JPH05134399A - Photomask cleaner - Google Patents

Photomask cleaner

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Publication number
JPH05134399A
JPH05134399A JP30043691A JP30043691A JPH05134399A JP H05134399 A JPH05134399 A JP H05134399A JP 30043691 A JP30043691 A JP 30043691A JP 30043691 A JP30043691 A JP 30043691A JP H05134399 A JPH05134399 A JP H05134399A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photomask
brush
pure water
cleaning
tank
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP30043691A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuo Iwai
計夫 岩井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP30043691A priority Critical patent/JPH05134399A/en
Publication of JPH05134399A publication Critical patent/JPH05134399A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a scrub cleaner for both side of photomask, in which a particle weakened in sticking strength with a surface of a photomask by rubbing with a brush is securely washed out and the particle does not stick to the surface of the photomask again. CONSTITUTION:A brush 3 placed opposite to each other is provided in an internal vessel 8 constantly supplying pure water 10 from a water supplying opening 12 and the both side of the surface of the photomask is scrub-cleaned by slowly moving the photomask 1 held by an arm 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置等の製造に
おけるフォト工程に用いるフォトマスクの洗浄装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photomask cleaning apparatus used in a photo process in manufacturing semiconductor devices and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来技術のフォトマスク洗浄装置を図3
に示す。
2. Description of the Related Art A conventional photomask cleaning apparatus is shown in FIG.
Shown in.

【0003】図3は、従来技術のフォトマスクの両面ス
クラブ洗浄装置の断面図であり、以下図に従って従来技
術の説明をする。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a conventional photomask double-sided scrub cleaning apparatus. The prior art will be described below with reference to the drawings.

【0004】スクラブ洗浄槽22の中に、ポリビニール
アルコール等を原料とする多孔質体(以下ベルクリンと
呼ぶ)を円盤状に成形したブラシ3が、向き合わせて数
個ずつ配置されている。その向かい合わせに配置された
ブラシの間隔はフォトマスクの厚さより若干小さく設定
され、洗浄効果を上げるためにブラシは縦方向に2段配
置されている。なおブラシ3には純水配管19よりブラ
シ駆動軸18を通して純水を供給しベルクリンを柔らか
いスポンジ状にすることも重要である。
In the scrubbing cleaning tank 22, a plurality of brushes 3 each formed by molding a porous body (hereinafter referred to as "Berculin") made of polyvinyl alcohol or the like into a disc shape are arranged facing each other. The interval between the brushes arranged opposite to each other is set to be slightly smaller than the thickness of the photomask, and the brushes are arranged in two stages in the vertical direction in order to enhance the cleaning effect. It is also important to supply pure water to the brush 3 from the pure water pipe 19 through the brush drive shaft 18 to make the bellclean into a soft sponge.

【0005】またブラシ3はホルダー4に接着されてお
りモーター6の駆動力により回転する。
The brush 3 is adhered to the holder 4 and is rotated by the driving force of the motor 6.

【0006】その回転しているブラシの間を、アーム2
により保持されたフォトマスク1がゆっくりと上下方向
に移動する事により、フォトマスク1の表面を同時に両
面スクラブ洗浄する。
The arm 2 is inserted between the rotating brushes.
By slowly moving the photomask 1 held by the above in the vertical direction, the surface of the photomask 1 is simultaneously subjected to double-side scrub cleaning.

【0007】つまりこの洗浄装置は、ブラシでこすると
いう物理的な作用により、フォトマスク1の表面に付着
しているパーティクルを除去しようとする方法をとって
おり、さらにシャワーノズル20から純水21をフォト
マスク1の表面に向けて吐出することにより、ブラシ3
でこすることによって付着力を弱められたパーティクル
を洗い流す効果をねらっている。
That is, this cleaning apparatus employs a method of removing particles adhering to the surface of the photomask 1 by the physical action of rubbing with a brush. Of the brush 3 toward the surface of the photomask 1
The effect is to wash away particles whose adhesion has been weakened by rubbing.

