JPH05134275A - 光制御素子 - Google Patents
光制御素子Info
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- JPH05134275A JPH05134275A JP3295936A JP29593691A JPH05134275A JP H05134275 A JPH05134275 A JP H05134275A JP 3295936 A JP3295936 A JP 3295936A JP 29593691 A JP29593691 A JP 29593691A JP H05134275 A JPH05134275 A JP H05134275A
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- JP
- Japan
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- light
- electro
- electrode
- optical
- control element
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/295—Analog deflection from or in an optical waveguide structure]
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/20—LiNbO3, LiTaO3
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Optical Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】レーザビームプリンタや光ディスクに適用され
るものであって、光を高速に偏向したり、光の結像位置
を高速に変化させる光制御素子に関し、小さい印加電圧
で大きい偏向角度あるいは大きな光結像位置変化を可能
とする。 【構成】電気光学材料2と、電気光学材料の表面に装着
した光屈折手段1と、電気光学材料の表面および裏面に
設けた電極3、4とを有することを特徴とする。
るものであって、光を高速に偏向したり、光の結像位置
を高速に変化させる光制御素子に関し、小さい印加電圧
で大きい偏向角度あるいは大きな光結像位置変化を可能
とする。 【構成】電気光学材料2と、電気光学材料の表面に装着
した光屈折手段1と、電気光学材料の表面および裏面に
設けた電極3、4とを有することを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光制御素子に関するもの
であり、特にレーザビームプリンタや光ディスクに適用
されるものであって、光を高速に偏向したり、光の結像
位置を高速に変化させる光制御素子に関するものであ
る。
であり、特にレーザビームプリンタや光ディスクに適用
されるものであって、光を高速に偏向したり、光の結像
位置を高速に変化させる光制御素子に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】透明媒体に電界を印加することで屈折率
が変化する電気光学効果を用いた光制御素子(EO素
子)は従来からいくつか提案されており、 電気光学材料内を通過する光を利用する方式のもの 電気光学材料上に形成した導波層を通過する光(導
波光)を利用する方式のもの 等がある。図2は上記の方式を用いた光偏向器の説明
図である。図2において、2は電気光学材料を示し、厚
さd(mm)の三角プリズム形状に形成されている。7、
8は電極を示し、電気光学材料2の表面および裏面に設
けられている。電極7、8に電圧を印加すると電気光学
材料2内に電界が発生し、この電界により出射光10を
偏向させている。図3は上記の方式を用いた光偏向器
の説明図である。図3において、2は電気光学材料であ
る。電気光学材料2上には導波層40が形成されてい
る。導波層40上には電極41、42が形成されてお
り、電極41、42間に電圧を印加すると導波層40表
面に電界が発生し、この電極間を通過した光(導波光)
10は偏向する。プリズム1は光9を導波層40に導く
ために用いられるものであるが、プリズム1の代わりに
グレーティング(回折格子)を用いる場合もある。
が変化する電気光学効果を用いた光制御素子(EO素
子)は従来からいくつか提案されており、 電気光学材料内を通過する光を利用する方式のもの 電気光学材料上に形成した導波層を通過する光(導
波光)を利用する方式のもの 等がある。図2は上記の方式を用いた光偏向器の説明
図である。図2において、2は電気光学材料を示し、厚
さd(mm)の三角プリズム形状に形成されている。7、
8は電極を示し、電気光学材料2の表面および裏面に設
けられている。電極7、8に電圧を印加すると電気光学
材料2内に電界が発生し、この電界により出射光10を
