JPH05131287A - Cw炭酸ガスレーザ光線の入力結合法 - Google Patents
Cw炭酸ガスレーザ光線の入力結合法Info
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- JPH05131287A JPH05131287A JP3270669A JP27066991A JPH05131287A JP H05131287 A JPH05131287 A JP H05131287A JP 3270669 A JP3270669 A JP 3270669A JP 27066991 A JP27066991 A JP 27066991A JP H05131287 A JPH05131287 A JP H05131287A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 CW炭酸ガスレーザの場合の吸収率を、比較
的低廉な手段でもって高めることである。 【構成】 材料区域もしくは材料部位又は該材料部位区
分の面上に炭酸ガスパルスレーザの光線を集束するよう
にする。
的低廉な手段でもって高めることである。 【構成】 材料区域もしくは材料部位又は該材料部位区
分の面上に炭酸ガスパルスレーザの光線を集束するよう
にする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、材料区域もしくは材料
部位又は該材料部位区分内へCW炭酸ガスレーザ光線を
入力結合する方法に関するものである。
部位又は該材料部位区分内へCW炭酸ガスレーザ光線を
入力結合する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】レーザ光線による材料加工法のうち、溶
接法と切断法はすでに多数の適用例のために産業上の生
産において採用されている。溶接法及び切断法は共に、
被加工材料をレーザ光線のエネルギによって加熱する熱
加工法である。概してその他の溶接法及び切断法とは異
なって、集束されたレーザ光線の焦点におけるエネルギ
供給は著しく迅速かつ強力に行なわれる。その結果、時
間的かつ場所的に狭く局限された加熱並びに高い溶接速
度と切断速度が得られる。材料内へは、ごく僅かな熱し
か流れず、熱負荷及び歪は僅かである。例えば炭酸ガス
(CO2 )レーザの場合には材料加工のために比較的高
い放射出力が必要になる。この場合、連続波(CW)式
運転又はパルス式運転が可能である。
接法と切断法はすでに多数の適用例のために産業上の生
産において採用されている。溶接法及び切断法は共に、
被加工材料をレーザ光線のエネルギによって加熱する熱
加工法である。概してその他の溶接法及び切断法とは異
なって、集束されたレーザ光線の焦点におけるエネルギ
供給は著しく迅速かつ強力に行なわれる。その結果、時
間的かつ場所的に狭く局限された加熱並びに高い溶接速
度と切断速度が得られる。材料内へは、ごく僅かな熱し
か流れず、熱負荷及び歪は僅かである。例えば炭酸ガス
(CO2 )レーザの場合には材料加工のために比較的高
い放射出力が必要になる。この場合、連続波(CW)式
運転又はパルス式運転が可能である。
【0003】レーザ光線が材料面に照射すると、放射エ
ネルギは一部反射され、一部吸収されるが、この場合の
吸収率はレーザ光線の波長と材料とに関連している。C
W炭酸ガスレーザは、10.6μmの波長で稼働され、
その場合例えば鉄は入射エネルギの約10%しか吸収す
ることができない。金属における僅かな吸収率は、前記
波長範囲における反射能を導電能の増大に伴って上昇さ
せるようにして実現される。鉄における吸収率はレーザ
光線の作用時間の増大に伴って改善される。それという
のは、吸収される僅かな放射エネルギが材料を加熱し、
従ってこの場合導電能(プラズマ雲の発生)、ひいては
反射能が低下するからである。鉄の場合最終効果ではC
W炭酸ガスレーザによって約20%の吸収率が得られ
る。
ネルギは一部反射され、一部吸収されるが、この場合の
吸収率はレーザ光線の波長と材料とに関連している。C
W炭酸ガスレーザは、10.6μmの波長で稼働され、
その場合例えば鉄は入射エネルギの約10%しか吸収す
ることができない。金属における僅かな吸収率は、前記
波長範囲における反射能を導電能の増大に伴って上昇さ
せるようにして実現される。鉄における吸収率はレーザ
光線の作用時間の増大に伴って改善される。それという