【0008】また、付着力が強固で純水を流しながらブ
ラシでこするだけでは不充分なパーティクルに対して
は、アームに保持されたフォトマスクがスクラブ洗浄槽
22の下部まで移動しスクラブ洗浄槽22の下部に設け
た洗剤ノズル24より洗剤25をフォトマスクに吹き付
けた後、ブラシでのスクラブ洗浄を行なうという方法を
取っていた。
[0008] For particles that have a strong adhesive force and are insufficient for rubbing with a brush while flowing pure water, the photomask held by the arm moves to the lower portion of the scrub cleaning tank 22 and is moved to the scrub cleaning tank. After the detergent 25 is sprayed onto the photomask from the detergent nozzle 24 provided at the lower portion of 22, the scrubbing is performed with a brush.

【0009】しかし、シャワーノズルからの純水は、ブ
ラシが影になるためフォトマスク全面に充分行き渡らな
い。そのため、ブラシで付着力を弱められたパーティク
ルは、その位置で再び強固に付着してしまったり、フォ
トマスク表面を少し移動して再度付着したりすることが
多かった。
However, the pure water from the shower nozzle does not sufficiently spread over the entire surface of the photomask because the brush shades the shadow. Therefore, the particles whose adhesion is weakened by the brush are often strongly adhered again at that position or re-adhered by slightly moving on the surface of the photomask.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来技術のフ
ォトマスク洗浄装置では、ブラシでこすることによりパ
ーティクルの付着力を弱めることはできても、そのパー
ティクルを充分に洗い流すことは困難であり、またブラ
シに付着したパーティクルが再びフォトマスクの表面に
付着するという課題を有していた。
However, in the photomask cleaning apparatus of the prior art, although it is possible to weaken the adhesive force of particles by rubbing with a brush, it is difficult to sufficiently wash the particles, Further, there is a problem that the particles attached to the brush attach again to the surface of the photomask.

【0011】そこで本発明はこのような課題を解決する
もので、その目的とするところはフォトマスクの表面に
付着したパーティクルを確実に除去できるフォトマスク
の両面スクラブ洗浄装置を提供するところにある。
Therefore, the present invention solves such a problem, and an object of the present invention is to provide a double-sided scrub cleaning device for a photomask which can surely remove particles adhering to the surface of the photomask.

【0012】また、従来技術のフォトマスク洗浄装置で
は、洗剤をフォトマスクに吹き付けても、すぐに純水で
洗い流されてしまい充分な洗浄効果を上げることができ
ないという課題を有していた。
Further, the conventional photomask cleaning apparatus has a problem that even if a detergent is sprayed onto the photomask, it is immediately washed off with pure water and a sufficient cleaning effect cannot be obtained.

【0013】そこで本発明はこのような課題を解決する
もので、その目的とするところは洗剤の効果を充分に引
出し、パーティクルの除去を容易にするフォトマスクの
両面スクラブ洗浄装置を提供するところにある。
The present invention solves such a problem, and an object of the present invention is to provide a double-sided scrubbing device for a photomask which brings out the effect of a detergent sufficiently and facilitates the removal of particles. is there.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のフォトマスク洗浄装置は、 (1)フォトマスクを垂直に支持し、水平または垂直に
移動させ、前記フォトマスクの通過部に対向するブラシ
を配置し、前記ブラシを回転させながら前記フォトマス
クのスクラブ洗浄を行なうフォトマスク洗浄装置におい
て、前記ブラシを液体を溜めた水槽中に配置し、前記水
槽の下部より液体を供給することを特徴とする。
In order to solve the above-mentioned problems, the photomask cleaning apparatus of the present invention comprises (1) a photomask which is vertically supported and horizontally or vertically moved so that the photomask passes through the passage. In a photomask cleaning device in which opposed brushes are arranged and scrub cleaning of the photomask is performed while rotating the brushes, the brushes are arranged in a water tank in which liquid is stored, and liquid is supplied from a lower portion of the water tank. Is characterized by.

【0015】(2)循環ポンプ及びフィルタを有し、前
記水槽上部よりあふれた液体を前記水槽下部より循環供
給することを特徴とする。
(2) A circulation pump and a filter are provided, and the liquid overflowing from the upper part of the water tank is circulated and supplied from the lower part of the water tank.

