JPH05140182A - 5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法 - Google Patents
5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法Info
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- JPH05140182A JPH05140182A JP3332800A JP33280091A JPH05140182A JP H05140182 A JPH05140182 A JP H05140182A JP 3332800 A JP3332800 A JP 3332800A JP 33280091 A JP33280091 A JP 33280091A JP H05140182 A JPH05140182 A JP H05140182A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡便、効率の良い、高純度の、かつ大量生産
に適した、5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導
体の製造方法を提供すること 【構成】 3′−置換−5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジンとリン酸モノエステル類とを縮合剤の存在下反
応せしめる、下記式〔I〕で表される5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体の製造法において、該反
応物に水を加え、次いで得られる水層のpHを5.0以
上にして該水層から非酸性部分を除去したのち、該水層
に酢酸エチルなどの抽出溶媒を加えそのpHを3.0以
下にして抽出する。 【化1】
に適した、5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導
体の製造方法を提供すること 【構成】 3′−置換−5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジンとリン酸モノエステル類とを縮合剤の存在下反
応せしめる、下記式〔I〕で表される5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体の製造法において、該反
応物に水を加え、次いで得られる水層のpHを5.0以
上にして該水層から非酸性部分を除去したのち、該水層
に酢酸エチルなどの抽出溶媒を加えそのpHを3.0以
下にして抽出する。 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は5−フルオロ−2′−デ
オキシウリジン誘導体の製造方法に関する。さらに詳細
には、本発明は、3′−置換−5−フルオロ−2′−デ
オキシウリジンとリン酸モノエステル類とを縮合剤の存
在下反応せしめ、次いで得られた目的物を一定条件下で
単離する、5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導
体の製造方法に関する。
オキシウリジン誘導体の製造方法に関する。さらに詳細
には、本発明は、3′−置換−5−フルオロ−2′−デ
オキシウリジンとリン酸モノエステル類とを縮合剤の存
在下反応せしめ、次いで得られた目的物を一定条件下で
単離する、5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導
体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】制癌剤5−フルオロウラシル(5−F
U)は乳ガン、胃ガン、膵ガン、肝ガン、子宮ガンなど
の広い範囲の悪性腫瘍に対して単独または他剤との併用
などで用いられている。この5−FUの有効性、副作
用、体内動態などの面の改善を目的として種々の誘導体
が作られており、そのような5−FU誘導体として、強
力な制癌作用を有し、しかも経口投与においても有効な
ものとして、5′位にホスホジエステル結合を有する5
−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体が知られて
いる(特開昭59−93096号公報)。
U)は乳ガン、胃ガン、膵ガン、肝ガン、子宮ガンなど
の広い範囲の悪性腫瘍に対して単独または他剤との併用
などで用いられている。この5−FUの有効性、副作
用、体内動態などの面の改善を目的として種々の誘導体
が作られており、そのような5−FU誘導体として、強
力な制癌作用を有し、しかも経口投与においても有効な
ものとして、5′位にホスホジエステル結合を有する5
−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体が知られて
いる(特開昭59−93096号公報)。
【0003】この特開昭59−93096号公報によれ
ば、かかる5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導
体の製造方法として、まず3′−置換−5−フルオロ−
2′−デオキシウリジンとリン酸モノエステル類とを縮
合剤の存在下反応せしめ、必要に応じて保護基を除去す
ることにより得る方法が開示されている。そして、この
ようにして得られた5−フルオロ−2′−デオキシウリ
ジン誘導体生成物を抽出、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、高速
液体クロマトグラフィー、再結晶などの通常の操作を適
宜選択、組合せて目的物を単離する方法が記載されてい
る。
ば、かかる5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導
体の製造方法として、まず3′−置換−5−フルオロ−
2′−デオキシウリジンとリン酸モノエステル類とを縮
合剤の存在下反応せしめ、必要に応じて保護基を除去す
ることにより得る方法が開示されている。そして、この
ようにして得られた5−フルオロ−2′−デオキシウリ
ジン誘導体生成物を抽出、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、高速
液体クロマトグラフィー、再結晶などの通常の操作を適
宜選択、組合せて目的物を単離する方法が記載されてい
る。
【0004】しかしながら、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、あ
るいは高速液体クロマトグラフィーを用いる従来の単離
方法では、大量生産をするには膨大な設備および煩雑な
操作が必要となり、工業的生産法としては問題があっ
た。また、前記公報には、抽出法が挙げられているが、
本方法においては、通常の抽出操作では目的物以外の副
産物も抽出されるので、再度クロマトグラフィーなどに
よる精製が必要となり、有効な手段とはなりえない。
