JPH05129778A - Manufacture of printed wiring board - Google Patents

Manufacture of printed wiring board

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JPH05129778A
JPH05129778A JP26414691A JP26414691A JPH05129778A JP H05129778 A JPH05129778 A JP H05129778A JP 26414691 A JP26414691 A JP 26414691A JP 26414691 A JP26414691 A JP 26414691A JP H05129778 A JPH05129778 A JP H05129778A
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JP
Japan
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copper
plating
resist
clad laminate
solder
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP26414691A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Uchida
広幸 内田
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Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH05129778A publication Critical patent/JPH05129778A/en
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Abstract

PURPOSE:To enable a protective layer of solder to be formed on a foot print part by a method wherein a solder film is formed only on the foot print part of a surface mounting component, a land, and the inner surface of a through- hole. CONSTITUTION:A panel copper plating layer 2 is formed on a copper plated laminated board 1, a first resist pattern 31 is formed covering a region where a circuit is formed, and a copper foil 1b on a region not covered with the first resist pattern 31 is removed through etching. Then, a laminated dry film resist 5 is exposed to light through a positive pattern mask and developed for forming a second resist pattern 51 so as to make the inner surface of a through-hole exposed. Thereafter, an electroplating solder film 6 is formed through electroplating. Therefore, a protective layer of electroplating solder film is formed uniform in thickness.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はスルーホールを有するプ
リント配線板、特に高密度な表面実装用に対応したプリ
ント配線板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a printed wiring board having through holes, and more particularly to a method of manufacturing a printed wiring board which is suitable for high density surface mounting.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、表面実装用のプリント配線板の製
造方法において、特に前記プリント配線板の全表面を覆
っている銅膜保護を考慮するべく、半田コーター法や耐
熱プリフラックス法やニッケル・金めっき法が知られて
いる。前記半田コーター法は、銅張積層板に穴あけ加工
された清浄な基板の全表面にフラックスを塗布した後、
この積層板を加熱溶融させた半田中に通し、さらにこの
積層板にエアーナイフ等の手段により熱風を吹き付ける
ことによって余分な半田を除去・レベリングし、前記銅
張積層板の全表面に半田を均一に被膜する方法である。
このように半田コーター法は簡便な手段ではあるが、上
述したような熱風の吹き付けによってその表面に被膜し
た半田膜のレベリングを行なうため、前記基板上に設け
られた回路パターンのパットの形状や前記熱風の吹き付
け方向によって、前記基板上に形成された半田の厚さが
不均一になり、次工程のレジスト剥離やエッチングおよ
びソルダーレジスト形成に障害を起こす問題があった。
また特に高密度実装基板のように回路パターンのパット
のサイズが小さく、さらにパット間の間隔が狭い回路パ
ターンを有する基板では、前記パット間の半田が橋かけ
構造を形成する半田ブリッジ等を発生する問題を有して
いた。
2. Description of the Related Art Conventionally, in a method for manufacturing a surface-mounted printed wiring board, a solder coater method, a heat-resistant preflux method, a nickel-based method, etc., in order to protect a copper film covering the entire surface of the printed wiring board. The gold plating method is known. The solder coater method, after applying a flux to the entire surface of a clean substrate punched in a copper clad laminate,
This laminated plate is passed through solder that has been heated and melted, and excess air is removed and leveled by blowing hot air onto this laminated plate by means such as an air knife, so that the solder is evenly distributed over the entire surface of the copper clad laminated plate. It is a method of coating.
Thus, the solder coater method is a simple means, but since the solder film coated on the surface thereof is leveled by blowing hot air as described above, the shape of the pad of the circuit pattern provided on the substrate and the There is a problem that the thickness of the solder formed on the substrate becomes non-uniform depending on the blowing direction of the hot air, which hinders resist stripping and etching in the next step and formation of the solder resist.
Further, particularly in a board having a circuit pattern in which the size of the pad of the circuit pattern is small and the interval between the pads is narrow, such as a high-density mounting board, the solder between the pads causes a solder bridge or the like that forms a bridging structure. Had a problem.

【0003】また、耐熱プリフラックス法は、ロジン系
の基剤を有機溶剤に溶解した溶液または銅に吸着して発
水性の膜を形成する作用を有する防錆剤を水に溶解した
溶液等を前記基板に被膜して、前記基板表面の銅膜を保
護することを目的としたものである。しかしながら、上
述したような耐熱プリフラックス法による処理を施した
基板においては、次工程による半田付けの接着不良の問
題が生じている。これは表面実装用のプリント配線板の
普及とともに最近ではプリント配線板の製造工程におい
て、2回以上の半田付けをするものが増えてきたため最
初のリフロー工程で高温加熱されることにより、次のフ
ロー半田付け工程での半田付け不良が生じるというもの
である。このような問題の原因としては前記耐熱プリフ
ラックス法の処理による耐熱効果の曖昧さが問題視され
ている。さらに、前記耐熱プリフラックス法による処理
は、その後工程におけるクリーム半田印刷による基板の
ファインピッチに対する限界域の問題も有している。
Further, the heat-resistant preflux method uses a solution in which a rosin-based base is dissolved in an organic solvent or a solution in which a rust preventive having the action of adsorbing copper to form a water-repellent film is dissolved in water. The purpose is to coat the substrate to protect the copper film on the surface of the substrate. However, in a substrate that has been subjected to the heat-resistant preflux method as described above, there is a problem of adhesion failure in soldering in the next step. This is because with the spread of printed wiring boards for surface mounting, recently, in the manufacturing process of printed wiring boards, more and more solders have been soldered more than once. That is, soldering failure occurs in the soldering process. As a cause of such a problem, the ambiguity of the heat resistance effect by the heat-resistant preflux method is regarded as a problem. Further, the heat-resistant pre-flux method has a problem of a limit region for fine pitch of the substrate by cream solder printing in the subsequent step.

