。冷却
後、水３．２ｌを入れ、酢酸エチル３．２ｌで抽出し
た。水層を酢酸エチル３．２ｌで再抽出し、酢酸エチル
層を合一し、４．８ｌの水で２回洗った。酢酸エチル層
を減圧濃縮し、２８５．８ｇの標題化合物を得た。
−ｐ−クレゾール５６５．６グラム、ヨウ化銅６５．６
ｇ、ジメチルフラン２２６mlからなる混合物を加熱し、
ナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液3980ｇを
1度に注入した。徐々に加熱して反応を進めた。７５℃
位からメタノールが留出し始め、８５℃位で発泡が起こ
った。４５分で発泡が終了し、反応が終了した。冷却
後、水３．２ｌを入れ、酢酸エチル３．２ｌで抽出し
た。水層を酢酸エチル３．２ｌで再抽出し、酢酸エチル
層を合一し、４．８ｌの水で２回洗った。酢酸エチル層
を減圧濃縮し、２８５．８ｇの標題化合物を得た。
【００５０】（３）２，３，４，５−テトラメトキシト
ルエンの製造
ルエンの製造
【００５１】
【化２１】
【００５２】（２）で得られた２，３，６−トリメトキ
シ−ｐ−クレゾールをアセトン２．４ｌに溶解し、水酸
化カリウム９６．４ｇを加え、ジメチル硫酸２１６．８
ｇを撹拌下滴下した。内温は２０℃から５０℃に上昇
し、反応は３０分で終了した。反応液に水２．４ｌ、ジ
クロロメタン２．４ｌを入れて抽出した。ジクロロメタ
ン層を３．６ｌの水で３回洗い、ジクロロメタン層を減
圧濃縮し、粗生成物２９６．２ｇを得た。これをシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付した（溶出溶媒：ｎ−ヘキ
サン−イソプロピルエーテル系）。メイン分画を濃縮し
標題化合物２４５．８ｇを得た。
シ−ｐ−クレゾールをアセトン２．４ｌに溶解し、水酸
化カリウム９６．４ｇを加え、ジメチル硫酸２１６．８
ｇを撹拌下滴下した。内温は２０℃から５０℃に上昇
し、反応は３０分で終了した。反応液に水２．４ｌ、ジ
クロロメタン２．４ｌを入れて抽出した。ジクロロメタ
ン層を３．６ｌの水で３回洗い、ジクロロメタン層を減
圧濃縮し、粗生成物２９６．２ｇを得た。これをシリカ
ゲルクロマトグラフィーに付した（溶出溶媒：ｎ−ヘキ
サン−イソプロピルエーテル系）。メイン分画を濃縮し
標題化合物２４５．８ｇを得た。
【００５３】（４）６−メチル−２，３，４，５−テト
ラメトキシベンズアルデヒドの製造
ラメトキシベンズアルデヒドの製造
【００５４】
【化２２】
【００５５】（３）で得られた２，３，４，５−テトラ
メトキシトルエン１５０ｇ、トリフルオロ酢酸１．８ｌ
を混合し、均一に溶解した後撹拌下ヘキサメチレンテト
ラミンを加え、８０〜９０℃まで加熱した。２時間加熱
還流を行った後、常圧にてトリフルオロ酢酸を加熱留去
した。留出中、内温は８５℃から徐々に上昇し１１０℃
となった時点で留出が終わった。濃縮液を冷却後、水４
ｌに溶解し無水炭酸ナトリウムにてｐＨ８位までにし、
ついで酢酸エチル２ｌで抽出し、有機層を合一し無水硫
酸マグネシウムにて乾燥後溶媒を減圧留去して、標題化
合物１７７．１ｇを得た。
メトキシトルエン１５０ｇ、トリフルオロ酢酸１．８ｌ
を混合し、均一に溶解した後撹拌下ヘキサメチレンテト
ラミンを加え、８０〜９０℃まで加熱した。２時間加熱
還流を行った後、常圧にてトリフルオロ酢酸を加熱留去
した。留出中、内温は８５℃から徐々に上昇し１１０℃
となった時点で留出が終わった。濃縮液を冷却後、水４
ｌに溶解し無水炭酸ナトリウムにてｐＨ８位までにし、
ついで酢酸エチル２ｌで抽出し、有機層を合一し無水硫
酸マグネシウムにて乾燥後溶媒を減圧留去して、標題化
合物１７７．１ｇを得た。
【００５６】（５）（Ｅ）−３−［５−（６−メチル−
１，２，３，４−テトラメトキシ）フェニル］−２−ノ
ニル−２−プロペン酸エチルの製造
１，２，３，４−テトラメトキシ）フェニル］−２−ノ
ニル−２−プロペン酸エチルの製造
【００５７】
【化２３】
【００５８】（４）で得られた６−メチル−２，３，
４，５−テトラメトキシベンズアルデヒド、２−ジエチ
ルホスホノウンデカノン酸エチル３８７．９ｇ、トルエ
ン１．８ｌの混合液に２８％ナトリウムメチラートメタ
ノ−ル溶液を滴下する。内温が１０℃位上昇した後５５
〜６０℃に加熱して撹拌した。約３．５時間反応後冷却
した。イソプロピルエーテル１．８ｌ、ジエチルエーテ
ル０．３ｌを加えて、水３．６ｌにて洗った。水層をイ
ソプロピルエーテル８００mlにて再抽出した。有機層を
合一し、５％食塩水２ｌで３回洗った。減圧濃縮後、３
７４．６ｇの黄色粘性液を得た。
４，５−テトラメトキシベンズアルデヒド、２−ジエチ
ルホスホノウンデカノン酸エチル３８７．９ｇ、トルエ
ン１．８ｌの混合液に２８％ナトリウムメチラートメタ
ノ−ル溶液を滴下する。内温が１０℃位上昇した後５５
〜６０℃に加熱して撹拌した。約３．５時間反応後冷却
した。イソプロピルエーテル１．８ｌ、ジエチルエーテ
ル０．３ｌを加えて、水３．６ｌにて洗った。水層をイ
ソプロピルエーテル８００mlにて再抽出した。有機層を
