JPH0513582A - 半導体装置の電源配線 - Google Patents

半導体装置の電源配線

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Publication number
JPH0513582A
JPH0513582A JP18557391A JP18557391A JPH0513582A JP H0513582 A JPH0513582 A JP H0513582A JP 18557391 A JP18557391 A JP 18557391A JP 18557391 A JP18557391 A JP 18557391A JP H0513582 A JPH0513582 A JP H0513582A
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JP
Japan
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internal gate
power source
region
power supply
source wiring
Prior art date
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Pending
Application number
JP18557391A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Takeda
晃 武田
Toyohisa Matsukawa
豊久 松川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kawasaki Steel Corp filed Critical Kawasaki Steel Corp
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Publication of JPH0513582A publication Critical patent/JPH0513582A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 入力/出力素子領域上を有効に使用し、チッ
プ上の内部ゲート電源配線のための領域を不要とし、チ
ップの省スペースを図る。 【構成】 半導体集積回路の内部ゲートに電源を供給す
るための内部ゲート電源配線24を、入力/出力素子領
域12上に重ねて設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の電源配線
に係り、特に、半導体装置が多ピン化されて入力/出力
素子の長辺方向が長くなった半導体装置に用いるのに好
適な、半導体装置の電源配線に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体集積回路等の半導体装置に
おいては、例えば図4に示すように、チップ8が構成さ
れている。図4のチップ8上には、その中央部に内部ゲ
ート素子領域10が形成され、該内部ゲート素子領域1
0の周りを取り囲んで入力/出力素子(以下、I/O素
子という)領域12が形成されている。
【0003】なお、内部ゲート素子領域10は、複数の
内部素子ゲートを含み、このゲートにより、半導体装置
に要求される種々の論理演算機能を果す領域である。
又、I/O素子領域12は、前記内部ゲート素子領域1
0に外部からの信号を入力する入力バッファや前記ゲー
ト素子領域10から出力される信号で外部を駆動するた
めの出力バッファからなるI/O素子を有する領域であ
る。
【0004】又、前記半導体装置には、内部ゲート素子
領域10及びI/O素子領域12にそれぞれ電源を供給
するそれぞれの電源配線(内部ゲート電源配線及びI/
O電源配線)が設けられている。これら電源配線におい
ては、従来、図4に示すように、前記I/O電源配線1
4はI/O素子領域12内に設けられ、内部ゲート電源
配線は、I/O素子領域12及び内部ゲート素子10間
の領域(図4に符号15で示す)に設けられていた。
【0005】ここで、図5は、前記内部ゲート素子領域
10及びI/O素子領域12の前記各電源配線14及び
16が設けられている周辺を詳細に示す平面図である。
又、図6は同断面図である。
【0006】図5、図6に示すようにI/O素子領域1
2には、各I/O素子(12Aで示す)が並列に設けら
れており、I/O電源配線14は、I/O素子領域12
上の例えば第2層配線層17に形成される。又、内部ゲ
ート電源配線16は内部ゲート素子領域10及びI/O
素子領域12間の領域15上の第2層配線層17に、形
成される。
【0007】なお図5において、18はボンディング用
のパッド、図6において19はパッシベーション、20
は内部ゲート素子やI/O素子を形成するためのゲート
や配線のある領域、22は半導体基板である。
【0008】今日、半導体装置は、多ピン化の傾向が強
い。半導体装置が多ピン化した場合、パッド18の間隔
が狭ピッチなものとなり、それに伴い、I/O素子12
Aは幅が狭くなり内部ゲート素子領域10方向に延びた
細長いものとなる。このように、多ピン化によりI/O
素子12Aが細長くなるのは、パッド18の間隔が狭く
なっても、基板上に形成すべきI/O素子12Aの各ゲ
ートの面積があまり変化しないからである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、I/O
素子12Aが細長くなると、I/O素子12Aの並び方
向に対する幅が広くなるため、チップ上においてI/O
素子領域12を広くとる必要が生じ、それに伴って、内
部ゲート素子領域10が浸食されて狭くなるという問題
点が生じていた。
【0010】内部ゲート素子領域が狭まったのでは、当
該領域に形成できる論理回路等に限りが生じるため、チ
ップ上の面積を有効に利用できず、多ピン化の障害とな
っていた。
【0011】本発明は、前記従来の問題点を解消するべ
くなされたもので、入力/出力素子領域上を有効に使用
し、チップ上の内部ゲート電源配線のための領域を不要
とし、チップの省スペース化を図ることができる半導体
装置の電源配線を提供することを課題とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体装置の
電源配線において、半導体装置の内部ゲートに電源を供
給するための電源配線を、入力/出力素子領域上に重ね
て設けたことにより、前記課題を解決するものである。
【0013】
【作用】半導体装置は、多ピン化に伴ってそのパッド間
隔が狭ピッチになり、入力/出力(I/O)素子が細長
くなる。このI/O素子が細長くなることに伴って、I
/O素子領域の並び方向の幅が広くなる。このため、I
/O素子領域上においては例えば第2層配線層にI/O