偏向させている。図3は上記の方式を用いた光偏向器
の説明図である。図3において、2は電気光学材料であ
る。電気光学材料2上には導波層40が形成されてい
る。導波層40上には電極41、42が形成されてお
り、電極41、42間に電圧を印加すると導波層40表
面に電界が発生し、この電極間を通過した光(導波光)
10は偏向する。プリズム1は光9を導波層40に導く
ために用いられるものであるが、プリズム1の代わりに
グレーティング(回折格子)を用いる場合もある。
【0003】
【発明が解決しようとする問題点】ここで、上記の方
式において、出射光10を大きく偏向させるためには前
記電界を大きくし、且つ入射光9の偏向方向のビーム径
Dを大きくする必要がある。また、小さな印加電圧で大
きな電界を得るためには電気光学材料2の厚さdを小さ
くする必要がある。このことを考慮して上記の方式の
光制御素子において出射光10を大きく偏向させようと
する場合には、厚さdの小さい電気光学材料に対し横方
向に大きく広げられた楕円形状の光を入射させる必要が
あり、このような構成を実現させること自体に困難性が
あった。 また、上記の方式において、出射光10を
大きく偏向させようとする場合には、電界を大きくし、
且つ偏向方向の光の幅を広くする必要がある。電界を大
きくするには電極間隔dを小さくすればよいのだが、光
の幅を大きくするためには電極間隔dを大きくしなけれ
ばならないという矛盾が生じる。結果として、この方式
においても大きな偏向角度を得ることは困難な方式であ
った。本発明は、小さい印加電圧で大きい偏向角度ある
いは大きな光結像位置変化を可能とする光制御素子を提
供することを目的としている。
式において、出射光10を大きく偏向させるためには前
記電界を大きくし、且つ入射光9の偏向方向のビーム径
Dを大きくする必要がある。また、小さな印加電圧で大
きな電界を得るためには電気光学材料2の厚さdを小さ
くする必要がある。このことを考慮して上記の方式の
光制御素子において出射光10を大きく偏向させようと
する場合には、厚さdの小さい電気光学材料に対し横方
向に大きく広げられた楕円形状の光を入射させる必要が
あり、このような構成を実現させること自体に困難性が
あった。 また、上記の方式において、出射光10を
大きく偏向させようとする場合には、電界を大きくし、
且つ偏向方向の光の幅を広くする必要がある。電界を大
きくするには電極間隔dを小さくすればよいのだが、光
の幅を大きくするためには電極間隔dを大きくしなけれ
ばならないという矛盾が生じる。結果として、この方式
においても大きな偏向角度を得ることは困難な方式であ
った。本発明は、小さい印加電圧で大きい偏向角度ある
いは大きな光結像位置変化を可能とする光制御素子を提
供することを目的としている。
【0004】
【問題点を解決するための手段】本発明の光制御素子
は、電気光学材料と、前記電気光学材料の表面に装着し
た光屈折手段と、前記電気光学材料の表面および裏面に
設けた電極とを有する構成とすることにより上記目的を
達成するようにした。さらに、前記電気光学材料上に導
波層を形成したことにより上記目的を達成するようにし
た。
は、電気光学材料と、前記電気光学材料の表面に装着し
た光屈折手段と、前記電気光学材料の表面および裏面に
設けた電極とを有する構成とすることにより上記目的を
達成するようにした。さらに、前記電気光学材料上に導
波層を形成したことにより上記目的を達成するようにし
た。
【0005】
【作用】上記のように構成することにより、小さい印加
電圧で大きい偏向角度あるいは大きな光結像位置変化を
可能とする光制御素子を提供することができる。
電圧で大きい偏向角度あるいは大きな光結像位置変化を
可能とする光制御素子を提供することができる。
【0006】
【実施例】以下、本発明の実施例を図を用いて説明す
る。図1は本発明となる光制御素子の説明図である。図
1に示す光制御素子は電気光学材料2内を通過する光を
偏向する機能をもっている。電気光学材料2は厚み方向
をz方向とするLiNbO3結晶を用いる。光の通過す
る状況は図6に示されている。入射光8は偏向方向が矢
印で示すようにほぼz方向に近い傾きで偏向する。電気
光学材料2の厚みは薄いため光が材料2内を概略表面に
平行に進むようにさせる必要がある。材料2の屈折率は
2.22と高いため、それより屈折率の高いルチルプリ
ズム1を光屈折手段として用いて光を材料2内に導く。
材料2内の光は裏面で全反射され、ルチルプリズム1で
外に取り出される。電気光学材料2の表面には三角形状
をした電極4が形成され、裏面には電極3が全面に形成
されている。それぞれの電極はリード線5、6によって
電圧が印加され、z方向に電界を発生させる。この電界
により電気光学材料2内の屈折率が変化し、光を偏向さ
せる。三角形状の電極により光を偏向させる原理を図
4、図5で説明する。図4は、電極10の下を電気光学
材料2内の光が通過する場合を示している。光の幅をD