【0004】また、前記ニッケル・金めっき法は、基板
の全表面に電気めっき又は無電解めっきによって、まず
ニッケルめっきを、ついで金めっきを施し前記基板表面
の銅膜を保護する保護層を形成することである。よっ
て、この方法によれば前記ニッケル・金めっき膜と基板
との極めて優れた層間電気的接合作用と、基板全表面に
形成されたニッケル・金めっき膜による優れた濡れ性が
得られるものの、一方ではコストが高いことや半田接続
部の脆さが問題となっている。
In the nickel / gold plating method, the entire surface of the substrate is electroplated or electroless plated to first perform nickel plating and then gold plating to form a protective layer for protecting the copper film on the substrate surface. That is. Therefore, according to this method, an extremely excellent interlayer electrical bonding action between the nickel / gold plating film and the substrate and excellent wettability by the nickel / gold plating film formed on the entire surface of the substrate can be obtained. However, high cost and brittleness of solder joints pose problems.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】よって、本発明は前記
事情に鑑みてなされたもので、上記のような表面実装用
プリント配線板の製造工程において、銅張積層板からな
る基板表面の銅膜を保護する保護膜を、均一にかつ緻密
に形成するとともにその濡れ性や電気的接合作用を良好
なものとし、さらに保護膜形成後のリフロー実装をも確
実に実施できるプリント配線板の製造方法を提供するこ
とを目的とする。
Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and a copper film on the surface of a substrate made of a copper clad laminate is used in the manufacturing process of the above-described printed wiring board for surface mounting. A method of manufacturing a printed wiring board that can form a protective film that protects the substrate uniformly and densely, improves its wettability and electrical bonding, and can reliably perform reflow mounting after forming the protective film. The purpose is to provide.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】よって、本発明は上記課
題を解決するために、穴あけ加工によりスルホールが形
成された銅張積層板にパネル銅めっきを被膜し、ついで
銅めっき上に回路を形成する部分を覆うようにして第一
レジストパターンを設け、このあとこの銅張積層板をエ
ッチング処理し、ついで前記第一レジストパターンを除
去した後、積層板全体に無電解銅めっきを行ない、つい
でこの銅張積層板にドライフィルムレジストをラミネー
トし、これを露光現像して前記スルーホール及びめっき
を行なう必要のある部分が露出するように第二レジスト
パターンを形成し、ついでこの銅張積層板に電気半田め
っき処理を行ない、この後に前記第2レジストパターン
を除去し、その後短時間のエッチング処理を行なって露
出している無電解銅めっき層を除去することを特徴とす
るプリント配線板基板の製造方法である。
Therefore, in order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, a copper clad laminate having through holes formed by drilling is coated with panel copper plating, and then a circuit is formed on the copper plating. A first resist pattern is provided so as to cover the portion to be covered, the copper clad laminate is then subjected to etching treatment, and then the first resist pattern is removed, followed by electroless copper plating on the entire laminate, and then this A dry film resist is laminated on the copper-clad laminate, and a second resist pattern is formed by exposing and developing the dry-film resist so that the through holes and portions where plating is required to be exposed are exposed. Electroless electroless exposed by performing a solder plating process, removing the second resist pattern, and then performing a short-time etching process. It is a manufacturing method of the printed wiring board substrate, which comprises removing the plating layer.

【0007】[0007]

【作用】この発明のプリント配線板の製造方法では、表
面実装部品のフットプリント部分とランド及びスルーホ
ール内面のみに、電気めっき法によって半田めっき膜が
施されるため0.5mm以下のピッチのフットプリント
部のブリッジの発生を回避するとともに、フットプリン
ト部の半田膜による保護層の形成を可能にした。そし
て、上記のように電気半田めっきが、スルーホール内面
及び必要な部分のみに行なわれることにより、電気半田
めっきが行なわれる部分が狭く電気力線が平均化しやす
い効果を有する。従って、この発明の製造方法では、形
成される電気半田めっき膜による保護層の厚さがより均
一となる。よって、実装時・表面実装部品が傾いたり、
倒れたりすることが少なく歩留まりの向上を図ることが
できる。
In the method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention, since the solder plating film is applied by electroplating only to the footprint portion of the surface mount component and the inner surface of the land and the through hole, the foot having a pitch of 0.5 mm or less is used. It is possible to avoid the occurrence of bridging in the printed area and to form a protective layer with the solder film in the footprint area. Then, as described above, the electric solder plating is performed only on the inner surface of the through hole and the necessary portion, so that the portion where the electric solder plating is performed is narrow and the electric flux lines are easily averaged. Therefore, in the manufacturing method of the present invention, the thickness of the protective layer formed by the electric solder plating film becomes more uniform. Therefore, at the time of mounting, the surface mount parts are inclined,
It is possible to improve yield with less falling.

【0008】また、従来では実装回数が2回以上になる
と、耐熱プリフラックス法における耐熱性が問題視され
たが、本発明のようにフットプリント部の保護層を半田
膜で形成することによって前記耐熱性の問題によって生
じる半田付け不良を回避することができる。従って、本
発明によるプリント配線板の製造方法によれば、フット
プリント部のピッチの狭い表面実装用基板に対しても実
装時の歩留まりを向上させることができる。
In the past, when the number of times of mounting was two or more, the heat resistance in the heat-resistant preflux method was regarded as a problem. However, by forming the protective layer of the footprint part with a solder film as in the present invention, It is possible to avoid defective soldering caused by the problem of heat resistance. Therefore, according to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the yield at the time of mounting can be improved even for a surface mounting substrate having a narrow pitch of the footprint.