のは、吸収される僅かな放射エネルギが材料を加熱し、
従ってこの場合導電能(プラズマ雲の発生)、ひいては
反射能が低下するからである。鉄の場合最終効果ではC
W炭酸ガスレーザによって約20%の吸収率が得られ
る。
【0004】またモリブデン、タングステン及びタンタ
ルも鉄に類似した挙動を示す。金、銀、銅及びアルミニ
ウムのような高反射性金属は極く僅かしか吸収せず、従
ってCW炭酸ガスレーザによってはそれほど良好な稼働
成績は挙げられない。
ルも鉄に類似した挙動を示す。金、銀、銅及びアルミニ
ウムのような高反射性金属は極く僅かしか吸収せず、従
ってCW炭酸ガスレーザによってはそれほど良好な稼働
成績は挙げられない。
【0005】レーザ光線の照射強度を高めると、被加工
材料はレーザ作用部位で表面的に溶融されるばかりでな
く、徹底的に溶融される。これによって、互いに突合わ
さっている2つの被加工材料は溶接されることになる。
レーザ光線の照射強度を更に高めることによって、材料
はレーザ光線によって、蒸発してプラズマ状態へ移行す
るほど強く加熱される。これによって被加工材料内への
レーザ光線の著しく良好な入力結合が生じる。その場合
著しく高い入力密度が必要である。
材料はレーザ作用部位で表面的に溶融されるばかりでな
く、徹底的に溶融される。これによって、互いに突合わ
さっている2つの被加工材料は溶接されることになる。
レーザ光線の照射強度を更に高めることによって、材料
はレーザ光線によって、蒸発してプラズマ状態へ移行す
るほど強く加熱される。これによって被加工材料内への
レーザ光線の著しく良好な入力結合が生じる。その場合
著しく高い入力密度が必要である。
【0006】被加工材料の反射性表面の吸収率を改善す
るために、黒鉛粉末によって被覆層を形成することは公
知である。
るために、黒鉛粉末によって被覆層を形成することは公
知である。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、CW
炭酸ガスレーザの場合の吸収率を、比較的低廉な手段で
もって高めることである。
炭酸ガスレーザの場合の吸収率を、比較的低廉な手段で
もって高めることである。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の構成手段は、材料区域もしくは材料部位又は該材料
部位区分の面上に炭酸ガスパルスレーザの光線を集束す
る点にある。
明の構成手段は、材料区域もしくは材料部位又は該材料
部位区分の面上に炭酸ガスパルスレーザの光線を集束す
る点にある。
【0009】
【作用】本発明の前記構成に基づいて、比較的低廉な炭
酸ガス−ミニ−パルスレーザ、殊に有利にはTEA炭酸
ガスパルスレーザを用いて、CW炭酸ガスレーザの効率
が著しく高められる。それというのは炭酸ガスパルスレ
ーザにより、10ns(ns=ナノ秒)〜100μs
(μs=マイクロ秒)範囲内の充分に短いパルス持続時
間で、しかも殊に約100mJの小さなパルスエネルギ
の場合でさえもメガワット範囲のピーク出力が得られ、
該ピーク出力によって常にプラズマ雲が発生されるから
である。炭酸ガスパルスレーザのレーザ光線が、加工す
べき材料部位区分に対して同時にか又は「先行して」方
位づけられる場合には、CW炭酸ガスレーザの処理速度
を加工操作中に高めることが可能である。そればかりで
なく、操作工の安全性が高められる。それというのは、
レーザ光線が被加工材料の表面によって反射される度合
が少ないからである。
酸ガス−ミニ−パルスレーザ、殊に有利にはTEA炭酸
ガスパルスレーザを用いて、CW炭酸ガスレーザの効率
が著しく高められる。それというのは炭酸ガスパルスレ
ーザにより、10ns(ns=ナノ秒)〜100μs
(μs=マイクロ秒)範囲内の充分に短いパルス持続時
間で、しかも殊に約100mJの小さなパルスエネルギ
の場合でさえもメガワット範囲のピーク出力が得られ、
該ピーク出力によって常にプラズマ雲が発生されるから
である。炭酸ガスパルスレーザのレーザ光線が、加工す
べき材料部位区分に対して同時にか又は「先行して」方
位づけられる場合には、CW炭酸ガスレーザの処理速度
を加工操作中に高めることが可能である。そればかりで
なく、操作工の安全性が高められる。それというのは、
レーザ光線が被加工材料の表面によって反射される度合
が少ないからである。
【0010】本発明の方法は、特に、複雑な被加工材料
輪郭、例えばギャップや溝を加工する場合に使用される