としている。電極のないところの屈折率をn、電極のあ
るところは電気光学効果で屈折率がn+Δnになってい
るとする。電気光学材料の電気光学係数をr,材料の厚
みをd,印加電圧をVとすると,Δnは次式で表され
る。 Δn=(1/2)n3rV/d (1) 図4の偏向角φは、 φ=Δnl (2) 図5は電気光学材料の外に出射した光を焦点距離fのレ
ンズ11で絞り込んだ場合を示す。材料の外に出射した
光の偏向角ψは、 ψ=nφ (3) 絞り込んだスポット径δは、 δ=4λf/(πD) (4) で与えられる。解像点数Nは、 N=fψ/δ で表され、式(1)から式(4)を用いて次式となる。 N=(1/8λ)πln4r(V/d) (5) 三角電極の底辺lは光の幅Dに比例するので、式(5)
から解像点数を増すには光の幅Dを大きく、かつ電気光
学材料の厚みdを小さくする必要があることがわかる。
すでに図1および図6で述べた本発明の光制御素子では
材料表面から光を入射させるので入射光の幅Dを容易に
大きくすることができる。また、電気光学材料の幅dは
研磨あるいは蒸着等の手段で小さくすることができる。
式(5)において、電気光学材料としてLiNbO3結
晶を用い、 r= 30.8×10(-12)m/V n= 2.22 λ= 0.633[μm] l= 5.0 [mm] d= 0.1 [mm] V=100.0 [v] とすると、解像点数は約2が得られる。図1および図6
においてはプリズムによって、電気光学材料2内に光を
導いたが、図7のごとくグレーティングを用いてもよ
い。また、図8のごとく光を出射するときは材料2端面
から出射させるのも便利である。図9は図1および図6
で用いた三角形状電極ではなく円形状電極16を用いた
本発明の他の実施例を示し、プリズムの代わりにグレー
ティング13を用いた場合を例にとり説明している。電
気光学材料2内の光の伝導は図7と同様である。円形状
電極16と裏面の一様電極間にはそれぞれリード線5、
6を通して電圧が印加される。この光制御素子は光結像
位置を高速に変化させる機能をもつ。すなはち高速可変
焦点の円筒レンズとしての機能をもっている。この動作
原理を図10を用いて説明する。光14が円形状電極1
6の下を通過している。円形状電極16には電圧が印加
されており、出射した光17は電気光学効果により変調
されている。ここで、19は材料と空中との界面として
いる。材料の外に配置された球面形状からなるレンズ1
8はスクリーン20上に光を絞り込む。光22は電極1
6に電圧が印加されていない場合であり、図11におい
て23に示すようにスクリーン20上では等方的なスポ
ット形状をしている。電極に電圧を印加すると、この光
制御素子の光を一方向に収束あるいは発散させる機能に
より図10において21のごとく材料表面方向の光の結
像位置が変化する。このため、スクリーン上では図11
において24に示すようにスポット形状が一方向に大き
くなった楕円状スポットが得られる。 したがって、こ
の素子はスポット径を可変にする素子として用いること
ができる。つぎに、具体的に、動作特性を算出する。円
形状電極に電圧Vが印加され、その場所の屈折率がΔn
だけ増したとする。このとき円形状電極部は円筒レンズ
のような機能を持つ。そして、その誘起されたレンズの
焦点距離をf1とすると、f1は次式で与えられる。 f1=D/(4Δn) (6) レンズ18の焦点距離をf2とすると、誘起されたレン
ズ16のためにスクリーンでの結像点は、 Δb=−(f2)2/f1 (7) だけ、ずれることになる。
る。図1は本発明となる光制御素子の説明図である。図
1に示す光制御素子は電気光学材料2内を通過する光を
偏向する機能をもっている。電気光学材料2は厚み方向
をz方向とするLiNbO3結晶を用いる。光の通過す
る状況は図6に示されている。入射光8は偏向方向が矢
印で示すようにほぼz方向に近い傾きで偏向する。電気
光学材料2の厚みは薄いため光が材料2内を概略表面に
平行に進むようにさせる必要がある。材料2の屈折率は
2.22と高いため、それより屈折率の高いルチルプリ
ズム1を光屈折手段として用いて光を材料2内に導く。
材料2内の光は裏面で全反射され、ルチルプリズム1で
外に取り出される。電気光学材料2の表面には三角形状
をした電極4が形成され、裏面には電極3が全面に形成
されている。それぞれの電極はリード線5、6によって
電圧が印加され、z方向に電界を発生させる。この電界
により電気光学材料2内の屈折率が変化し、光を偏向さ
せる。三角形状の電極により光を偏向させる原理を図
4、図5で説明する。図4は、電極10の下を電気光学
材料2内の光が通過する場合を示している。光の幅をD
としている。電極のないところの屈折率をn、電極のあ
るところは電気光学効果で屈折率がn+Δnになってい
るとする。電気光学材料の電気光学係数をr,材料の厚
みをd,印加電圧をVとすると,Δnは次式で表され