電源配線を形成したとしても、当該第2配線層には、他
に電源配線をし得る余裕がある。
【0014】そこで、発明者は、この余裕となったI/
O素子領域上に内部ゲートに電源を供給するため電源配
線を設けることを着想し、本発明を創案したものであ
る。
【0015】従来、前出図5、図6に示したように内部
ゲート電源配線のため、チップ上に内部ゲート領域及び
I/O素子領域間の領域15が必要とされていたが、本
発明により、このような内部ゲート電源配線のための領
域をチップ上に必要としなくなり省略することができ
る。このため、半導体装置における、チップの省スペー
ス化を図ることができる。
【0016】又、半導体装置が多ピン化してI/O素子
が内部ゲートの方向に長くなり、I/O素子領域が並び
方向の幅が広く(チップ上にI/O素子領域を占める面
積か広く)なったとしても、内部ゲート回路領域が狭く
なることがないため、高集積を促進することができる。
【0017】なお、内部ゲート電源配線はI/O素子領
域内の論理素子への電源としても用いられる場合があ
り、本発明によれば、このような論理素子への電源配線
を短くすることができる。
【0018】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
【0019】この実施例は、半導体装置において、図1
に示すように、入力/出力(I/O)素子領域上12に
内部ゲート電源配線24を設けたものである。
【0020】図2に、この実施例の内部ゲート電源配線
24が設けられたI/O素子領域12の周辺構成の断面
を示す。
【0021】実施例では、図2に示すように、I/O電
源配線14及び内部ゲート電源配線24のいずれも同じ
第2層配線層17に設けている。なお、本発明を実施す
る場合、I/O電源配線14又は内部ゲート電源配線2
4はこのように同一の配線層あるいは第2層配線層に設
けることに限定されるものではない。例えば異なった配
線層にそれぞれ設けることができる。又アルミニウム第
2層以外の配線層、他の配線層、例えば第3層配線層に
設けることができる。
【0022】又、図3にチップ8上におけるI/O電源
配線14と内部ゲート電源配線16とが配線された状態
を示す。図1から図3においては前出図4から図6と同
様の部分には同一の番号を付してその説明を略する。
【0023】図2及び図3に示すように、チップ上に
は、内部ゲート電源配線のための領域をとる必要がな
く、内部ゲート回路10とI/O素子領域12とを設け
るのみでよいため、前出図4に示したような内部ゲート
電源配線を設けるための領域を必要としないことがわか
る。
【0024】従って、多ピン化に伴ってI/O素子が内
部ゲートの方向に長くなりI/O素子領域の延び方向の
幅で広く(チップ上にI/O素子領域が占める面積が広
く)なっても内部ゲート領域10が浸食されず、狭くな
ることがないため半導体装置の高集積化の障害にならな
いことがわかる。
【0025】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、内
部ゲート電源配線を入力/出力素子上に設けるため、当
該内部ゲート電源配線のための領域を別途チップ上に設
ける必要がなく、チップの省スペース化を図ることがで
きる。これにより、多ピン化に伴い入力/出力素子が細
長くなり、入力/出力素子領域のチップ上に占める面積
が広くなったとしても、従来内部ゲート電源配線が設け
られていたスペースまで入力/出力素子領域として使用
し得るため、内部ゲート領域自体を狭くすることなく、
半導体装置を多ピン化することができるという優れた効
果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の実施例に係る半導体装置の入
力/出力素子領域の周辺の構成を詳細に示す要部平面図
である。
【図2】図2は、前記入力/出力素子領域の構成を示す
縦断面図である。
【図3】図3は、前記実施例の各電源配線が設けられた
半導体装置のチップの構成例を示す平面図である。
【図4】図4は、従来の各電源配線が設けられた半導体
装置チップの構成例を示す平面図である。
【図5】図5は、従来の入力/出力素子周辺の入力/出
力電源配線及び内部ゲート電源配線の詳細な構成を示す
要部平面図である。
【図6】図6は、前記入力/出力素子の構成を示す縦断
面図である。
【符号の説明】
10…内部ゲート素子領域、 12…入力/出力(I/O)素子領域、 14…入力/出力電源配線、 18…パッド、 24…内部ゲート電源配線。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】半導体装置の内部ゲートに電源を供給する
    ための電源配線を、入力/出力素子領域上に重ねて設け
    たことを特徴とする半導体装置の電源配線。
JP18557391A 1991-06-28 1991-06-28 半導体装置の電源配線 Pending JPH0513582A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18557391A JPH0513582A (ja) 1991-06-28 1991-06-28 半導体装置の電源配線

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18557391A JPH0513582A (ja) 1991-06-28 1991-06-28 半導体装置の電源配線

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0513582A true JPH0513582A (ja) 1993-01-22

Family

ID=16173177

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18557391A Pending JPH0513582A (ja) 1991-06-28 1991-06-28 半導体装置の電源配線

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JP (1) JPH0513582A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010263234A (ja) * 2010-07-16 2010-11-18 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010263234A (ja) * 2010-07-16 2010-11-18 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路装置

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