グラフィー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、あ
るいは高速液体クロマトグラフィーを用いる従来の単離
方法では、大量生産をするには膨大な設備および煩雑な
操作が必要となり、工業的生産法としては問題があっ
た。また、前記公報には、抽出法が挙げられているが、
本方法においては、通常の抽出操作では目的物以外の副
産物も抽出されるので、再度クロマトグラフィーなどに
よる精製が必要となり、有効な手段とはなりえない。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記5−フ
ルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体の製造法により
該化合物を大量生産するにあたり、各種クロマトグラフ
ィーなどの煩雑、かつ膨大な設備を必要としない、簡便
な精製法を提供することを目的とする。
ルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体の製造法により
該化合物を大量生産するにあたり、各種クロマトグラフ
ィーなどの煩雑、かつ膨大な設備を必要としない、簡便
な精製法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記式 [II]
【化4】 (式中、Rはアルコールの保護基を表す。)で表される
3′−置換−5−フルオロ−2′−デオキシウリジン
と、下記式 [III]
3′−置換−5−フルオロ−2′−デオキシウリジン
と、下記式 [III]
【化5】 (式中、Aは炭素数1〜3の飽和または不飽和の2価の
脂肪族炭化水素基を表す。nは0または1を表し、nが
0の場合はYは酸素原子に直接結合していることを示
す。Yは水素原子、フェニル基または置換フェニル基を
表す。ただし、Yが水素原子の場合には、nは1であ
る。)で表されるリン酸モノエステル類とを縮合剤の存
在下反応せしめる下記式〔I〕
脂肪族炭化水素基を表す。nは0または1を表し、nが
0の場合はYは酸素原子に直接結合していることを示
す。Yは水素原子、フェニル基または置換フェニル基を
表す。ただし、Yが水素原子の場合には、nは1であ
る。)で表されるリン酸モノエステル類とを縮合剤の存
在下反応せしめる下記式〔I〕
【化6】 (式中、A、n、YおよびRは前記式 [II] および [II
I]の定義と同じである。)で表される5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法において、縮
合剤の存在下反応させて得られたのち、水を加え、次い
で得られる水相のpHを5.0以上にして該水層から非
酸性部分を除去したのち、該水相のpHを3.0以下に
して5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体を抽
出することを特徴とする5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン誘導体の製造方法である。
I]の定義と同じである。)で表される5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法において、縮
合剤の存在下反応させて得られたのち、水を加え、次い
で得られる水相のpHを5.0以上にして該水層から非
酸性部分を除去したのち、該水相のpHを3.0以下に
して5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体を抽
出することを特徴とする5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン誘導体の製造方法である。
【0007】前記式〔I〕および〔II〕において、Rは
アルコールの保護基を表すが、かかる保護基としては、
例えばホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブタ
ノイル基、イソブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサ
ノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、テトラデカ
ノイル基、オクタデカノイル基、ベンゾイル基、トルオ
イル基、p−クロロベンゾイル基などのアシル基;テト
ラヒドロピラニル基、テトラヒドロフリル基、2,2,
2−トリクロロエチル基、メトキシメチル基、1−エト
キシエチル基、4−メトキシ−4−ピラニル基、トリメ
チルシリル基、ジメチル−t−ブチルシリル基、t−ブ
チル−ジフェニルシリル基などのエーテル基などが挙げ
られる。これらの中でも、炭素数1〜10のアシル基が
好ましい。
アルコールの保護基を表すが、かかる保護基としては、
例えばホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブタ
ノイル基、イソブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサ
ノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、テトラデカ
ノイル基、オクタデカノイル基、ベンゾイル基、トルオ
イル基、p−クロロベンゾイル基などのアシル基;テト
ラヒドロピラニル基、テトラヒドロフリル基、2,2,
2−トリクロロエチル基、メトキシメチル基、1−エト
キシエチル基、4−メトキシ−4−ピラニル基、トリメ
チルシリル基、ジメチル−t−ブチルシリル基、t−ブ
チル−ジフェニルシリル基などのエーテル基などが挙げ
られる。これらの中でも、炭素数1〜10のアシル基が
好ましい。
【0008】また、前記式〔I〕および〔III]におい
て、Aは炭素数1〜30、好ましくは3〜24の飽和ま
たは不飽和の2価の脂肪族炭化水素基を表す。脂肪族炭
化水素基は、直鎖状のものであっても分岐を有している
ものであってもよい。不飽和の脂肪族炭化水素とは、分
子中の任意の位置に、二重結合または三重結合を1〜5
個、好ましくは1〜3個有するものをいう。
て、Aは炭素数1〜30、好ましくは3〜24の飽和ま
たは不飽和の2価の脂肪族炭化水素基を表す。脂肪族炭
化水素基は、直鎖状のものであっても分岐を有している
ものであってもよい。不飽和の脂肪族炭化水素とは、分
子中の任意の位置に、二重結合または三重結合を1〜5
個、好ましくは1〜3個有するものをいう。
【0009】一般式〔I〕のYが水素原子の場合、基Y
−(A)n −はH−A−と表されるが、これは炭素数が
1〜30個の飽和または不飽和の1価の脂肪族炭化水素
基を表す。
−(A)n −はH−A−と表されるが、これは炭素数が
1〜30個の飽和または不飽和の1価の脂肪族炭化水素
基を表す。
【0010】飽和の脂肪族炭化水素基の例としては、例
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基(C11)、ドデシル基(C12)、トリ