【0016】[0016]

【実施例】以下に本発明の実施例を図面にもとづいて説
明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0017】図1は、本発明の実施例によるフォトマス
クの両面スクラブ洗浄装置の断面図である。
FIG. 1 is a sectional view of a photomask double-sided scrub cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.

【0018】図に示すように、洗浄槽は2重構造になっ
ており、内槽8の上部にはオーバーフロー槽11を、内
槽8の下部には外槽9を設けてある。内槽8には純水1
0が満たされており、内槽8の下部に設けた給水口12
より常に純水10を供給し、あふれた純水はオーバーフ
ロー槽11で受けて、ドレイン口15より排水される。
As shown in the figure, the cleaning tank has a double structure. An overflow tank 11 is provided above the inner tank 8 and an outer tank 9 is provided below the inner tank 8. 1 pure water in the inner tank 8
0 is filled and the water supply port 12 provided at the bottom of the inner tank 8
The pure water 10 is supplied more constantly, and the overflowed pure water is received by the overflow tank 11 and drained from the drain port 15.

【0019】また、軸受け7より漏れた少量の純水につ
いては、外槽9で受けてドレイン口14から排水され
る。なお、内槽8の底に設けたドレインバルブ13は、
内槽8内の純水をすべて排水するときに用いる。
A small amount of pure water leaking from the bearing 7 is received by the outer tank 9 and drained from the drain port 14. The drain valve 13 provided at the bottom of the inner tank 8 is
It is used when all the pure water in the inner tank 8 is drained.

【0020】内槽8の中には、ベルクリンを円盤状に成
形したブラシ3が向き合わせて数個ずつ配置されてい
る。その向かい合わせに配置されたブラシの間隔はフォ
トマスクの厚さより若干小さく設定され、洗浄効果を上
げるためにブラシは縦方向に2段配置されている。なお
ブラシ3は内槽8の純水中にあるため、ベルクリンは常
に柔らかいスポンジ状に保たれ、充分な洗浄効果を発揮
できる。
In the inner tank 8, a plurality of brushes 3 made of bergulin in a disc shape are arranged facing each other. The interval between the brushes arranged opposite to each other is set to be slightly smaller than the thickness of the photomask, and the brushes are arranged in two stages in the vertical direction in order to enhance the cleaning effect. Since the brush 3 is in the pure water of the inner tank 8, the berculin is always kept in the form of a soft sponge, and a sufficient cleaning effect can be exhibited.

【0021】またブラシ3はホルダー4に接着されてお
り、ホルダー4は、ブラシ駆動軸5を介して、外槽9の
外部に固定されているモーター6とつながっている。ブ
ラシ駆動軸5と、内槽8および外槽9の間には軸受け7
が設けてあり、モーター6からブラシ3への回転駆動力
の伝達をスムーズにするとともに、軸受7はシール性能
をも有しているために、内槽8からの純水10のリーク
を最小限にとどめている。
The brush 3 is adhered to a holder 4, and the holder 4 is connected via a brush drive shaft 5 to a motor 6 fixed to the outside of the outer tub 9. A bearing 7 is provided between the brush drive shaft 5 and the inner tank 8 and the outer tank 9.
Is provided, the transmission of the rotational driving force from the motor 6 to the brush 3 is made smooth, and the bearing 7 also has sealing performance, so that the leakage of the pure water 10 from the inner tank 8 is minimized. It remains only.

【0022】モーター6の駆動力により回転しているブ
ラシの間を、アーム2により保持されたフォトマスク1
がゆっくりと上下方向に移動する事により、フォトマス
ク1の表面を同時に両面スクラブ洗浄している。
The photomask 1 held by the arm 2 between the brushes rotated by the driving force of the motor 6.
Is slowly moved in the vertical direction, so that the surface of the photomask 1 is simultaneously scrubbed on both sides.

【0023】ブラシ3でこすることによりフォトマスク
1との付着力を弱められたパーティクルは、内槽8の大
量の純水中に浮きだし、内槽8内の下から上への純水1
0の流れによって内槽8の上部へ流され、オーバーフロ
ー槽11のドレイン口15より排出される。また、大量
の純水の流れを用いるためフォトマスクへの再付着も低
減する。
Particles whose adhesion to the photomask 1 has been weakened by rubbing with the brush 3 float out in a large amount of pure water in the inner tank 8 and the pure water 1 from the bottom to the top of the inner tank 8 is removed.
A flow of 0 flows to the upper part of the inner tank 8 and is discharged from the drain port 15 of the overflow tank 11. Further, since a large amount of pure water flow is used, redeposition on the photomask is reduced.