合一し、５％食塩水２ｌで３回洗った。減圧濃縮後、３
７４．６ｇの黄色粘性液を得た。
【００５９】（６）（Ｅ）−３−［５−（６−メチル−
１，２，３，４−テトラメトキシフェニル］−２−ノニ
ル−２−プロペン酸の製造
１，２，３，４−テトラメトキシフェニル］−２−ノニ
ル−２−プロペン酸の製造
【００６０】
【化２４】
【００６１】（５）で得られた（Ｅ）−３−［５−（６
−メチル−１，２，３，４−テトラメトキシフェニル］
−２−ノニル−２−プロペン酸エチルをエタノール２リ
ットルに溶解し、水酸化ナトリウム８０．５グラム、水
１２０ミリリットルからなる溶液を加え、３時間加熱還
流した。反応が進行するにつれて、白色沈殿物が析出し
た。氷冷後、反応液をろ過し、白色不溶物を除去した。
得られたろ液に水２リットルを加えて２リットルのｎ−
ヘキサンで３回洗浄した。次いで水相を濃塩酸１７０ミ
リリットルで酸性にした。これに酢酸エチル２リットル
を加え、水２リットルで洗浄した。溶媒を減圧下留去し
２２１．６グラムの黄色粘性液を得た。
−メチル−１，２，３，４−テトラメトキシフェニル］
−２−ノニル−２−プロペン酸エチルをエタノール２リ
ットルに溶解し、水酸化ナトリウム８０．５グラム、水
１２０ミリリットルからなる溶液を加え、３時間加熱還
流した。反応が進行するにつれて、白色沈殿物が析出し
た。氷冷後、反応液をろ過し、白色不溶物を除去した。
得られたろ液に水２リットルを加えて２リットルのｎ−
ヘキサンで３回洗浄した。次いで水相を濃塩酸１７０ミ
リリットルで酸性にした。これに酢酸エチル２リットル
を加え、水２リットルで洗浄した。溶媒を減圧下留去し
２２１．６グラムの黄色粘性液を得た。
【００６２】（７）（Ｅ）−３−（２，３−ジメトキシ
−６−メチル−１，４−ベンゾキノン−５−イル）−２
−ノニル−２−プロペン酸の製造（本発明方法）
−６−メチル−１，４−ベンゾキノン−５−イル）−２
−ノニル−２−プロペン酸の製造（本発明方法）
【００６３】
【化２５】
【００６４】（６）で得られた（Ｅ）−３−［５−（６
−メチル−１，２，３，４−テトラメトキシ）フェニ
ル］−２−ノニル−２−プロペン酸２２１．６グラム、
酢酸エチル１．１リットル、酢酸１．１リットルの混合
液を食塩−氷で冷却した。冷却中に濃塩酸５．５グラム
を加えた。２℃まで冷却された時点で濃硝酸１４０．０
グラムを５℃以下に保ちながら３０分かけて滴下した。
滴下終了後、反応容器を５℃の部屋に移し約１４時間撹
拌した。その後部屋を移し室温で４．５時間反応させて
反応を完結させた。
−メチル−１，２，３，４−テトラメトキシ）フェニ
ル］−２−ノニル−２−プロペン酸２２１．６グラム、
酢酸エチル１．１リットル、酢酸１．１リットルの混合
液を食塩−氷で冷却した。冷却中に濃塩酸５．５グラム
を加えた。２℃まで冷却された時点で濃硝酸１４０．０
グラムを５℃以下に保ちながら３０分かけて滴下した。
滴下終了後、反応容器を５℃の部屋に移し約１４時間撹
拌した。その後部屋を移し室温で４．５時間反応させて
反応を完結させた。
【００６５】反応液に酢酸エチル１．１リットル、水
３．３リットルを加えて抽出した。得られた酢酸エチル
層を２リットルの５％食塩水で３回洗浄した。溶媒留去
後トルエン４５０ミリリットルに溶解し氷冷後ろ過し、
ろ液を減圧濃縮し赤黒色粘性物２１３．７グラムを得
た。これを４１４ミリリットルのトルエンに溶解し、シ
リカゲルクロマトグラフィーで精製した（溶出溶媒：ト
ルエン−酢酸エチル系）。メイン分画を合一し、濃縮し
て１２６．３グラムの濃縮残渣を得た。この濃縮残渣１
２６．３グラムをｎ−ヘキサン６２０ミリットルに溶解
させ、室温にて結晶化を行い、析出した結晶をろ取し
た。
３．３リットルを加えて抽出した。得られた酢酸エチル
層を２リットルの５％食塩水で３回洗浄した。溶媒留去
後トルエン４５０ミリリットルに溶解し氷冷後ろ過し、
ろ液を減圧濃縮し赤黒色粘性物２１３．７グラムを得
た。これを４１４ミリリットルのトルエンに溶解し、シ
リカゲルクロマトグラフィーで精製した（溶出溶媒：ト
ルエン−酢酸エチル系）。メイン分画を合一し、濃縮し
て１２６．３グラムの濃縮残渣を得た。この濃縮残渣１
２６．３グラムをｎ−ヘキサン６２０ミリットルに溶解
させ、室温にて結晶化を行い、析出した結晶をろ取し
た。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (14)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 を、必要ならば塩酸を触媒として用いて、硝酸により酸
化し、一般式（II） 【化２】 を製造するキノン化合物の製造方法。 - 【請求項２】 R1が、水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基である、請求項１記載のキノン化合物の
製造方法。 - 【請求項３】 R2が、水素原子、低級アルキル基、低
級アルコキシ基である請求項１記載のキノン化合物の製