デシル基(C13)、テトラデシル基(C14)、ペンタデ
シル基(C15)、ヘキサデシル基(C16)、ヘプタデシ
ル基(C17)、オクタデシル基(C18)、ノナデシル基
(C19)、エイコデシル基(C20)、ヘンエイコデシル
基(C21)、ドコシル基(C22)、トリコシル基
(C23)、テトラコシル基(C24)、ペンタコシル基
(C25)、ヘキサコシル基(C26)、ヘプタコシル基
(C27)、オクタコシル基(C28)、ノナコシル基(C
29)、トリアコンチル基(C30)、イソプロピル基、イ
ソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、
イソペンチル基、2−ウンデシル基、2−メチル−2−
ウンデシル基、3−ドデシル基、2−テトラデシル基、
2−メチル−2−テトラデシル基、4−メチル−2−テ
トラデシル基、2−ペンタデシル基、2−メチル−2−
ペンタデシル基、2−メチル−3−ヘキサデシル基、2
−ヘプタデシル基、2−メチル−2−ヘプタデシル基、
2−ノナデシル基、2−メチル−2−ノナデシル基、3
−メチル−3−エイコシル基、2−ヘンエイコシル基、
2−メチル−2−ヘンエイコシル基、2−トリコシル
基、2−メチル−2−トリコシル基、4,6−ジメチル
−2−トリコシル基などをあげることができるがこれに
限定されるものではない。
えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基(C11)、ドデシル基(C12)、トリ
デシル基(C13)、テトラデシル基(C14)、ペンタデ
シル基(C15)、ヘキサデシル基(C16)、ヘプタデシ
ル基(C17)、オクタデシル基(C18)、ノナデシル基
(C19)、エイコデシル基(C20)、ヘンエイコデシル
基(C21)、ドコシル基(C22)、トリコシル基
(C23)、テトラコシル基(C24)、ペンタコシル基
(C25)、ヘキサコシル基(C26)、ヘプタコシル基
(C27)、オクタコシル基(C28)、ノナコシル基(C
29)、トリアコンチル基(C30)、イソプロピル基、イ
ソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、
イソペンチル基、2−ウンデシル基、2−メチル−2−
ウンデシル基、3−ドデシル基、2−テトラデシル基、
2−メチル−2−テトラデシル基、4−メチル−2−テ
トラデシル基、2−ペンタデシル基、2−メチル−2−
ペンタデシル基、2−メチル−3−ヘキサデシル基、2
−ヘプタデシル基、2−メチル−2−ヘプタデシル基、
2−ノナデシル基、2−メチル−2−ノナデシル基、3
−メチル−3−エイコシル基、2−ヘンエイコシル基、
2−メチル−2−ヘンエイコシル基、2−トリコシル
基、2−メチル−2−トリコシル基、4,6−ジメチル
−2−トリコシル基などをあげることができるがこれに
限定されるものではない。
【0011】不飽和の脂肪族炭化水素基の例としては、
例えば、アリル基、3−ブテニル基、イソブテニル基、
2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−オクテニル
基、2−オクテニル基、3−ノネニル基、2−デセニル
基、2−ドデセニル基、2−トリデセニル基、4−テト
ラデセニル基、4−ペンタデセニル基、2−ヘキサデセ
ニル基、9−ヘキサデセニル基、シス−6−オクタデセ
ニル基、シス−9−オクタデセニル基、トランス−11
−オクタデセニル基、2−エイコセニル基、2−トリア
コンテニル基、ゲラニル基、2,5−デカジエニル基、
2,5,8−テトラデカトリエニル基、リノリル基、リ
ノレニル基、アラキドニル基、エイコサペンタエニル
基、プロピニル基、3−ブチニル基、3−ペンチニル
基、4−オクチニル基、2−デシニル基、3−テトラデ
シニル基、3,5−テトラデカジエニル基、3−オクタ
デシニル基、4−エイコシニル基、エイコペンタイニル
基、テトラデカ−3−エン−6−イニル基、オクタデカ
−3−エン−6−イニル基が挙げられる。
例えば、アリル基、3−ブテニル基、イソブテニル基、
2−ヘキセニル基、3−ヘキセニル基、4−オクテニル
基、2−オクテニル基、3−ノネニル基、2−デセニル
基、2−ドデセニル基、2−トリデセニル基、4−テト
ラデセニル基、4−ペンタデセニル基、2−ヘキサデセ
ニル基、9−ヘキサデセニル基、シス−6−オクタデセ
ニル基、シス−9−オクタデセニル基、トランス−11
−オクタデセニル基、2−エイコセニル基、2−トリア
コンテニル基、ゲラニル基、2,5−デカジエニル基、
2,5,8−テトラデカトリエニル基、リノリル基、リ
ノレニル基、アラキドニル基、エイコサペンタエニル
基、プロピニル基、3−ブチニル基、3−ペンチニル
基、4−オクチニル基、2−デシニル基、3−テトラデ
シニル基、3,5−テトラデカジエニル基、3−オクタ
デシニル基、4−エイコシニル基、エイコペンタイニル
基、テトラデカ−3−エン−6−イニル基、オクタデカ
−3−エン−6−イニル基が挙げられる。
【0012】これらのなかでも好ましいのは、炭素数が
8〜24個の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基であ
る。
8〜24個の飽和または不飽和の脂肪族炭化水素基であ
る。
【0013】一般式〔I〕のYがフェニル基の場合、基
Y−(A)n −は、C6 H5 −またはC6 H5 −A−と
表されるが、後者の例としては、例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、2−フェニル
プロピル基、4−フェニルブチル基、5−フェニルペン
チル基、3−フェニルペンチル基、6−フェニルヘキシ
ル基、7−フェニルヘプチル基、8−フェニルオクチル
基、9−フェニルノニル基、10−フェニルデシル基、
12−フェニルウンデシル基、14−フェニルテトラデ
シル基、16−フェニルヘキサデシル基、20−フェニ
ルエイコシル基、シンナミル基、4−フェニル−3−ブ
テニル基、6−フェニル−2−ヘキセニル基、5−フェ
ニル−3−ヘキセニル基、8−フェニル−3−オクテニ
ル基、7−フェニル−3−オクテニル基、9−フェニル
−3−ノネニル基、10−フェニル−2−デセニル基、
14−フェニル−3−テトラデセニル基、6−フェニル
−2,4−ヘキサジエニル基、8−フェニル−3,6−
オクタジエニル基、11−フェニル−2,5,8−ウン
デカトリエニル基、18−フェニル−2,6,10,1
4−オクタデカテトラエニル基、3−フェニル−2−プ
ロピニル基、4−フェニル−2−ブチニル基、6−フェ
ニル−3−ヘキシニル基、8−フェニル−3−オクチニ
ル基、8−フェニル−5−オクチニル基、10−フェニ
ル−2−デシニル基、14−フェニル−3−テトラデシ
ニル基、18−フェニル−3−テトラデシニル基、6−
フェニル−2,4−ヘキサジイニル基、6−フェニルヘ
キサ−2−エン−4−イニル基、8−フェニル−2,5
−オクタジイニル基、10−フェニル−デカ−2,5−