る。 Δn=(1/2)n3rV/d (1) 図4の偏向角φは、 φ=Δnl (2) 図5は電気光学材料の外に出射した光を焦点距離fのレ
ンズ11で絞り込んだ場合を示す。材料の外に出射した
光の偏向角ψは、 ψ=nφ (3) 絞り込んだスポット径δは、 δ=4λf/(πD) (4) で与えられる。解像点数Nは、 N=fψ/δ で表され、式(1)から式(4)を用いて次式となる。 N=(1/8λ)πln4r(V/d) (5) 三角電極の底辺lは光の幅Dに比例するので、式(5)
から解像点数を増すには光の幅Dを大きく、かつ電気光
学材料の厚みdを小さくする必要があることがわかる。
すでに図1および図6で述べた本発明の光制御素子では
材料表面から光を入射させるので入射光の幅Dを容易に
大きくすることができる。また、電気光学材料の幅dは
研磨あるいは蒸着等の手段で小さくすることができる。
式(5)において、電気光学材料としてLiNbO3結
晶を用い、 r= 30.8×10(-12)m/V n= 2.22 λ= 0.633[μm] l= 5.0 [mm] d= 0.1 [mm] V=100.0 [v] とすると、解像点数は約2が得られる。図1および図6
においてはプリズムによって、電気光学材料2内に光を
導いたが、図7のごとくグレーティングを用いてもよ
い。また、図8のごとく光を出射するときは材料2端面
から出射させるのも便利である。図9は図1および図6
で用いた三角形状電極ではなく円形状電極16を用いた
本発明の他の実施例を示し、プリズムの代わりにグレー
ティング13を用いた場合を例にとり説明している。電
気光学材料2内の光の伝導は図7と同様である。円形状
電極16と裏面の一様電極間にはそれぞれリード線5、
6を通して電圧が印加される。この光制御素子は光結像
位置を高速に変化させる機能をもつ。すなはち高速可変
焦点の円筒レンズとしての機能をもっている。この動作
原理を図10を用いて説明する。光14が円形状電極1
6の下を通過している。円形状電極16には電圧が印加
されており、出射した光17は電気光学効果により変調
されている。ここで、19は材料と空中との界面として
いる。材料の外に配置された球面形状からなるレンズ1
8はスクリーン20上に光を絞り込む。光22は電極1
6に電圧が印加されていない場合であり、図11におい
て23に示すようにスクリーン20上では等方的なスポ
ット形状をしている。電極に電圧を印加すると、この光
制御素子の光を一方向に収束あるいは発散させる機能に
より図10において21のごとく材料表面方向の光の結
像位置が変化する。このため、スクリーン上では図11
において24に示すようにスポット形状が一方向に大き
くなった楕円状スポットが得られる。 したがって、こ
の素子はスポット径を可変にする素子として用いること
ができる。つぎに、具体的に、動作特性を算出する。円
形状電極に電圧Vが印加され、その場所の屈折率がΔn
だけ増したとする。このとき円形状電極部は円筒レンズ
のような機能を持つ。そして、その誘起されたレンズの
焦点距離をf1とすると、f1は次式で与えられる。 f1=D/(4Δn) (6) レンズ18の焦点距離をf2とすると、誘起されたレン
ズ16のためにスクリーンでの結像点は、 Δb=−(f2)2/f1 (7) だけ、ずれることになる。
【0007】結像点がΔbずれたことによる、光スポッ
トの拡がりδ(Δb)は次式で与えられる。
トの拡がりδ(Δb)は次式で与えられる。
【0008】 δ(Δb)2=(δ0)2{1+(Δb)2/(z0)2} (8) ただし、δ0は結像点ずれがないときのスポット径、z
0は次式であらわされる量である。 z0=π(δ0)2/(4λ) (9) 結像点ずれによるスポット径の拡がりの比率をmとする
と、 m=δ(Δb)/δ0 であり、式(6)から式(9)および式(1)を代入し
て次式が求められる。 m=√[1+〔(π/2λ)Dn3r(V/d)〕2] (10) 電気光学材料としてLiNbO3結晶を用い、 r= 30.8×10(-12) m/V n= 2.22 λ= 0.633[μm] D= 5.0 [mm] d= 0.1 [mm] V=100.0 [v] とすると、式(10)からm=4.2となりスポット径
を4倍も変化させることができることがわかる。
0は次式であらわされる量である。 z0=π(δ0)2/(4λ) (9) 結像点ずれによるスポット径の拡がりの比率をmとする
と、 m=δ(Δb)/δ0 であり、式(6)から式(9)および式(1)を代入し
て次式が求められる。 m=√[1+〔(π/2λ)Dn3r(V/d)〕2] (10) 電気光学材料としてLiNbO3結晶を用い、 r= 30.8×10(-12) m/V n= 2.22 λ= 0.633[μm] D= 5.0 [mm] d= 0.1 [mm] V=100.0 [v] とすると、式(10)からm=4.2となりスポット径
を4倍も変化させることができることがわかる。
【0009】第7図に示した入射光から出射光に変換す