【0009】さらに、この製造方法は銅張積層板の銅箔
の不要な部分の除去を行なったあと、無電解銅めっきと
電気半田めっきによりスルーホールの導通を取ることと
し、その際に銅張積層板の全体に形成されるのは無電解
銅めっき層のみとしたことで、最終的にエッチング除去
する部分は厚さが均一な表面銅箔とパネルめっき層及び
薄い無電解銅めっき層のみで良いこととなる。従って、
この発明の製造方法では、通常のパターンめっき法に比
較して、導体パターンの高さを均一にすることができ
る。よって、この発明の製造方法によれば回路を正確な
幅に均一厚で形成でき、微細回路を容易に形成できる。
Further, according to this manufacturing method, after removing unnecessary portions of the copper foil of the copper clad laminate, conduction of the through holes is established by electroless copper plating and electric solder plating. Since only the electroless copper plating layer is formed on the entire laminated plate, the part to be finally removed by etching is only the surface copper foil with a uniform thickness, the panel plating layer and the thin electroless copper plating layer. It will be good. Therefore,
According to the manufacturing method of the present invention, the height of the conductor pattern can be made uniform as compared with the usual pattern plating method. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, a circuit can be formed with an accurate width and a uniform thickness, and a fine circuit can be easily formed.

【0010】また、この発明の製造方法ではスルーホー
ル内の導通を行なった後に行なわれる第2回目のエッチ
ング処理時が薄い無電解銅めっき層を除去するだけの短
時間のものなので、スルーホール内面等に形成されてい
る電気半田めっき膜には全く影響がない。従ってこの発
明の製造方法によれば、エッチング精度は基板銅箔とパ
ネル銅めっき層のみによって決まり、パターンめっき部
を阻害せず微細回路を形成できる。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, since the second etching process performed after the conduction in the through hole is performed only for a short time to remove the thin electroless copper plating layer, the inner surface of the through hole is formed. There is no effect on the electric solder plating film formed on the same. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, the etching accuracy is determined only by the substrate copper foil and the panel copper plating layer, and a fine circuit can be formed without obstructing the pattern plated portion.

【0011】加えてこの発明の方法では銅張積層板全体
に無電解銅めっきを行なうので、無電解銅めっき処理時
にレジストパターンを設ける必要がない。従って、この
発明の製造方法では無電解銅めっき液に対するレジスト
の耐性が問題となることがなく精密回路をも容易に形成
することができる。
In addition, in the method of the present invention, electroless copper plating is performed on the entire copper-clad laminate, so that it is not necessary to provide a resist pattern during electroless copper plating. Therefore, in the manufacturing method of the present invention, the resistance of the resist to the electroless copper plating solution does not pose a problem and a precision circuit can be easily formed.

【0012】[0012]

【実施例】以下、この発明の製造方法を図面に沿ってさ
らに詳しく説明する。この製造方法では、穴あけ加工を
行なって、図1に示すように、スルーホール10が形成
された第一銅張積層板1を準備する。図に示された第一
銅張積層板1は基板1aの表裏両面に銅箔1a、1bが
形成されたものである。銅箔1bの厚さは配線板の用途
に応じて選択される。第一銅張積層板1には、バリ取り
研摩処理を行なうと良い。研摩処理にはバフ研摩、ベル
トサンダー等の各種の手段を利用できる。この後、この
第一銅張積層板1にパネル銅めっき処理を行ない、図2
に示すようにパネル銅めっき層2を形成する。このパネ
ル銅めっき処理には、無電解銅めっきあるいは無電解銅
めっき上に電気銅めっきを施す等の手法が用いられる。
そして、この時のパネルめっきの厚さは、配線板の用途
に応じて選択される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The manufacturing method of the present invention will be described below in more detail with reference to the drawings. In this manufacturing method, a drilling process is performed to prepare a first copper clad laminate 1 having through holes 10 as shown in FIG. The first copper-clad laminate 1 shown in the figure has a substrate 1a on which copper foils 1a and 1b are formed on both front and back surfaces. The thickness of the copper foil 1b is selected according to the application of the wiring board. The first copper clad laminate 1 may be subjected to deburring polishing treatment. Various means such as buffing and belt sander can be used for the polishing treatment. Thereafter, the first copper clad laminate 1 is subjected to panel copper plating treatment,
The panel copper plating layer 2 is formed as shown in FIG. For this panel copper plating treatment, a method such as electroless copper plating or electroless copper plating on electroless copper plating is used.
The thickness of the panel plating at this time is selected according to the application of the wiring board.

【0013】次に、この第二銅張積層板1Aに回路を形
成する部分を覆うように第1レジストパターン31を形
成する。第1レジストパターンを形成するには、まず図
3に示すように第二銅張積層板1Aの表裏利用面全体に
レジスト3を熱ラミネーションする。レジスト3にはド
ライフィルムレジスト、液状フォトレジスト、電着レジ
スト等各種のものを使用できる。次いで積層されたレジ
スト3を露光し現像して、図4に示すように、回路を形
成する部分を覆うように第1レジストパターン31を形
成する。
Next, a first resist pattern 31 is formed on the second copper-clad laminate 1A so as to cover a portion where a circuit is formed. To form the first resist pattern, first, as shown in FIG. 3, the resist 3 is thermally laminated on the entire front and back utilization surfaces of the second copper clad laminate 1A. As the resist 3, various materials such as a dry film resist, a liquid photoresist, and an electrodeposition resist can be used. Next, the laminated resist 3 is exposed and developed to form a first resist pattern 31 so as to cover a portion where a circuit is formed, as shown in FIG.