ジエン−8−イニル基、14−フェニル−2,5,8−
テトラデカトリイニル基が挙げられる。
Y−(A)n −は、C6 H5 −またはC6 H5 −A−と
表されるが、後者の例としては、例えば、ベンジル基、
フェネチル基、3−フェニルプロピル基、2−フェニル
プロピル基、4−フェニルブチル基、5−フェニルペン
チル基、3−フェニルペンチル基、6−フェニルヘキシ
ル基、7−フェニルヘプチル基、8−フェニルオクチル
基、9−フェニルノニル基、10−フェニルデシル基、
12−フェニルウンデシル基、14−フェニルテトラデ
シル基、16−フェニルヘキサデシル基、20−フェニ
ルエイコシル基、シンナミル基、4−フェニル−3−ブ
テニル基、6−フェニル−2−ヘキセニル基、5−フェ
ニル−3−ヘキセニル基、8−フェニル−3−オクテニ
ル基、7−フェニル−3−オクテニル基、9−フェニル
−3−ノネニル基、10−フェニル−2−デセニル基、
14−フェニル−3−テトラデセニル基、6−フェニル
−2,4−ヘキサジエニル基、8−フェニル−3,6−
オクタジエニル基、11−フェニル−2,5,8−ウン
デカトリエニル基、18−フェニル−2,6,10,1
4−オクタデカテトラエニル基、3−フェニル−2−プ
ロピニル基、4−フェニル−2−ブチニル基、6−フェ
ニル−3−ヘキシニル基、8−フェニル−3−オクチニ
ル基、8−フェニル−5−オクチニル基、10−フェニ
ル−2−デシニル基、14−フェニル−3−テトラデシ
ニル基、18−フェニル−3−テトラデシニル基、6−
フェニル−2,4−ヘキサジイニル基、6−フェニルヘ
キサ−2−エン−4−イニル基、8−フェニル−2,5
−オクタジイニル基、10−フェニル−デカ−2,5−
ジエン−8−イニル基、14−フェニル−2,5,8−
テトラデカトリイニル基が挙げられる。
【0014】一般式〔I〕のYが置換フェニル基の場
合、この置換フェニル基は、前記C6 H5 −A−のフェ
ニル基上に1〜5個の置換基を導入したものである。置
換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜20の直鎖状
または分岐を有する飽和または不飽和の脂肪族炭化水素
基、炭素数1〜20の直鎖状または分岐を有するアシル
基および不飽和アシル基、炭素数1〜10の直鎖状また
は分岐を有するアルキルオキシ基および不飽和アルキル
オキシ基、炭素数1〜10の直鎖状または分岐を有する
アシルオキシ基および不飽和アシルオキシ基などが挙げ
られる。
合、この置換フェニル基は、前記C6 H5 −A−のフェ
ニル基上に1〜5個の置換基を導入したものである。置
換基としては、ハロゲン原子、炭素数1〜20の直鎖状
または分岐を有する飽和または不飽和の脂肪族炭化水素
基、炭素数1〜20の直鎖状または分岐を有するアシル
基および不飽和アシル基、炭素数1〜10の直鎖状また
は分岐を有するアルキルオキシ基および不飽和アルキル
オキシ基、炭素数1〜10の直鎖状または分岐を有する
アシルオキシ基および不飽和アシルオキシ基などが挙げ
られる。
【0015】さらに具体的には、フッ素、塩素、臭素、
ヨウ素のハロゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチ
ル基、3−メチルブチル基、ヘキシル基、2−ヘキシル
基、ヘプチル基、3−ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、オクタデ
シル基、8−エチルデシル基、3−ブチル−テトラデシ
ル基などのアルキル基;ビニル基、アリル基、3−ブテ
ニル基、イソペンテニル基、3−ヘキセニル基、4−デ
セニル基、6−テトラデセニル基、3−メチル−4−オ
クテニル基、7−エチル−5−メチル−3−デセニル
基、2,4−ヘキサジエニル基、エチニル基、プロパギ
ル基、3−ブチニル基、2−ペンチニル基、6−オクチ
ニル基、5−デシニル基、3,5−デカジイニル基など
の不飽和脂肪族炭化水素基;ホルミル基、アセチル基、
プロパノイル基、ブタノイル基、イソブタノイル基、ペ
ンタノイル基、ビバロイル基、ヘキサノイル基、オクタ
ノイル基、6−メチルヘプタノイル基、デカノイル基、
テトラデカノイル基、オクタデカノイル基、アクリロイ
ル基、2−ブテノイル基、4−ヘキセノイル基、5−デ
シノイル基などのアシル基;メトキシ基、エトキシ基、
プロピルオキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、デシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ
基、イソアミルオキシ基、4−エチルヘキシルオキシ
基、3−プロピルヘプチルオキシ基、アリルオキシ基、
2−ブテニルオキシ基、イソペンテニルオキシ基、プロ
パギルオキシ基、3−オクチニルオキシ基、プロパノイ
ルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ
基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オ
クタニオイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基、2−ブテノイルオ
キシ基、4−ヘキセノイルオキシ基、5−デシノイルオ
キシ基などのアシルオキシ基が例示される。置換基とし
て好ましいのは、ハロゲン、炭素数1〜8個のアルキル
基または炭素数1〜8個のアシル基である。
ヨウ素のハロゲン原子;メチル基、エチル基、プロピル
基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基、ペンチ
ル基、3−メチルブチル基、ヘキシル基、2−ヘキシル
基、ヘプチル基、3−ヘプチル基、オクチル基、ノニル
基、デシル基、ドデシル基、テトラデシル基、オクタデ
シル基、8−エチルデシル基、3−ブチル−テトラデシ
ル基などのアルキル基;ビニル基、アリル基、3−ブテ
ニル基、イソペンテニル基、3−ヘキセニル基、4−デ
セニル基、6−テトラデセニル基、3−メチル−4−オ
クテニル基、7−エチル−5−メチル−3−デセニル
基、2,4−ヘキサジエニル基、エチニル基、プロパギ
ル基、3−ブチニル基、2−ペンチニル基、6−オクチ
ニル基、5−デシニル基、3,5−デカジイニル基など
の不飽和脂肪族炭化水素基;ホルミル基、アセチル基、
プロパノイル基、ブタノイル基、イソブタノイル基、ペ
ンタノイル基、ビバロイル基、ヘキサノイル基、オクタ
ノイル基、6−メチルヘプタノイル基、デカノイル基、
テトラデカノイル基、オクタデカノイル基、アクリロイ
ル基、2−ブテノイル基、4−ヘキセノイル基、5−デ
シノイル基などのアシル基;メトキシ基、エトキシ基、
プロピルオキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘ
キシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ
基、デシルオキシ基、イソプロポキシ基、イソブトキシ