のが有利である。
輪郭、例えばギャップや溝を加工する場合に使用される
のが有利である。
【0011】
【実施例】次に図面に基づいて本発明の実施例を説明す
る。
る。
【0012】例えば10.6μmのCW炭酸ガスレーザ
の赤外線は特に金属によって強反射されるので、照射加
工時の吸収特性はレーザ光線の吸収される部分の加熱に
よって初めて変化されねばならない。それ故に特定の材
料できわめて平滑な表面の場合、CW−CO2 レーザ光
線の入力結合は、キロワット範囲の一次連続定格の場合
でさえも極く僅かな度合でしか、すなわち0〜20%の
範囲でしか可能でなく、いずれにしても常に一次赤外線
の可成りの部分が反射される訳である。
の赤外線は特に金属によって強反射されるので、照射加
工時の吸収特性はレーザ光線の吸収される部分の加熱に
よって初めて変化されねばならない。それ故に特定の材
料できわめて平滑な表面の場合、CW−CO2 レーザ光
線の入力結合は、キロワット範囲の一次連続定格の場合
でさえも極く僅かな度合でしか、すなわち0〜20%の
範囲でしか可能でなく、いずれにしても常に一次赤外線
の可成りの部分が反射される訳である。
【0013】それ故に吸収特性を著しく改善するために
本発明は、比較的小型の炭酸ガスパルスレーザの照射線
をCW−CO2 レーザ光線と一緒に同一の加工区域に集
束することを提案するものである。小型のCO2 パルス
レーザは、約100mJの小さなパルスエネルギーの場
合でさえも10ns〜100μs範囲の充分に短いパル
ス持続時間でメガワット範囲のピーク出力を送出するの
で、出力密度が高いために(短時間で108Watt/
cm2以上の高い出力密度のゆえに)任意の被加工表面
に前記照射線を集束すると常にプラズマ雲が発生され、
かつまた、被加工表面の吸収特性が著しく迅速に変化さ
れ、こうしてCW−CO2 レーザ光線の入力結合が初め
て可能になり、あるいは著しく改善される。CO2 パル
スレーザ光線を発生させるための経費を低減するため
に、充分に高い繰返し周波数(該繰返し周波数は加工速
度に応じて100Hz〜1kHzの範囲になければなら
ない)をもったメガワット範囲のきわめて短いパルスを
発生させるのが有利である。これはCO2 ミニTEAパ
ルスレーザを用いて有利に達成することができる。該C
O2 ミニTEAパルスレーザは、CO2とN2とから成る
混合気体を用いる場合には100Hz〜1kHz範囲の
繰返し周波数で5%以上の高い効率で容易に稼働するこ
とができるので、レーザの仕入れ費もその運転費も共に
きわめて低額である。
本発明は、比較的小型の炭酸ガスパルスレーザの照射線
をCW−CO2 レーザ光線と一緒に同一の加工区域に集
束することを提案するものである。小型のCO2 パルス
レーザは、約100mJの小さなパルスエネルギーの場
合でさえも10ns〜100μs範囲の充分に短いパル
ス持続時間でメガワット範囲のピーク出力を送出するの
で、出力密度が高いために(短時間で108Watt/
cm2以上の高い出力密度のゆえに)任意の被加工表面
に前記照射線を集束すると常にプラズマ雲が発生され、
かつまた、被加工表面の吸収特性が著しく迅速に変化さ
れ、こうしてCW−CO2 レーザ光線の入力結合が初め
て可能になり、あるいは著しく改善される。CO2 パル
スレーザ光線を発生させるための経費を低減するため
に、充分に高い繰返し周波数(該繰返し周波数は加工速
度に応じて100Hz〜1kHzの範囲になければなら
ない)をもったメガワット範囲のきわめて短いパルスを
発生させるのが有利である。これはCO2 ミニTEAパ
ルスレーザを用いて有利に達成することができる。該C
O2 ミニTEAパルスレーザは、CO2とN2とから成る
混合気体を用いる場合には100Hz〜1kHz範囲の
繰返し周波数で5%以上の高い効率で容易に稼働するこ
とができるので、レーザの仕入れ費もその運転費も共に
きわめて低額である。
【0014】更に遥かに効果的な材料加工を可能にする
ためには、補助レーザは、CW−CO2 レーザ光線の1
/100に過ぎない平均出力で充分である。パルスレー
ザ光線は更に又、CW−CO2 レーザ加工ビームに直接
に入力結合され、これによってただ1つの加工光学素子
しか必要とせずかつ多岐にわたる調節作業を省けるよう
にすることもでき、あるいは又、最適な「先行効果(V
orlauf)」を得るために別々に独自の収束レンズ
を用いてCW−CO2 レーザ光線の焦点上又は該焦点の