【0014】このように第1レジストパターン31を形
成した後、エッチング処理を行ない、図5に示すように
第1レジストパターン31で覆われない部分の銅箔1b
を除去する。エッチング液には塩化銅系、塩化鉄系、ア
ンモニア系のもの等を利用できる。ついで前記第1レジ
ストパターン31を除去して、第五銅張積層板1Dを図
6に示す状態にした後、この第六銅張積層板1E全体に
無電解銅めっきを行ない、図7に示されているように全
体を無電解銅めっき層4で覆う。このめっき層4は続い
て行なう電気めっきの導通に支障のない範囲で可能な限
り薄く例えば1.0〜3.0μm程度に形成されること
が望ましい。
After the first resist pattern 31 is formed in this way, an etching process is performed, and as shown in FIG. 5, a portion of the copper foil 1b not covered with the first resist pattern 31.
To remove. As the etching liquid, a copper chloride-based, iron chloride-based, ammonia-based, or the like can be used. Next, after removing the first resist pattern 31 and making the fifth copper-clad laminate 1D in the state shown in FIG. 6, electroless copper plating is performed on the entire sixth copper-clad laminate 1E, as shown in FIG. The entire surface is covered with the electroless copper plating layer 4 as described above. It is desirable that the plating layer 4 be formed as thin as possible, for example, to have a thickness of about 1.0 to 3.0 μm, as long as it does not hinder the continuity of electroplating to be performed subsequently.

【0015】次に、このものに図8に示すようにドライ
フィルムレジスト5を熱ラミネーションする。この段階
の第8銅張積層板1Gの表面には凹凸が存在するので、
真空ラミネーターを用いて処理を行なうことが望まし
い。この時用いるドライフィルムレジスト5は、次工程
で形成される電気半田めっき膜6がレジスト上に張り出
すのを防止するために、次工程で形成される電気半田め
っき膜6よりも厚いもの、通常50μm以上のものが用
いられる。中でも80μmあるいは100μmの厚さのド
ライフィルムレジストを用いるとレジスト基板への埋ま
り込み性も向上できる利点がある。
Next, a dry film resist 5 is thermally laminated to this as shown in FIG. Since unevenness exists on the surface of the eighth copper clad laminate 1G at this stage,
It is desirable to carry out the treatment using a vacuum laminator. The dry film resist 5 used at this time is thicker than the electric solder plating film 6 formed in the next step in order to prevent the electric solder plating film 6 formed in the next step from projecting over the resist. The thickness of 50 μm or more is used. Above all, when a dry film resist having a thickness of 80 μm or 100 μm is used, there is an advantage that the burying property in the resist substrate can be improved.

【0016】次にラミネートしたドライフィルムレジス
トにポジパターンマスクを通して、露光・現像して、図
9に示すようにスルーホール10の内面が露出するよう
に第2レジストパターン51を形成する。この際、ラン
ド部、表面実装部品のフォトプリント部等後述する電気
半田めっき処理を行なう必要のある部分も露出するよう
に第2レジストパターン51を形成する。この後、この
第9銅張積層板1Hに電気半田めっき処理を行ない電気
半田めっき膜6を形成する。次いで前記第2レジストパ
ターン51を除去し、図11に示す状態にする。レジス
ト剥離液には、前記ドライフィルムレジストに対応した
ものが用いられる。例えばアルカリ現像型のドライフィ
ルムレジストに対しては1〜5重量%の水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムが用いられる。また有機溶剤型ドラ
イフィルムレジストに対しては、塩化メチレンが用いら
れる。
Next, the laminated dry film resist is exposed and developed through a positive pattern mask to form a second resist pattern 51 so that the inner surface of the through hole 10 is exposed as shown in FIG. At this time, the second resist pattern 51 is formed so that the land portion, the photo print portion of the surface-mounted component, and the like, which will be described later, need to be subjected to the electric solder plating treatment. After that, an electric solder plating process is performed on the ninth copper clad laminate 1H to form an electric solder plating film 6. Then, the second resist pattern 51 is removed to obtain the state shown in FIG. As the resist stripping solution, one corresponding to the dry film resist is used. For example, 1 to 5% by weight of sodium hydroxide or potassium hydroxide is used for an alkali developing type dry film resist. Further, methylene chloride is used for the organic solvent type dry film resist.

【0017】そして、この第十一銅張積層板1Jに短時
間のエッチング処理を行なって、電気半田めっき膜6で
覆われず露出している部分の無電解銅めっき層4を除去
する。このエッチングには、アンモニア系、硫酸・過酸
化水素系等のエッチング液が好適に利用できる。このエ
ッチング処理が終了すると、図12に示すプリント配線
板1Kが得られる。さらに、この発明の製造方法で製造
されたプリント配線板1Kには、その使用目的に応じ
て、半田フュージングを施しても良い。
Then, this eleventh copper-clad laminate 1J is subjected to a short-time etching treatment to remove the electroless copper-plated layer 4 which is exposed without being covered with the electric solder plating film 6. For this etching, an ammonia-based, sulfuric acid / hydrogen peroxide-based etching liquid or the like can be preferably used. When this etching process is completed, the printed wiring board 1K shown in FIG. 12 is obtained. Further, the printed wiring board 1K manufactured by the manufacturing method of the present invention may be subjected to solder fusing depending on the purpose of use.