【0024】ここでは、内槽下部より供給する液体とし
て純水を用いたが、洗剤などの薬液を用いることも可能
である。また、ブラシの材質についてもナイロン製の毛
ブラシ等を用いても本発明と同様な効果が得られる。
Here, pure water is used as the liquid supplied from the lower part of the inner tank, but it is also possible to use a chemical liquid such as detergent. As for the material of the brush, the same effect as that of the present invention can be obtained even if a nylon bristle brush or the like is used.

【0025】図2は、本発明の別の実施例によるフォト
マスクの両面スクラブ洗浄装置の断面図である。
FIG. 2 is a sectional view of a photomask double-side scrub cleaning apparatus according to another embodiment of the present invention.

【0026】装置の基本的な構成は図1の実施例とほと
んど同じであるため、付加された部分について説明をす
る。
Since the basic structure of the apparatus is almost the same as that of the embodiment shown in FIG. 1, the added parts will be described.

【0027】図2に示す実施例は、図1に示す実施例の
ドレイン口15を給水口12に接続し、ドレイン口15
と給水口12の間に、循環ポンプ16とフィルタ17を
入れた構成にしたものである。内槽には洗剤を純水で希
釈した洗浄液26が満たされており、その洗浄液26は
オーバーフロー槽11へ流れ出た後、ポンプ16により
ドレイン口15からフィルタ17を通して給水口12へ
戻されるため、フォトマスクの表面から脱落したパーテ
ィクルにより汚染された洗浄液は、常にフィルタでろ過
されクリーンな洗浄液となって内槽下部に供給され、内
槽内は常にクリーンに保たれる。
In the embodiment shown in FIG. 2, the drain port 15 of the embodiment shown in FIG. 1 is connected to the water supply port 12, and the drain port 15 is connected.
A circulation pump 16 and a filter 17 are provided between the water supply port 12 and the water supply port 12. The inner tank is filled with the cleaning liquid 26 obtained by diluting the detergent with pure water, and after the cleaning liquid 26 flows out to the overflow tank 11, the cleaning liquid 26 is returned from the drain port 15 to the water supply port 12 through the filter 17 by the pump 16. The cleaning liquid contaminated by the particles that have fallen off the surface of the mask is always filtered by a filter to be a clean cleaning liquid, which is supplied to the lower portion of the inner tank, so that the inner tank is always kept clean.

【0028】この実施例のような装置構成を取ることに
より、洗浄液中でのフォトマスクの両面スクラブ洗浄が
可能となる。ここでは洗浄液として、洗剤を純水で希釈
したものを用いたが、アルカリ系の薬液等を用いること
も可能である。また純水だけでも、洗浄効果は洗浄液よ
りも落ちるが、純水の節約ができるという利点もある。
By adopting the apparatus configuration as in this embodiment, it is possible to perform both-side scrub cleaning of the photomask in the cleaning liquid. Here, as the cleaning liquid, a detergent diluted with pure water was used, but it is also possible to use an alkaline chemical liquid or the like. Further, the pure water alone has a cleaning effect lower than that of the cleaning liquid, but has an advantage that the pure water can be saved.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のフォトマ
スクの洗浄装置は、対向するブラシを液体を溜めた水槽
中に配置し、水槽下部に液体を供給する給水口を設ける
という簡単な構造により、フォトマスク表面のパーティ
クルを両面同時に簡単かつ確実に落とせるという効果が
ある。
As described above, the photomask cleaning apparatus of the present invention has a simple structure in which opposing brushes are arranged in a water tank in which the liquid is stored, and a water supply port for supplying the liquid is provided at the bottom of the water tank. Thus, there is an effect that the particles on the surface of the photomask can be easily and surely dropped on both surfaces simultaneously.