周縁に照準されてもよい。
ためには、補助レーザは、CW−CO2 レーザ光線の1
/100に過ぎない平均出力で充分である。パルスレー
ザ光線は更に又、CW−CO2 レーザ加工ビームに直接
に入力結合され、これによってただ1つの加工光学素子
しか必要とせずかつ多岐にわたる調節作業を省けるよう
にすることもでき、あるいは又、最適な「先行効果(V
orlauf)」を得るために別々に独自の収束レンズ
を用いてCW−CO2 レーザ光線の焦点上又は該焦点の
周縁に照準されてもよい。
【0015】本発明ではCW−CO2 レーザの場合、要
するに時間的に連続して出力を送出して連続稼働するC
O2 レーザの場合では、CO2 パルスレーザによる吸収
発生作用を活用することによってCWレーザ光線のパル
スを発生させるのが有利である。このためにCW−CO
2レーザから出力結合された出力密度を有するレーザ光
線が、材料への入力結合を許容しない材料区域もしくは
材料部位に又は該材料部位区分の面上に集束される。前
記材料区域もしくは材料部位又は該材料部位区分の面上
に集束されたCO2 パルスレーザの光線によって被加工
材料は、プラズマ状態へ移行するほど強く加熱される。
これによって被加工材料へのCW−CO2 レーザ光線の
吸収が行なわれる。CO2 パルスレーザ光線の入射時間
に関連したオン・オフ切換えによって、CW−CO2 レ
ーザ光線のパルスが被加工材料へ入力結合される。
するに時間的に連続して出力を送出して連続稼働するC
O2 レーザの場合では、CO2 パルスレーザによる吸収
発生作用を活用することによってCWレーザ光線のパル
スを発生させるのが有利である。このためにCW−CO
2レーザから出力結合された出力密度を有するレーザ光
線が、材料への入力結合を許容しない材料区域もしくは
材料部位に又は該材料部位区分の面上に集束される。前
記材料区域もしくは材料部位又は該材料部位区分の面上
に集束されたCO2 パルスレーザの光線によって被加工
材料は、プラズマ状態へ移行するほど強く加熱される。
これによって被加工材料へのCW−CO2 レーザ光線の
吸収が行なわれる。CO2 パルスレーザ光線の入射時間
に関連したオン・オフ切換えによって、CW−CO2 レ
ーザ光線のパルスが被加工材料へ入力結合される。
【0016】本発明の別の方法によれば、CW−CO2
レーザ光線が拡張され、従って該CW−CO2 レーザ光
線は当該材料区域へのレーザ光線の入力結合を行なうこ
となしに該材料区域を負荷する。次いでCO2 パルスレ
ーザの光線は前記材料区域内部に位置している材料部位
に照準される。CW−CO2 レーザ光線はこの被加工材
料部位で吸収されかつ該材料部位には焼入れが施され
る。この手段によって図2から判るように材料区域2内
の複雑な構造輪郭又は図形3に簡単に焼入れ又はコーテ
ィングを施すことができるので有利である。
レーザ光線が拡張され、従って該CW−CO2 レーザ光
線は当該材料区域へのレーザ光線の入力結合を行なうこ
となしに該材料区域を負荷する。次いでCO2 パルスレ
ーザの光線は前記材料区域内部に位置している材料部位
に照準される。CW−CO2 レーザ光線はこの被加工材
料部位で吸収されかつ該材料部位には焼入れが施され
る。この手段によって図2から判るように材料区域2内
の複雑な構造輪郭又は図形3に簡単に焼入れ又はコーテ
ィングを施すことができるので有利である。
【0017】CW−CO2 レーザ光線のすべての入力結
合法では加工操作中に被加工部位に不活性ガスを吹付け
て被加工材料の酸化を防止するのが有利である。これに
よって、後加工を行なわずに金属素材に焼入れを施すこ
とが可能になるので有利である。
合法では加工操作中に被加工部位に不活性ガスを吹付け
て被加工材料の酸化を防止するのが有利である。これに
よって、後加工を行なわずに金属素材に焼入れを施すこ
とが可能になるので有利である。
【0018】図1には本発明の方法を実施するための有
利な装置が示されており、この場合CO2 パルスレーザ
光線は加工光学素子4の手前で光路内に入力結合され
る。このために光路内には、CW−CO2 レーザ光線を
透過することのできるミラー5が設けられており、該ミ
ラーの下面は軽度に鏡面化されている。この鏡面化され
た下面を介してCO2 パルスレーザ光線は光路内へ入力
結合される。なお図1において示した符号7はCW−C
O2 レーザ光線、符号6はCO2 パルスレーザである。
利な装置が示されており、この場合CO2 パルスレーザ