るために両方グレーティングを用いた素子は次の点でも
優れている。すなわち、レーザとして半導体レーザを用
いる場合、半導体レーザは環境温度の変化で波長変動を
生じ易いが、第7図の素子は波長変動があってもそれに
影響されない光学的特性を示す。この理由は、レーザ光
に波長変動があり、入射側グレーティングで光が異なる
角度で回折されても、結晶裏面で反射し、出射側グレー
ティングを出射する光は出射側グレーティングの回折
時、入射側グレーティングと同様の回折効果で相殺さ
れ、結果として出射光の出射角度は波長変動に影響され
ないことになる。もし、出射光の出射角度が突然に変わ
るようなことがあれば、レーザプリンタの場合はレーザ
光による光記録位置が突然変化することを生じ、良好な
印字品質が得られないことは明らかである。
るために両方グレーティングを用いた素子は次の点でも
優れている。すなわち、レーザとして半導体レーザを用
いる場合、半導体レーザは環境温度の変化で波長変動を
生じ易いが、第7図の素子は波長変動があってもそれに
影響されない光学的特性を示す。この理由は、レーザ光
に波長変動があり、入射側グレーティングで光が異なる
角度で回折されても、結晶裏面で反射し、出射側グレー
ティングを出射する光は出射側グレーティングの回折
時、入射側グレーティングと同様の回折効果で相殺さ
れ、結果として出射光の出射角度は波長変動に影響され
ないことになる。もし、出射光の出射角度が突然に変わ
るようなことがあれば、レーザプリンタの場合はレーザ
光による光記録位置が突然変化することを生じ、良好な
印字品質が得られないことは明らかである。
【0010】いままでは、電気光学材料内を光が伝導す
る場合を示したが、導波層を伝導させてもよい。図12
は電気光学材料2としてzカットLiNbO3結晶を用
い、表面25にTi拡散による導波層を形成させた場合
を示している。入射光8はグレーティング13で導波層
に導かれ、導波光26となる。電極50はすでに説明し
たように、光偏向素子として用いる場合は三角形状、可
変焦点素子として用いる場合は円形状のものを用いる。
る場合を示したが、導波層を伝導させてもよい。図12
は電気光学材料2としてzカットLiNbO3結晶を用
い、表面25にTi拡散による導波層を形成させた場合
を示している。入射光8はグレーティング13で導波層
に導かれ、導波光26となる。電極50はすでに説明し
たように、光偏向素子として用いる場合は三角形状、可
変焦点素子として用いる場合は円形状のものを用いる。
【0011】以上述べた光制御素子は高速で光を制御で
きるので幅広い装置への適用が可能である。例えば、レ
ーザビームプリンタ装置では記録材料に記録するドット
の大きさを高速に変化させることで中間調記録を精度良
く行うことができる。すなわち、ドットを記録する時、
大きなドットで記録すると黒濃度の濃い記録となり、小
さなドットで記録すると黒濃度の薄い記録となる。この
方法で、黒から白までの階調数が大きくとれることにな
り中間調が重要な画像を忠実に記録できる。図13は光
制御素子として、本発明の図1に示した光偏向素子を用
いた場合を示している。レーザビームプリンタでは記録
材料上を回転多面鏡で光を矢印27で示すように走査す
る。光を強度変調することでドット28、29、30が
記録される。ドット28は光の記録時間を短くした場合
で、小さなドットすなわち黒濃度の薄い記録がなされ
る。ドット29は光の記録時間を長くした場合で、ドッ
ト28より濃い記録となる。ドット30は記録時間をド
ット29の場合と同じにし、さらに本発明の光偏向素子
で光走査線と垂直方向に光を鋸歯状的に振動させて記録
したものである。記録されるドットは大きなものとなり
黒濃度の濃い記録となる。光走査線に垂直な方向に振動
させる振幅を変化させることで幅広い階調が表現できる
ようになる。
きるので幅広い装置への適用が可能である。例えば、レ
ーザビームプリンタ装置では記録材料に記録するドット
の大きさを高速に変化させることで中間調記録を精度良
く行うことができる。すなわち、ドットを記録する時、
大きなドットで記録すると黒濃度の濃い記録となり、小
さなドットで記録すると黒濃度の薄い記録となる。この
方法で、黒から白までの階調数が大きくとれることにな
り中間調が重要な画像を忠実に記録できる。図13は光
制御素子として、本発明の図1に示した光偏向素子を用
いた場合を示している。レーザビームプリンタでは記録
材料上を回転多面鏡で光を矢印27で示すように走査す
る。光を強度変調することでドット28、29、30が
記録される。ドット28は光の記録時間を短くした場合
で、小さなドットすなわち黒濃度の薄い記録がなされ
る。ドット29は光の記録時間を長くした場合で、ドッ
ト28より濃い記録となる。ドット30は記録時間をド
ット29の場合と同じにし、さらに本発明の光偏向素子
で光走査線と垂直方向に光を鋸歯状的に振動させて記録
したものである。記録されるドットは大きなものとなり