【0030】また、再洗浄の必要がなくなり、洗浄およ
びそれに伴う検査にかかる時間と工数を大幅に削減でき
るという効果がある。
Further, there is an effect that the re-cleaning is not necessary and the time and man-hours required for cleaning and the inspection accompanying it can be greatly reduced.

【0031】さらに、かかるフォトマスクの洗浄装置に
循環ポンプとフィルタを付けるという簡単な構造によ
り、薬液中での両面スクラブ洗浄が可能となり、洗浄効
率がさらに上がるという効果がある。
Furthermore, a simple structure in which a circulating pump and a filter are attached to the photomask cleaning device enables double-sided scrubbing in a chemical solution, which has the effect of further increasing cleaning efficiency.

【0032】また、純水等洗浄液の節約ができるという
効果も合わせ持っている。
Further, it also has an effect that the cleaning liquid such as pure water can be saved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のフォトマスクの両面スクラブ洗浄装置
の断面図。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a double-sided scrub cleaning device for a photomask according to the present invention.

【図2】本発明のフォトマスクの両面スクラブ洗浄装置
の断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a photomask double-sided scrub cleaning device of the present invention.

【図3】従来技術のフォトマスクの両面スクラブ洗浄装
置の断面図。
FIG. 3 is a sectional view of a conventional double-sided scrub cleaning device for a photomask.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フォトマスク 2 アーム 3 ブラシ 4 ホルダー 5 ブラシ駆動軸 6 モーター 7 軸受け 8 内槽 9 外槽 10 純水 11 オーバーフロー槽 12 給水口 13 ドレインバルブ 14 ドレイン口 15 ドレイン口 16 ポンプ 17 フィルタ 18 ブラシ駆動軸 19 純水配管 20 シャワーノズル 21 純水 22 スクラブ洗浄槽 23 ドレイン口 24 洗剤ノズル 25 洗剤 26 洗浄液 1 Photomask 2 Arm 3 Brush 4 Holder 5 Brush drive shaft 6 Motor 7 Bearing 8 Inner tank 9 Outer tank 10 Pure water 11 Overflow tank 12 Water inlet 13 Drain valve 14 Drain port 15 Drain port 16 Pump 17 Filter 18 Brush drive shaft 19 Pure water piping 20 Shower nozzle 21 Pure water 22 Scrub cleaning tank 23 Drain port 24 Detergent nozzle 25 Detergent 26 Cleaning liquid

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】フォトマスクを垂直に保持した状態で水平
または垂直に移動させ、前記フォトマスクの通過部に対
向するブラシを配置し、前記ブラシを回転させながら前
記フォトマスクのスクラブ洗浄を行なうフォトマスクの
洗浄装置において、前記ブラシを液体を溜めた水槽中に
配置したことを特徴とするフォトマスクの洗浄装置。
1. A photo in which a photomask is vertically held and moved horizontally or vertically, a brush facing the passage portion of the photomask is disposed, and the photomask is scrubbed while rotating the brush. In a mask cleaning apparatus, the photomask cleaning apparatus is characterized in that the brush is arranged in a water tank in which a liquid is stored.
【請求項2】循環ポンプ及びフィルタを有し、前記水槽
の上部よりあふれた液体を前記水槽の下部より循環供給
することを特徴とする請求項1記載のフォトマスク洗浄
装置。
2. The photomask cleaning apparatus according to claim 1, further comprising a circulation pump and a filter, wherein the liquid overflowing from the upper part of the water tank is circulated and supplied from the lower part of the water tank.
JP30043691A 1991-11-15 1991-11-15 Photomask cleaner Pending JPH05134399A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30043691A JPH05134399A (en) 1991-11-15 1991-11-15 Photomask cleaner

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP30043691A JPH05134399A (en) 1991-11-15 1991-11-15 Photomask cleaner

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JP30043691A Pending JPH05134399A (en) 1991-11-15 1991-11-15 Photomask cleaner

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JP (1) JPH05134399A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11307495A (en) * 1998-04-22 1999-11-05 Shin Etsu Handotai Co Ltd Brush cleaning device and work-cleaning system
JP2023507257A (en) * 2019-12-23 2023-02-22 ウェイモ エルエルシー Systems and methods for contact immersion lithography

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