【0018】(実施例1)次にこの発明のプリント配線
板の製造方法を実施例に沿ってさらに詳しく説明する。
図1に示すように表裏両面に18μm厚の銅箔1b、1
bが積層された2.2mm厚の6層銅張積層板の所定位
置にドリルで穴をあけて穿設して、スルーホール10を
形成した。この後、バリ取り研摩及び過マンガン酸塩に
よるスルーホール10内のスミア処理を行なった。この
後、図2に示すように第一銅張積層板1表面に薄付け無
電解銅メッキ0.5μm及び硫酸銅電気めっき35μmを
施すパネルめっきを行なった。この無電解銅電気めっき
処理は、クリーナーコンディショナー、マイクロエッ
チ、硫酸処理、触媒付着、アクセレレーション工程等を
経て行なわれた。また、硫酸銅めっきは無電解銅めっき
より続けて実施し、電流密度2.5A/dm2とした。この
後、第二銅張積層板1Aの表面をバフ研摩した。バフに
はHD−SF(住友3M製)を2連にして用いた。処理
条件は、バフ回転数2200r.p.m.、オシレーション5
00r.p.m.、通過速度2m/minであった。ついでこのも
のを水洗しエアーナイフで水分除去後、乾燥処理に供し
た。
(Embodiment 1) Next, a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described in more detail with reference to embodiments.
As shown in Fig. 1, 18 μm thick copper foils 1b, 1b on both sides
A through hole 10 was formed by drilling a hole in a predetermined position of a 2.2-mm-thick 6-layer copper-clad laminate in which b was laminated. After that, deburring polishing and a smear treatment in the through hole 10 with permanganate were performed. Thereafter, as shown in FIG. 2, panel plating was performed by applying thin electroless copper plating 0.5 μm and copper sulfate electroplating 35 μm on the surface of the first copper clad laminate 1. This electroless copper electroplating treatment was carried out through a cleaner conditioner, microetching, sulfuric acid treatment, catalyst adhesion, acceleration process and the like. Further, the copper sulfate plating was carried out successively from the electroless copper plating, and the current density was 2.5 A / dm 2 . Then, the surface of the second copper clad laminate 1A was buffed. For the buff, HD-SF (manufactured by Sumitomo 3M) was used in duplicate. The processing conditions are buff rotation speed 2200 rpm and oscillation 5
The speed was 00 rpm and the passing speed was 2 m / min. Next, this product was washed with water, removed of water with an air knife, and then dried.

【0019】つぎに、このものに図3に示すようにアル
カリ現像型のドライフィルムレジスト3をラミネーショ
ンした。用いたレジスト3は、厚さ50μmのダイヤロ
ンFRA305(三菱レイヨン製)であった。レジスト
3をラミネーションする際にはドライフィルム用プレヒ
ーター及びラミネーターを用いた。この時、第三銅張積
層板1Bの温度は、プレヒート上がりで60℃、ラミネ
ーション直後で60℃であった。そして、ドライフィル
ムレジスト3が積層された第三銅張積層板1Bを30分
放置して室温に戻したあと、ネガパターンのマスクを重
ねてドライフィルム用露光機を用いて露光を行なった。
露光量は、ダイヤロンステップタブレット(三菱レイヨ
ン社製)で17段残り相当とした。ついでドライフィル
ムレジスト上のポリエステルフィルムを剥離した後、
0.9重量%炭酸ナトリウム水溶液(30℃)の現像液
の入ったスプレー型水平現像機で60秒現像した。現像
後には、付属の水洗槽で十分水洗した。処理された第四
銅張積層板1Cは、図4に示す状態となった。
Next, as shown in FIG. 3, an alkali development type dry film resist 3 was laminated on this product. The resist 3 used was Dialon FRA305 (manufactured by Mitsubishi Rayon) having a thickness of 50 μm. When laminating the resist 3, a preheater for a dry film and a laminator were used. At this time, the temperature of the third copper clad laminate 1B was 60 ° C. after preheating and 60 ° C. immediately after lamination. Then, after the third copper clad laminate 1B on which the dry film resist 3 was laminated was left for 30 minutes to return to room temperature, a negative pattern mask was overlaid and exposure was performed using a dry film exposure device.
The exposure amount was equivalent to 17 steps remaining with a dialon step tablet (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.). Then, after peeling off the polyester film on the dry film resist,
It was developed for 60 seconds by a spray type horizontal developing machine containing a developing solution of a 0.9 wt% sodium carbonate aqueous solution (30 ° C.). After development, it was thoroughly washed with the attached washing tank. The treated fourth copper-clad laminate 1C was in the state shown in FIG.

【0020】次に、この第四銅張積層板1Cを塩化銅系
エッチング液に浸積して銅箔1bをエッチングして図5
に示す状態とした。この後、5重量%水酸化ナトリウム
水溶液40℃の剥離液が入った剥離槽でレジストパター
ン31を剥離した。そして続けて水洗、酸洗、水洗、水
切及び乾燥処理し、図6に示す状態とした。この後、こ
の第六銅張積層板1E全体に無電解銅めっきを行なっ
て、図7に示すように、厚さ2μmの無電解銅めっき層
4を形成した。この無電解銅めっき処理は、メルテック
ス9048無電解銅メッキプロセス(マクダミット社)
によって、クリーナーコンディショナー、マイクロエッ
チ、硫酸処理、触媒付着、アクセレレーション工程等を
経て行なわれた。ついでこのものに、真空ラミネーター
を用いてレジスト5(ダイヤロンFRA063−50μ
m;三菱レイヨン製)を、図8に示すようにラミネーシ
ョンした。第八銅張積層板1Gの温度はプレヒーター上
がり60℃、ラミネーション直後60℃であった。
Next, the fourth copper clad laminate 1C is immersed in a copper chloride-based etching solution to etch the copper foil 1b, and then the copper foil 1b is etched as shown in FIG.
The state shown in FIG. After that, the resist pattern 31 was peeled off in a peeling tank containing a 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. Then, it was washed with water, pickled, washed with water, drained and dried to obtain the state shown in FIG. Then, electroless copper plating was performed on the entire sixth copper clad laminate 1E to form an electroless copper plating layer 4 having a thickness of 2 μm as shown in FIG. This electroless copper plating process is the Meltex 9048 electroless copper plating process (McDamit)
, A cleaner conditioner, a micro etch, a sulfuric acid treatment, a catalyst adhesion, an acceleration process and the like. Then, using a vacuum laminator, resist 5 (Dialon FRA063-50μ
m; made by Mitsubishi Rayon) was laminated as shown in FIG. The temperature of the eighth copper-clad laminate 1G was 60 ° C. after the preheater and 60 ° C. immediately after lamination.