黒濃度の濃い記録となる。光走査線に垂直な方向に振動
させる振幅を変化させることで幅広い階調が表現できる
ようになる。
【0012】図14は光制御素子として図9に示した本
発明の可変焦点素子を用いたレーザビームプリンタの記
録方法を示している。可変焦点素子を動作させないとき
はドット28、29が記録される。可変焦点素子を動作
させ、光スポットを31に示すように走査線27と垂直
方向に大きくし、記録すると、ドットは32に示すよう
に大きなものとなり、黒濃度の濃い記録ができる。この
方法も、スポットの大きさを変化させることで幅広い階
調が表現できるようになる。
発明の可変焦点素子を用いたレーザビームプリンタの記
録方法を示している。可変焦点素子を動作させないとき
はドット28、29が記録される。可変焦点素子を動作
させ、光スポットを31に示すように走査線27と垂直
方向に大きくし、記録すると、ドットは32に示すよう
に大きなものとなり、黒濃度の濃い記録ができる。この
方法も、スポットの大きさを変化させることで幅広い階
調が表現できるようになる。
【0013】以上、図13および図14で述べたよう
に、本発明の光制御素子を用いると階調数の高い記録が
可能となる。
に、本発明の光制御素子を用いると階調数の高い記録が
可能となる。
【0014】図15は相変化型と称される光ディスク装
置に用いる例を示している。図15(a)は光ディスク
が矢印33で示すように回転し、トラック34上を記録
スポットWがデータを記録している場合を示している。
図15(b)は本発明の図9に示した光制御素子を動作
させスポットをWから図中Eに示すようにトラック方向
に細長くしデータを消去する場合を示している。このよ
うに細長いスポットにするのは、一度熱せられた光ディ
スク相変化材料が、スポットが細長いため徐冷されるこ
とになり、消去状態に対応する相に相変化するためであ
る。
置に用いる例を示している。図15(a)は光ディスク
が矢印33で示すように回転し、トラック34上を記録
スポットWがデータを記録している場合を示している。
図15(b)は本発明の図9に示した光制御素子を動作
させスポットをWから図中Eに示すようにトラック方向
に細長くしデータを消去する場合を示している。このよ
うに細長いスポットにするのは、一度熱せられた光ディ
スク相変化材料が、スポットが細長いため徐冷されるこ
とになり、消去状態に対応する相に相変化するためであ
る。
【0015】また、本発明の光偏向素子は光ディスクに
おいて、光を高速に偏向することで異なるトラックに高
速にアクセスしデータを読みだす装置においても有効に
適用
おいて、光を高速に偏向することで異なるトラックに高
速にアクセスしデータを読みだす装置においても有効に
適用
【0016】できるものとなる。
【発明の効果】以上説明したように本発明の光制御素子
によれば、電気光学材料と、前記電気光学材料の表面に
装着した光屈折手段と、前記電気光学材料の表面および
裏面に設けた電極とを有する光制御素子を構成すること
により、小さい印加電圧で大きい偏向角度あるいは大き
な光結像位置変化を可能とする光制御素子を提供するこ
とができる。
によれば、電気光学材料と、前記電気光学材料の表面に
装着した光屈折手段と、前記電気光学材料の表面および
裏面に設けた電極とを有する光制御素子を構成すること
により、小さい印加電圧で大きい偏向角度あるいは大き
な光結像位置変化を可能とする光制御素子を提供するこ
とができる。
【図1】 本発明となる光制御素子の説明図である。
【図2】 従来の光偏向器を示す説明図である。
【図3】 従来の導波層形光偏向素子を示す説明図であ
る。
る。
【図4】 三角形状電極を用いた光偏向素子の偏向原理
の説明図である。
の説明図である。
【図5】 三角形状電極を用いた光偏向素子の偏向原理
の説明図である。
の説明図である。
【図6】 本発明の素子中を光が伝搬する状況を説明す
る断面図である。
る断面図である。
【図7】 本発明の素子中を光が伝搬する状況を説明す
る断面図である。
る断面図である。
【図8】 本発明の素子中を光が伝搬する状況を説明す
る断面図である。
る断面図である。
【図9】 本発明の可変焦点機能を持つ光制御素子を示
す図である。
す図である。
【図10】円形状電極を用いた素子の可変焦点原理を説
明する模式図である。
明する模式図である。
【図11】円形状電極を用いた素子の可変焦点原理を説
明する模式図である。
明する模式図である。
【図12】本発明の導波層を利用した光制御素子を示す
模式図である。
模式図である。
【図13】本発明をレーザビームプリンタに適用した場
合の説明図である。
合の説明図である。
【図14】本発明をレーザビームプリンタに適用した場
合の説明図である。
合の説明図である。
【図15】本発明を相変化型光ディスクに適用した場合
の説明図である。
の説明図である。
1・・・ルチルプリズム、2・・・電気光学材料、3・・・電