基、イソアミルオキシ基、4−エチルヘキシルオキシ
基、3−プロピルヘプチルオキシ基、アリルオキシ基、
2−ブテニルオキシ基、イソペンテニルオキシ基、プロ
パギルオキシ基、3−オクチニルオキシ基、プロパノイ
ルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ピバロイルオキシ
基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オ
クタニオイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、デカノイ
ルオキシ基、アクリロイルオキシ基、2−ブテノイルオ
キシ基、4−ヘキセノイルオキシ基、5−デシノイルオ
キシ基などのアシルオキシ基が例示される。置換基とし
て好ましいのは、ハロゲン、炭素数1〜8個のアルキル
基または炭素数1〜8個のアシル基である。
【0016】一般式〔I〕のYがフェニル基または置換
フェニル基の場合には、Aは炭素数3〜8個の飽和また
は不飽和の脂肪族炭化水素基が好ましく、あるいはn=
0、すなわちフェニル基または置換フェニル基が直接に
酸素原子に結合しているものが好ましい。
フェニル基の場合には、Aは炭素数3〜8個の飽和また
は不飽和の脂肪族炭化水素基が好ましく、あるいはn=
0、すなわちフェニル基または置換フェニル基が直接に
酸素原子に結合しているものが好ましい。
【0017】これらのなかで、一般式〔I〕のY−
(A)n としては、テトラデシル基(C14)が最も好ま
しい。
(A)n としては、テトラデシル基(C14)が最も好ま
しい。
【0018】本発明においては、まず、前記式〔II] で
表される3′−置換−5−フルオロ−2′−デオキシウ
リジンと、前記式〔III]で表されるリン酸モノエステル
類を縮合剤の存在下反応せしめるが、かかる縮合剤とし
ては、特開昭59−93096号公報に例示されるも
の、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドなどのカル
ボジイミド類;2,4,6−トリイソプロピルベンゼン
スルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド
などのアリールスルホニルクロリド類;2,4,6−ト
リイソプロピルベンゼンスルホニルイミダゾリド、2,
4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルトリアゾ
リドなどのアリールスルホンアミド類が挙げられる。ま
た、縮合助剤として、例えば、トリエチルアミン、ピリ
ジン、γ−ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリ
ン、トリブチルアミンなどの有機塩基を用いることもで
きる。
表される3′−置換−5−フルオロ−2′−デオキシウ
リジンと、前記式〔III]で表されるリン酸モノエステル
類を縮合剤の存在下反応せしめるが、かかる縮合剤とし
ては、特開昭59−93096号公報に例示されるも
の、例えばジシクロヘキシルカルボジイミドなどのカル
ボジイミド類;2,4,6−トリイソプロピルベンゼン
スルホニルクロリド、p−トルエンスルホニルクロリド
などのアリールスルホニルクロリド類;2,4,6−ト
リイソプロピルベンゼンスルホニルイミダゾリド、2,
4,6−トリイソプロピルベンゼンスルホニルトリアゾ
リドなどのアリールスルホンアミド類が挙げられる。ま
た、縮合助剤として、例えば、トリエチルアミン、ピリ
ジン、γ−ジメチルアミノピリジン、ジメチルアニリ
ン、トリブチルアミンなどの有機塩基を用いることもで
きる。
【0019】反応溶媒としては、溶解力が充分でかつ反
応の進行を妨げない非プロトン性の有機溶媒が好まし
い。一般的に好ましい溶媒としては、ピリジン、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスフォラス
トリアミド、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチレン
などを単独または混合溶媒として用いることができる。
応の進行を妨げない非プロトン性の有機溶媒が好まし
い。一般的に好ましい溶媒としては、ピリジン、N,N
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスフォラス
トリアミド、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、ジメト
キシエタン、ジオキサン、クロロホルム、塩化メチレン
などを単独または混合溶媒として用いることができる。
【0020】縮合反応の反応時間は、反応基質、縮合剤
の種類、溶媒によっても異なるが、一般に1時間〜4日
である。反応温度は−30℃〜100℃が好ましく、さ
らに好ましくは0℃〜室温であるが、反応性が悪い場合
には加熱してもよい。縮合反応においては、出発原料の
消失をTLCなどによりモニターして反応の終点を決定
することができる。
の種類、溶媒によっても異なるが、一般に1時間〜4日
である。反応温度は−30℃〜100℃が好ましく、さ
らに好ましくは0℃〜室温であるが、反応性が悪い場合
には加熱してもよい。縮合反応においては、出発原料の
消失をTLCなどによりモニターして反応の終点を決定
することができる。
【0021】このようにして縮合反応が完結したら、水
を加えたのち、得られる水相のpHを5.0以上にし
て、該水相から非酸性部分を除去し、次いで該水相のp
Hを3.0以下にして前記式〔I〕で表される5−フル
オロ−2′−デオキシウリジン誘導体を抽出する。
を加えたのち、得られる水相のpHを5.0以上にし
て、該水相から非酸性部分を除去し、次いで該水相のp
Hを3.0以下にして前記式〔I〕で表される5−フル
オロ−2′−デオキシウリジン誘導体を抽出する。
【0022】この抽出工程においては、まず前記反応物
に水を加えるが、この水は縮合剤を失活させるため、お
よび目的物の酸性部分をまず水に溶かすため加える。水
の量はこの目的を達成する量であれば特に限定されない
が、出発原料の1〜10,000倍加えることが好まし
く、さらに好ましくは10〜1,000倍である。な
お、水を加えるに際して、反応液に直接水を加えること
もできるが、必要に応じて反応溶媒を分離し、得られた
反応物を水に溶解・混合する方法も本発明の好ましい態
様である。反応溶媒の分離方法としては、例えば、ロー
タリーエバポレーター、常圧、減圧による蒸留分離、ガ
ス吹き込みによる飛散分離、分離膜による分離などの方
法が挙げられる。
に水を加えるが、この水は縮合剤を失活させるため、お
よび目的物の酸性部分をまず水に溶かすため加える。水
の量はこの目的を達成する量であれば特に限定されない
が、出発原料の1〜10,000倍加えることが好まし
く、さらに好ましくは10〜1,000倍である。な
お、水を加えるに際して、反応液に直接水を加えること