【0021】次に、ラミネーションされたレジスト5を
ポジパターンマスクを用いて露光し60秒現像して、図
9に示すようにスルーホール10、ランド部及び表面実
装部品のフットプリント部のみが露出する第2レジスト
パターン51を形成した。この時の露光量はダイヤロン
ステップダブレットで11段残り相当であった。次いで
脱脂、マイクロエッチング等の前処理を行なった後、硼
弗化錫・鉛めっきを行ない、図10に示すように8μm
の厚さの半田めっき膜(錫・鉛めっき膜)6を形成し
た。
Next, the laminated resist 5 is exposed using a positive pattern mask and developed for 60 seconds to expose only the through holes 10, lands and footprints of surface mount components as shown in FIG. The second resist pattern 51 was formed. At this time, the exposure amount of the dialon step doublet was equivalent to 11 steps remaining. Then, after pretreatment such as degreasing and micro-etching, tin borofluoride / lead plating is performed to obtain 8 μm as shown in FIG.
A solder plating film (tin / lead plating film) 6 having a thickness of 1 was formed.

【0022】次いでこのものを5重量%の水酸化ナトリ
ウム水溶液40℃に浸積して、第2レジストパターン5
1を剥離して図11に示す状態とした。そして、この後
のものをアンモニアエッチング系エッチャントAプロセ
ス(メルテックス社)によって、エッチングを行ない、
露出している無電解銅めっき層4を除去し、図12に示
すプリント配線板1Kを完成した。その後、このプリン
ト配線板1Kを半田フュージングし、次いでソルダマス
クを形成した。ソルダマスクにはドライフィルムソルダ
マスク(ダイヤロンSRA103−75μm;三菱レイ
ヨン製)を用いた。
Then, this is immersed in a 5% by weight aqueous sodium hydroxide solution at 40 ° C. to form a second resist pattern 5.
1 was peeled off to obtain the state shown in FIG. Then, the material after this is etched by an ammonia etching type etchant A process (Meltex),
The exposed electroless copper plating layer 4 was removed to complete the printed wiring board 1K shown in FIG. Thereafter, this printed wiring board 1K was subjected to solder fusing, and then a solder mask was formed. As the solder mask, a dry film solder mask (Dialon SRA103-75 μm; manufactured by Mitsubishi Rayon) was used.

【0023】よって、この製造方法では表面実装部品の
フットプリント部分とランド及びスルーホール10内の
みに、電気めっき法によって半田めっき膜6が施される
ため0.5mm以下のピッチのフットプリント部のブリ
ッジの発生を回避するとともに、フットプリント部の半
田めっき膜6による保護層の形成を可能にした。また、
上記のように電気半田めっきが電気錫・鉛めっきにより
スルーホール内面及び必要な部分のみに行なわれるの
で、電気半田めっきが行なわれる部分が狭く電気力線が
平均化しやすい。従ってこの発明の製造方法では、形成
される電気半田めっき膜6による保護層の厚さがより均
一となる。よって、実装時・表面実装部品が傾いたり倒
れたりすることが少なく歩まりの向上を図ることができ
る。
Therefore, in this manufacturing method, the solder plating film 6 is applied only by the electroplating method to the footprint portion of the surface mount component and the land and the through hole 10, so that the footprint portion having a pitch of 0.5 mm or less is formed. It is possible to avoid generation of a bridge and to form a protective layer by the solder plating film 6 in the footprint portion. Also,
As described above, since the electric solder plating is performed only on the inner surface of the through hole and the necessary portion by the electric tin / lead plating, the portion where the electric solder plating is performed is small and the lines of electric force are easily averaged. Therefore, in the manufacturing method of the present invention, the thickness of the protective layer formed by the electric solder plating film 6 becomes more uniform. Therefore, at the time of mounting, the surface mount component is less likely to tilt or fall, and the yield can be improved.

【0024】そして、従来では実装回数が2回以上にな
ると、耐熱プリフラックス法における耐熱性が問題視さ
れたが、本発明のようにフットプリント部の保護層を半
田めっき膜6で形成することにより前記耐熱性の問題に
よる半田付け不良を回避することができる。従って、本
発明によるプリント配線板の製造方法によれば、フット
プリント部のピッチの狭い表面実装用基板に対しても実
装時の歩留まりを向上させることができる。
In the past, when the number of times of mounting was two or more, the heat resistance in the heat-resistant preflux method was considered to be a problem. However, as in the present invention, the protective layer of the footprint portion is formed by the solder plating film 6. Thus, defective soldering due to the heat resistance problem can be avoided. Therefore, according to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the yield at the time of mounting can be improved even for a surface mounting substrate having a narrow pitch of the footprint.