極、4・・・電極、5・・・リード線、6・・・リード線。
極、4・・・電極、5・・・リード線、6・・・リード線。
Claims (2)
- 【請求項1】 電気光学材料と、 前記電気光学材料の表面に装着した光屈折手段と、 前記電気光学材料の表面および裏面に設けた電極と、 を有することを特徴とする光制御素子。
- 【請求項2】 前記電気光学材料上に導波層を形成した
ことを特徴とする請求項1記載の 光制御素
子。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3295936A JPH05134275A (ja) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | 光制御素子 |
US07/973,620 US5444567A (en) | 1991-11-12 | 1992-11-09 | Light control device |
DE4238251A DE4238251A1 (en) | 1991-11-12 | 1992-11-12 | Light beam deflection controller for laser printer or optical disc system - has thin base of electro optical material with electrode controlling deflection through pair of prisms |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3295936A JPH05134275A (ja) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | 光制御素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05134275A true JPH05134275A (ja) | 1993-05-28 |
Family
ID=17827036
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3295936A Pending JPH05134275A (ja) | 1991-11-12 | 1991-11-12 | 光制御素子 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5444567A (ja) |
JP (1) | JPH05134275A (ja) |
DE (1) | DE4238251A1 (ja) |
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US6999169B2 (en) | 2002-01-10 | 2006-02-14 | Yokogawa Electric Corporation | Spectrometer |
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US6526187B1 (en) | 2001-05-17 | 2003-02-25 | Optronx, Inc. | Polarization control apparatus and associated method |
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US6865310B2 (en) * | 2002-08-09 | 2005-03-08 | Fujitsu Limited | Multi-layer thin film optical waveguide switch |
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1991
- 1991-11-12 JP JP3295936A patent/JPH05134275A/ja active Pending
-
1992
- 1992-11-09 US US07/973,620 patent/US5444567A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-11-12 DE DE4238251A patent/DE4238251A1/de not_active Withdrawn
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Publication number | Publication date |
---|---|
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A02 | Decision of refusal |
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