造方法。 - 【請求項４】 R4が、水素原子、低級アルキル基また
は低級アルコキシ基である請求項１記載のキノン化合物
の製造方法。 - 【請求項５】 R3が、式 【化３】 で示される基である請求項１記載のキノン化合物の製造
方法。 - 【請求項６】 R3が、式 【化４】 で示される基である請求項１の記載のキノン化合物の製
造方法。 - 【請求項７】 R1が、水素原子、メチル基またはメト
キシ基である請求項２記載のキノン化合物の製造方法。 - 【請求項８】 R2が、水素原子、メチル基またはメト
キシ基である請求項３記載のキノン化合物の製造方法。 - 【請求項９】 R4が、水素原子、メチル基またはメト
キシ基である請求項４記載のキノン化合物の製造方法。 - 【請求項１０】 R3が、式 【化５】 で示される基である請求項５記載のキノン化合物の製造
方法。 - 【請求項１１】 R1がメトキシ基、R2がメトキシ基、
R3が式 【化６】 で示される基、R4がメチル基であり、Ｘ，Ｙがメトキシ
基である請求項１記載のキノン化合物の製造方法。 - 【請求項１２】 R1がメチル基、R2が水素原子、R3が
式 【化７】 で示される基、R4がメチル基であり、Ｘ，Ｙがメトキシ
基である請求項１記載のキノン化合物の製造方法。 - 【請求項１３】 R1がメトキシ基、R2がメチル基、R3
が式 【化８】 で示される基、R4がメチル基、Ｘ，Ｙがメトキシ基であ
る請求項１記載のキノン化合物の製造方法。 - 【請求項１４】 R1，R2がメトキシ基、R3が水素原
子、R4がメチル基、Ｘ，Ｙがメトキシ基である請求項１
記載のキノン化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3318601A JPH05148183A (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | キノン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3318601A JPH05148183A (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | キノン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05148183A true JPH05148183A (ja) | 1993-06-15 |
Family
ID=18100961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3318601A Pending JPH05148183A (ja) | 1991-11-07 | 1991-11-07 | キノン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05148183A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004044A1 (fr) * | 1993-07-30 | 1995-02-09 | Eisai Co., Ltd. | Procede de production de derives d'hydroquinone et de benzoquinone |
| US5637716A (en) * | 1993-07-30 | 1997-06-10 | Eisai Co., Ltd. | Processes for the preparation of hydroquinone and benzoquinone derivatives |
| KR100352081B1 (ko) * | 1999-12-27 | 2002-09-12 | 동양제철화학 주식회사 | 방향족 퀴논 및 케톤의 제조방법 |
-
1991
- 1991-11-07 JP JP3318601A patent/JPH05148183A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1995004044A1 (fr) * | 1993-07-30 | 1995-02-09 | Eisai Co., Ltd. | Procede de production de derives d'hydroquinone et de benzoquinone |
| US5637716A (en) * | 1993-07-30 | 1997-06-10 | Eisai Co., Ltd. | Processes for the preparation of hydroquinone and benzoquinone derivatives |
| KR100352081B1 (ko) * | 1999-12-27 | 2002-09-12 | 동양제철화학 주식회사 | 방향족 퀴논 및 케톤의 제조방법 |
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