【0025】さらに、この製造方法は銅張積層板の銅箔
の不要な部分の除去を行なったあと、無電解銅めっきと
電気半田めっきとによりスルーホールの導通を取ること
とし、その際、銅張積層板1Jの全体に形成されるのは
無電解銅めっき層4のみとしたので、最終的にエッチン
グ除去する部分は厚さ均一な表面銅箔とパネルめっき層
及び薄い無電解銅めっき層4のみで良い。従ってこの発
明の製造方法では、パターンメッキ法に比較して導体パ
ターンの高さを均一にすることができる。よってこの発
明の製造方法によれば回路を正確な幅に均一厚で形成で
き、微細回路を容易に形成できる。
Further, in this manufacturing method, after removing unnecessary portions of the copper foil of the copper-clad laminate, conduction of the through holes is established by electroless copper plating and electric solder plating. Since only the electroless copper plating layer 4 is formed on the entire stretched laminated plate 1J, the portions to be finally removed by etching are the surface copper foil having a uniform thickness, the panel plating layer, and the thin electroless copper plating layer 4. Only good. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, the height of the conductor pattern can be made uniform as compared with the pattern plating method. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, a circuit can be formed with an accurate width and a uniform thickness, and a fine circuit can be easily formed.

【0026】そしてまた、この発明の製造方法ではスル
ーホール10内の導通を行なった後に行なわれる第2回
目のエッチング処理時が薄い無電解銅めっき層4を除去
するだけの短時間のものなので、スルーホール10内面
等に形成されている電気半田めっき膜6には全く影響が
ない。従ってこの発明の製造方法によれば、エッチング
精度は基板銅箔とパネル銅めっき層のみによって決ま
り、パターンメッキ部を阻害せず微細回路を形成でき
る。
Further, in the manufacturing method of the present invention, since the second etching process performed after the conduction in the through hole 10 is conducted is short enough to remove the thin electroless copper plating layer 4, The electric solder plating film 6 formed on the inner surface of the through hole 10 is not affected at all. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, the etching accuracy is determined only by the substrate copper foil and the panel copper plating layer, and a fine circuit can be formed without obstructing the pattern plating portion.

【0027】加えてこの発明の方法では銅張積層板1F
全体に無電解銅めっき層4を行なうので、無電解めっき
処理時にレジストパターンを設ける必要がない。従っ
て、この発明の製造方法では無電解銅めっき液に対する
レジストの耐性が問題となることかなく精密回路も容易
に形成することができる。
In addition, according to the method of the present invention, the copper clad laminate 1F
Since the electroless copper plating layer 4 is formed on the entire surface, there is no need to provide a resist pattern during the electroless plating process. Therefore, in the manufacturing method of the present invention, the resistance of the resist to the electroless copper plating solution does not pose a problem, and the precision circuit can be easily formed.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上説明したように本発明のプリント配
線板の製造方法は、表面実装部品のフットプリント部分
とランド及びスルーホール内のみに、電気めっき法によ
って半田めっき膜が施されるため0.5mm以下のピッ
チのフットプリント部のブリッジの発生を回避するとと
もに、フットプリント部の半田膜による保護層の形成を
可能にした。そして、上記のように電気半田めっきがス
ルーホール内面及び必要な部分のみに行なわれることに
より、電気半田めっきが行なわれる部分が狭く電気力線
が平均化しやすい効果を有する。従ってこの発明の製造
方法では、形成される電気半田めっき膜による保護層の
厚さがより均一となる。よって、実装時・表面実装部品
が傾いたり、倒れたりすることが少なく歩まりの向上を
図ることができる。
As described above, according to the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention, the solder plating film is applied by the electroplating method only to the footprint portion of the surface mount component, the land and the through hole. It is possible to avoid the occurrence of bridges in the footprint portion having a pitch of 0.5 mm or less and to form the protective layer by the solder film in the footprint portion. Then, as described above, the electric solder plating is performed only on the inner surface of the through hole and the necessary portion, so that the portion where the electric solder plating is performed is narrow and the electric flux lines are easily averaged. Therefore, in the manufacturing method of the present invention, the thickness of the protective layer formed by the electric solder plating film becomes more uniform. Therefore, at the time of mounting, the surface-mounted component is less likely to tilt or fall, and the yield can be improved.

【0029】また、従来では実装回数が2回以上になる
と、耐熱プリフラックス法の耐熱性が問題視されたが、
本発明のようにフットプリント部の保護層を半田膜で形
成することにより前記耐熱性の問題による半田付け不良
を回避することができる。従って、本発明によるプリン
ト配線板の製造方法によれば、フットプリント部のピッ
チの狭い表面実装用基板に対しても実装時の歩留まりを
向上させることができる。
Conventionally, when the number of times of mounting is two or more, the heat resistance of the heat-resistant preflux method was regarded as a problem.
By forming the protective layer of the footprint part with the solder film as in the present invention, it is possible to avoid the soldering failure due to the heat resistance problem. Therefore, according to the method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention, the yield at the time of mounting can be improved even for a surface mounting substrate having a narrow pitch of the footprint.

【0030】さらに、この製造方法は銅張積層板の銅箔
の不要な部分の除去を行なったあと、無電解銅めっきと
電気半田めっきとによりスルーホールの導通を取ること
とし、その際導張積層板の全体に形成されるのは無電解
銅めっき層のみとしたので、最終的にエッチング除去す
る部分は厚さ均一な表面銅箔とパネル銅めっき層及び薄
い無電解銅めっき層のみで良い。従ってこの発明の製造
方法では、パターンめっき法に比較して導体パターンの
高さを均一にすることができる。よってこの発明の製造
方法によれば回路を正確な幅に均一厚で形成でき、微細
回路を容易に形成できる。
Further, in this manufacturing method, after the unnecessary portion of the copper foil of the copper clad laminate is removed, conduction of the through hole is established by electroless copper plating and electric solder plating. Since only the electroless copper plating layer is formed on the entire laminated plate, only the surface copper foil with uniform thickness, the panel copper plating layer and the thin electroless copper plating layer need to be removed by etching. .. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, the height of the conductor pattern can be made uniform as compared with the pattern plating method. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, a circuit can be formed with an accurate width and a uniform thickness, and a fine circuit can be easily formed.