光線は加工光学素子4の手前で光路内に入力結合され
る。このために光路内には、CW−CO2 レーザ光線を
透過することのできるミラー5が設けられており、該ミ
ラーの下面は軽度に鏡面化されている。この鏡面化され
た下面を介してCO2 パルスレーザ光線は光路内へ入力
結合される。なお図1において示した符号7はCW−C
O2 レーザ光線、符号6はCO2 パルスレーザである。
【図1】本発明の方法を実施するための装置の概略図で
ある。
ある。
【図2】被加工材料の加工部位を示す平面図である。
1 被加工材料、 2 加工区域、 3 複雑な
構造輪郭又は図形、4 加工光学素子、 5 透過
性ミラー、 6 CO2 パルスレーザ、7 CW−
CO2 レーザ光線
構造輪郭又は図形、4 加工光学素子、 5 透過
性ミラー、 6 CO2 パルスレーザ、7 CW−
CO2 レーザ光線
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クラウス セーリガー ドイツ連邦共和国 ベルリン オツトー− ヴインツアー−シユトラーセ 48 (72)発明者 ヴオルフガング テイーメ ドイツ連邦共和国 ベルリン ホーチミン シユトラーセ8
Claims (10)
- 【請求項1】 材料区域もしくは材料部位又は該材料部
位区分内へCW炭酸ガスレーザ光線を入力結合する方法
において、材料区域もしくは材料部位又は該材料部位区
分の面上に炭酸ガスパルスレーザの光線を集束すること
を特徴とする、CW炭酸ガスレーザ光線の入力結合法。 - 【請求項2】 炭酸ガスパルスレーザのパルス持続時間
が10ns〜100μsの範囲内にある、請求項1記載
の方法。 - 【請求項3】 パルスの繰返し周波数が100Hz〜1
kHzの範囲内にある、請求項1又は2記載の方法。 - 【請求項4】 CW炭酸ガスレーザの光路内へ炭酸ガス
パルスレーザの光線を、加工光学素子(4)の手前で入
力結合し、該加工光学素子によってCW炭酸ガスレーザ
光線と一緒に集束する、請求項1から3までのいずれか
1項記載の方法。 - 【請求項5】 炭酸ガスパルスレーザの光線を、CW炭
酸ガスレーザ用とは別個の加工光学素子で共通の材料区
域もしくは材料部位又は該材料部位区分の面上に集束す
る、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。 - 【請求項6】 請求項1から5までのいずれか1項記載
のCW炭酸ガスレーザ光線の入力結合法を使用して、材
料区域内に配置された材料部位にコーティング加工又は
焼入れ加工を施すための加工法において、レーザ光線を
入力結合することなしに材料区域をCW炭酸ガスレーザ
のレーザ光線で負荷し、炭酸ガスパルスレーザレーザ光
線を材料部位に方位づけて10ns〜100μs範囲の
パルス持続時間で照射することによってレーザ光線の入
力結合を行なうことを特徴とする、材料部位の加工法。 - 【請求項7】 請求項1から6までのいずれか1項記載
のCW炭酸ガスレーザ光線の入力結合法を使用して、該
CW炭酸ガスレーザでレーザ光線パルスを発生させる方
法において、材料への入力結合を許容しない材料区域も
しくは材料部位又は該材料部位区分の面上に、CW炭酸
ガスレーザから出力結合された出力密度を有するレーザ
光線を集束し、かつ、前記の材料区域もしくは材料部位
又は該材料部位区分の面上に、炭酸ガスパルスレーザの
レーザ光線を10ns〜100μs範囲のパルス持続時
間で集束してプラズマを発生させて、CW炭酸ガスレー
ザ光線を、炭酸ガスレーザのレーザ光線の照射時間に関
連して材料内へ入力結合することを特徴とする、CW炭
酸ガスレーザでレーザ光線パルスを発生させる方法。 - 【請求項8】 材料区域もしくは材料部位又は該材料部
位区分を不活性ガスで負荷する、請求項7記載の方法。 - 【請求項9】 CW炭酸ガスレーザ光線を形成するレー
ザ並びに、光路内に配置された光学系を備えたCW炭酸
ガスレーザ光線の入力結合装置において、光学系が、C
W炭酸ガスレーザ光線を透過することのできるミラーを
有し、該ミラーの反射性下面を介して炭酸ガスパルスレ
ーザのレーザ光線が光路内へ入力結合可能である、CW
炭酸ガスレーザ光線の入力結合装置。 - 【請求項10】 炭酸ガスパルスレーザがTEAレーザ
である、請求項9記載の入力結合装置。
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