もできるが、必要に応じて反応溶媒を分離し、得られた
反応物を水に溶解・混合する方法も本発明の好ましい態
様である。反応溶媒の分離方法としては、例えば、ロー
タリーエバポレーター、常圧、減圧による蒸留分離、ガ
ス吹き込みによる飛散分離、分離膜による分離などの方
法が挙げられる。
【0023】次いで、水を加えて得られる水相のpHを
5.0以上にする。水相のpHが5.0未満では目的酸
性部分が有機相に溶解されやすくなるため、収率が低下
し、また副生物との分離が困難となる。12を超えても
溶媒抽出のみでは分離が困難となる。水相のpHは、好
ましくは6.0〜10.0である。
5.0以上にする。水相のpHが5.0未満では目的酸
性部分が有機相に溶解されやすくなるため、収率が低下
し、また副生物との分離が困難となる。12を超えても
溶媒抽出のみでは分離が困難となる。水相のpHは、好
ましくは6.0〜10.0である。
【0024】水相のpHを5.0以上にする方法として
は、例えば、反応液のpHが5.0未満の場合は、Na
OH、KOH、LiOH、Na2 CO3 、NaHCO3
などのアルカリ性物質を直接または水溶液として加え、
水相をpH5.0以上にすればよい。逆に、反応液のp
Hが10を超える場合は、HCl、HNO3 、H2 SO
4 、KHSO4 、AcOH、HCOOH、CF3 COO
Hなどの酸性物質またはその水溶液を加え、水相をpH
10.0以下にすればよい。これらのなかでもアルカリ
性物質としてはNaOH、酸性物質としてはHCl、ま
たはそれらの水溶液が好ましい。
は、例えば、反応液のpHが5.0未満の場合は、Na
OH、KOH、LiOH、Na2 CO3 、NaHCO3
などのアルカリ性物質を直接または水溶液として加え、
水相をpH5.0以上にすればよい。逆に、反応液のp
Hが10を超える場合は、HCl、HNO3 、H2 SO
4 、KHSO4 、AcOH、HCOOH、CF3 COO
Hなどの酸性物質またはその水溶液を加え、水相をpH
10.0以下にすればよい。これらのなかでもアルカリ
性物質としてはNaOH、酸性物質としてはHCl、ま
たはそれらの水溶液が好ましい。
【0025】次いで、非酸性部分を除去した水相のpH
を3.0以下にして抽出溶媒で目的物を抽出する。該水
相のpHが3.0を超えると、目的とする酸性部分は水
相および有機相の両相に溶解するため目的物を抽出する
効率が悪くなる。水相のpHは好ましくはpH0.5〜
3.0である。例えばHCl、HNO3 、H2 SO4 、
KHSO4 、AcOH、HCOOH、CF3 COOHま
たはそれらの水溶液を加えることによって、水相のpH
を3.0以下にすることができる。なかでもHCl水溶
液が好ましい。
を3.0以下にして抽出溶媒で目的物を抽出する。該水
相のpHが3.0を超えると、目的とする酸性部分は水
相および有機相の両相に溶解するため目的物を抽出する
効率が悪くなる。水相のpHは好ましくはpH0.5〜
3.0である。例えばHCl、HNO3 、H2 SO4 、
KHSO4 、AcOH、HCOOH、CF3 COOHま
たはそれらの水溶液を加えることによって、水相のpH
を3.0以下にすることができる。なかでもHCl水溶
液が好ましい。
【0026】前記式〔I〕で表される5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体の抽出は、例えばベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素;クロロホルム、ジ
クロールメタンなどのハロゲン炭化水素;酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル類などによって行われるが、
これらのなかでも酢酸エチルなどのエステル類が好まし
い。
2′−デオキシウリジン誘導体の抽出は、例えばベンゼ
ン、トルエンなどの芳香族炭化水素;クロロホルム、ジ
クロールメタンなどのハロゲン炭化水素;酢酸エチル、
酢酸ブチルなどのエステル類などによって行われるが、
これらのなかでも酢酸エチルなどのエステル類が好まし
い。
【0027】また、5−フルオロ−2′−デオキシウリ
ジン誘導体の抽出は、0〜100℃下に行い、攪拌、振
動、超音波照射、液液連続抽出などの方法により、抽出
効率をさらに高めることができる。
ジン誘導体の抽出は、0〜100℃下に行い、攪拌、振
動、超音波照射、液液連続抽出などの方法により、抽出
効率をさらに高めることができる。
【0028】かくして本発明の製造方法により、優れた
有効性で、かつ副作用の少ない5−FU誘導体である5
−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体を簡便かつ
収率よく大量生産することができる。
有効性で、かつ副作用の少ない5−FU誘導体である5
−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体を簡便かつ
収率よく大量生産することができる。
【0029】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に
説明する。 実施例1(5−フルオロ−2′−デオキシウリジン−
3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフェートの製
造) テトラデシルホスフェート(C14)3.385g(1
1.5mmol)と3′−アセチル−5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン2.88g(10mmol)を
ピリジン40mlに溶解し、p−トルエンスルホニルク
ロリド4.0g(21mmol)をピリジン20mlに
溶解した溶液を30℃で攪拌しながら20分で滴下し
た。滴下終了後30℃で3時間攪拌して反応液を得た。
説明する。 実施例1(5−フルオロ−2′−デオキシウリジン−
3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフェートの製
造) テトラデシルホスフェート(C14)3.385g(1
1.5mmol)と3′−アセチル−5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン2.88g(10mmol)を
ピリジン40mlに溶解し、p−トルエンスルホニルク
ロリド4.0g(21mmol)をピリジン20mlに
溶解した溶液を30℃で攪拌しながら20分で滴下し
た。滴下終了後30℃で3時間攪拌して反応液を得た。
【0030】氷水7mlを反応液に加え、ピリジンを減
圧留去後、濃縮残渣に水150mlおよび酢酸エチル1
50mlを加え、さらに炭酸ナトリウム水を加えpHを
7.0とし、抽出分液し、酢酸エチル相より非酸性部分
の油状物0.83gを得た。次にpH7.0の水層に酢
酸エチル150mlを加え、1NのHCl水溶液を加
え、pH2.0とし、抽出分液し、酢酸エチル層を脱水
剤で乾燥、濾過し、濃縮して5−フルオロ−2′−デオ
キシウリジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホ
スフェート5.29g(収率94%)を得た(HPLC
純度100%)。
圧留去後、濃縮残渣に水150mlおよび酢酸エチル1
50mlを加え、さらに炭酸ナトリウム水を加えpHを
7.0とし、抽出分液し、酢酸エチル相より非酸性部分
の油状物0.83gを得た。次にpH7.0の水層に酢
酸エチル150mlを加え、1NのHCl水溶液を加
え、pH2.0とし、抽出分液し、酢酸エチル層を脱水
剤で乾燥、濾過し、濃縮して5−フルオロ−2′−デオ
キシウリジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホ
スフェート5.29g(収率94%)を得た(HPLC
純度100%)。
【0031】実施例2(5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン−3′−アセチル−5′−ドコシルホスフェー
トの製造) ドコシルホスフェート(C22)4.88g(12mmo
l)と3′−アセチル−5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン2.88g(10mmol)をピリジン40m
lに溶解し、p−トルエンスルホニルクロリド4.0g
(21mmol)をピリジン20mlに溶解した溶液を
30℃で攪拌しながら20分で滴下した。滴下終了後室
温で終夜攪拌して反応液を得た。
ウリジン−3′−アセチル−5′−ドコシルホスフェー
トの製造) ドコシルホスフェート(C22)4.88g(12mmo
l)と3′−アセチル−5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン2.88g(10mmol)をピリジン40m
lに溶解し、p−トルエンスルホニルクロリド4.0g
(21mmol)をピリジン20mlに溶解した溶液を
30℃で攪拌しながら20分で滴下した。滴下終了後室
温で終夜攪拌して反応液を得た。
【0032】氷水10mlを反応液に加え、ピリジンを
減圧留去後、濃縮残渣に水150mlおよび酢酸エチル
150mlを加え、さらに炭酸ナトリウム水を加えpH
を8.0とし、抽出分液し、酢酸エチル相より非酸性部
分の油状物0.85gを得た。次にpH8.0の水層に
酢酸エチル150mlを加え、トリフルオロ酢酸を加え
てpH1.0とし、抽出分液し、酢酸エチル相を脱水剤
で乾燥、濾過し、濃縮して5−フルオロ−2′−デオキ
シウリジン−3′−アセチル−5′−ドコシルホスフェ
ート6.42g(収率95%)を得た(HPLC純度1
00%)。
減圧留去後、濃縮残渣に水150mlおよび酢酸エチル
150mlを加え、さらに炭酸ナトリウム水を加えpH
を8.0とし、抽出分液し、酢酸エチル相より非酸性部
分の油状物0.85gを得た。次にpH8.0の水層に
酢酸エチル150mlを加え、トリフルオロ酢酸を加え
てpH1.0とし、抽出分液し、酢酸エチル相を脱水剤
で乾燥、濾過し、濃縮して5−フルオロ−2′−デオキ
シウリジン−3′−アセチル−5′−ドコシルホスフェ
ート6.42g(収率95%)を得た(HPLC純度1
00%)。
【0033】実施例3(5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフ
ェートの製造) 炭酸ナトリウム水を加えてpHを8.0とし、さらに1
NのHCl水溶液に変えてギ酸を用いpHを3.0とす
るほかは、実施例1と同様にして5−フルオロ−2′−
デオキシウリジン−3′−アセチル−5′−テトラデシ
ルホスフェート4.11g(収率73%)を得た。
ウリジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフ
ェートの製造) 炭酸ナトリウム水を加えてpHを8.0とし、さらに1
NのHCl水溶液に変えてギ酸を用いpHを3.0とす
るほかは、実施例1と同様にして5−フルオロ−2′−
デオキシウリジン−3′−アセチル−5′−テトラデシ
ルホスフェート4.11g(収率73%)を得た。
【0034】比較例1 実施例1と同様にして得られた反応液に、氷水7mlを
加え、ピリジンを減圧留去後、残渣に水150mlおよ
び酢酸エチル150mlを加え、さらに1NのHClを
加えてpHを1.0とし、反応生成物を抽出分液後、酢
酸エチル相を脱水剤で乾燥し、濾過し、濃縮し、6.1
9gの反応生成物を得た。HPLC純度は66%で不純
物を多量含むものであった。
加え、ピリジンを減圧留去後、残渣に水150mlおよ
び酢酸エチル150mlを加え、さらに1NのHClを
加えてpHを1.0とし、反応生成物を抽出分液後、酢
酸エチル相を脱水剤で乾燥し、濾過し、濃縮し、6.1
9gの反応生成物を得た。HPLC純度は66%で不純
物を多量含むものであった。
【0035】比較例2 滴下終了後の攪拌時間を30分とするほかは実施例1と
同様にして反応液を得た。得られた反応液に氷水7ml
を加え、ピリジンを減圧留去後、残渣に水150mlお
よび酢酸エチル150mlを加え、炭酸ナトリウム水を
加えてpHを7.0とし、抽出分液後、pH7.0の水
相に酢酸エチル150mlを加え、さらにギ酸を加えて
pHを4.0とし、抽出分液を試みたが、分離が悪く、
かつ抽出効率が悪かった。
同様にして反応液を得た。得られた反応液に氷水7ml
を加え、ピリジンを減圧留去後、残渣に水150mlお
よび酢酸エチル150mlを加え、炭酸ナトリウム水を
加えてpHを7.0とし、抽出分液後、pH7.0の水
相に酢酸エチル150mlを加え、さらにギ酸を加えて
pHを4.0とし、抽出分液を試みたが、分離が悪く、
かつ抽出効率が悪かった。
【0036】実施例4 実施例1で合成した5−フルオロ−2′−デオキシウリ
ジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフェー
ト2.82g(5mmol)をメタノール20mlに溶
解し、氷冷攪拌しながら、2NのNaOH6mlを滴下
し、氷冷下60分攪拌した。メタノールを減圧留去後、
残渣に水80mlと酢酸エチル80mlを加え、1Nの
HClでpHを1.0とし、分液後、酢酸エチル層にエ
タノール20mlを加え、脱水剤(硫酸マグネシウム)
で脱水し、濾過後、濃縮し、2.72gの加水分解反応
生成物を得た。ジクロロエタン/メタノール(=9/
1)混合溶媒16mlで再結晶し、1.93gの精製品
を得た。電位差滴定による純度測定の結果、純度は9
9.4%であった。HPLCによる純度測定の結果も9
9.4%であった。
ジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフェー
ト2.82g(5mmol)をメタノール20mlに溶
解し、氷冷攪拌しながら、2NのNaOH6mlを滴下
し、氷冷下60分攪拌した。メタノールを減圧留去後、
残渣に水80mlと酢酸エチル80mlを加え、1Nの
HClでpHを1.0とし、分液後、酢酸エチル層にエ
タノール20mlを加え、脱水剤(硫酸マグネシウム)
で脱水し、濾過後、濃縮し、2.72gの加水分解反応
生成物を得た。ジクロロエタン/メタノール(=9/
1)混合溶媒16mlで再結晶し、1.93gの精製品
を得た。電位差滴定による純度測定の結果、純度は9
9.4%であった。HPLCによる純度測定の結果も9
9.4%であった。
【0037】比較例3 比較例1で合成した5−フルオロ−2′−デオキシウリ
ジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフェー
ト2.82g(5mmol)を実施例4と同様にして加
水分解し、同様の操作で再結晶を数回繰り返したが、5
−フルオロ−2′−デオキシウリジン−3′−アセチル
−5′−テトラデシルホスフェートの純度は95%以上
にはならなかった。
ジン−3′−アセチル−5′−テトラデシルホスフェー
ト2.82g(5mmol)を実施例4と同様にして加
水分解し、同様の操作で再結晶を数回繰り返したが、5
−フルオロ−2′−デオキシウリジン−3′−アセチル
−5′−テトラデシルホスフェートの純度は95%以上
にはならなかった。
【0038】比較例4 ドコシルホスフェート(C22)1.9g(4.5mmo
l)と3′−アセチル−5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン864mg(3mmol)を8.0mlの無水
ピリジンに溶解し、氷冷攪拌下p−トルエンスルホニル
クロライド1.72g(9mmol)を加え、室温で一
夜攪拌した。これに水3mlを加え、30分攪拌した
後、溶液を減圧にて留去して得た粗生成物に濃アンモニ
ア水20mlとメタノール40mlを加え、一夜室温で
攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧にて留去し、残渣
に水と2規定水酸化ナトリウム水溶液を加えpHを約1
2とし、これをブタノールで洗った。水層を氷冷下2規
定塩酸を加え、pHを約2とし、析出した沈澱を遠心分
離した。この沈澱を少量のブタノールに溶かし、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ブタノール−酢
酸−水(20:1:1)〜(10:1:1)溶出部分を
集め、濃縮して得られた粉末を少量のメタノールで洗
い、485mgの5−フルオロ−2′−デオキシウリジ
ン−5′−ドコシルホスフェートを得た。収率は23%
であった。この様に目的物を単離精製するためにはシリ
カゲルクロマトグラフィー精製が必須であった。
l)と3′−アセチル−5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン864mg(3mmol)を8.0mlの無水
ピリジンに溶解し、氷冷攪拌下p−トルエンスルホニル
クロライド1.72g(9mmol)を加え、室温で一
夜攪拌した。これに水3mlを加え、30分攪拌した
後、溶液を減圧にて留去して得た粗生成物に濃アンモニ
ア水20mlとメタノール40mlを加え、一夜室温で
攪拌した。反応混合物から溶媒を減圧にて留去し、残渣
に水と2規定水酸化ナトリウム水溶液を加えpHを約1
2とし、これをブタノールで洗った。水層を氷冷下2規
定塩酸を加え、pHを約2とし、析出した沈澱を遠心分
離した。この沈澱を少量のブタノールに溶かし、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ブタノール−酢
酸−水(20:1:1)〜(10:1:1)溶出部分を
集め、濃縮して得られた粉末を少量のメタノールで洗
い、485mgの5−フルオロ−2′−デオキシウリジ
ン−5′−ドコシルホスフェートを得た。収率は23%
であった。この様に目的物を単離精製するためにはシリ
カゲルクロマトグラフィー精製が必須であった。
【0039】
【発明の効果】本発明によれば、優れた有効性で、かつ
副作用の少ない5−FU誘導体である5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体を簡便かつ収率よく大量
生産することができる。
副作用の少ない5−FU誘導体である5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体を簡便かつ収率よく大量
生産することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 下記式 [II] 【化1】 (式中、Rはアルコールの保護基を表す。)で表される
3′−置換−5−フルオロ−2′−デオキシウリジン
と、下記式 [III] 【化2】 (式中、Aは炭素数1〜3の飽和または不飽和の2価の
脂肪族炭化水素基を表す。nは0または1を表し、nが
0の場合はYは酸素原子に直接結合していることを示
す。Yは水素原子、フェニル基または置換フェニル基を
表す。ただし、Yが水素原子の場合には、nは1であ
る。)で表されるリン酸モノエステル類とを縮合剤の存
在下反応せしめる下記式〔I〕 【化3】 (式中、A、n、YおよびRは前記式 [II] および [II
I]の定義と同じである。)で表される5−フルオロ−
2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法において、縮
合剤の存在下反応させて得られたのち、水を加え、次い
で得られる水相のpHを5.0以上にして該水相から非
酸性部分を除去したのち、該水相のpHを3.0以下に
して5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体を抽
出することを特徴とする5−フルオロ−2′−デオキシ
ウリジン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3332800A JPH05140182A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3332800A JPH05140182A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05140182A true JPH05140182A (ja) | 1993-06-08 |
Family
ID=18258949
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3332800A Withdrawn JPH05140182A (ja) | 1991-11-22 | 1991-11-22 | 5−フルオロ−2′−デオキシウリジン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05140182A (ja) |
-
1991
- 1991-11-22 JP JP3332800A patent/JPH05140182A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990204 |