【0031】また、この発明の製造方法ではスルーホー
ル内の導通を行なった後に行なわれる第2回目のエッチ
ング処理時が薄い無電解銅めっき層を除去するだけの短
時間のものなので、スルーホール内面等に形成されてい
る電気半田めっき膜には全く影響がない。従ってこの発
明の製造方法によれば、エッチング精度は基板銅箔とパ
ネル銅めっき層のみによって決まり、パターンメッキ部
を阻害せず微細回路を形成できる。
Further, according to the manufacturing method of the present invention, the second etching process performed after the conduction in the through hole is performed only for a short time to remove the thin electroless copper plating layer. There is no effect on the electric solder plating film formed on the same. Therefore, according to the manufacturing method of the present invention, the etching accuracy is determined only by the substrate copper foil and the panel copper plating layer, and a fine circuit can be formed without obstructing the pattern plating portion.

【0032】加えてこの発明の方法では銅張積層板全体
に無電解銅めっきを行なうので、無電解めっき処理時に
レジストパターンを設ける必要がない。従ってこの発明
の製造方法では無電解銅めっき液に対するレジストの耐
性が問題となることがなく精密回路も容易に形成するこ
とができる。
In addition, according to the method of the present invention, since electroless copper plating is performed on the entire copper clad laminate, there is no need to provide a resist pattern during electroless plating. Therefore, in the manufacturing method of the present invention, the resistance of the resist to the electroless copper plating solution does not pose a problem, and the precision circuit can be easily formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のプリント配線図の製造工程を示す初め
の準備工程で、準備されたスルーホールが設けられた第
一銅張積層板の断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a first copper clad laminate provided with a prepared through hole in an initial preparation step showing a manufacturing process of a printed wiring diagram of the present invention.

【図2】図1に示された工程後、パネル銅めっきを形成
した状態での第二銅張積層板の断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a second copper-clad laminate with panel copper plating formed after the step shown in FIG.

【図3】図2に示された工程後、表裏両面全体にレジス
トを熱ラミネーションした状態での第三銅張積層板の断
面図である。
FIG. 3 is a cross-sectional view of a third copper-clad laminate in a state where resist is thermally laminated on both front and back surfaces after the process shown in FIG.

【図4】図3に示された工程後、回路を形成する部分に
覆うようにして第1レジストパターンを形成した状態の
第四銅張積層板の断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the fourth copper-clad laminate with the first resist pattern formed so as to cover the portion where the circuit is to be formed after the step shown in FIG.

【図5】図4に示された工程後、エッチング処理を行な
い第1レジストパターンで覆われない部分の銅箔を除去
した状態の第五銅張積層板の断面図である。
FIG. 5 is a cross-sectional view of the fifth copper clad laminate in a state where after the step shown in FIG. 4, etching treatment is performed to remove the copper foil in the portion not covered with the first resist pattern.

【図6】図5に示された工程後、第1レジストパターン
を除去した状態での第六銅張積層板の断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of the sixth copper-clad laminate with the first resist pattern removed after the step shown in FIG.

【図7】図6に示された工程後、無電解銅めっき層で表
面全体を覆った状態の第七銅張積層板の断面図である。
7 is a cross-sectional view of the seventh copper-clad laminate with the entire surface covered with an electroless copper plating layer after the step shown in FIG.

【図8】図7に示された工程後、表裏両面全体にドライ
フィルムレジストを熱ラミネーションした状態の第八銅
張積層板の断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view of an eighth copper clad laminate in which a dry film resist has been thermally laminated on both front and back surfaces after the step shown in FIG.

【図9】図8に示された工程後、半田めっき処理を行な
う必要のある部分が露出するように第2レジストバター
ンを形成した状態の第九銅張積層板の断面図である。
9 is a cross-sectional view of a ninth copper clad laminate in which a second resist pattern has been formed so as to expose a portion that needs to be subjected to solder plating after the step shown in FIG.

【図10】図9に示された工程後、第2レジストパター
ンの形成部分及びスルーホール内面外に電気半田めっき
膜を形成した状態の第十銅張積層板の断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view of a tenth copper clad laminate with an electric solder plating film formed outside the inner surface of the through hole and the portion where the second resist pattern is formed after the step shown in FIG. 9;

【図11】図10に示された工程後、第2レジストパタ
ーンを除去した状態の第十一銅張積層板の断面図であ
る。
FIG. 11 is a cross-sectional view of the eleventh copper-clad laminate with the second resist pattern removed after the step shown in FIG.

【図12】図11に示された工程後、電気半田めっき膜
で覆われず露出している部分の無電解銅めっき層を除去
した状態の第十二銅張積層板、つまり完成したプリント
配線板の断面図である。
FIG. 12 is a twelfth copper-clad laminate in which the exposed portion of the electroless copper plating that is not covered with the electric solder plating film is removed after the step shown in FIG. 11, that is, the completed printed wiring board. It is sectional drawing of a board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 銅張積層板 1a 基板 1b 銅箔 2 パネル銅めっき層 3 レジスト 4 無電解銅めっき層 5 ドライフィルムレジスト 6 電気半田めっき膜 10 スルーホール 31 第1レジストパターン 51 第2レジストパターン 1 Copper Clad Laminate 1a Substrate 1b Copper Foil 2 Panel Copper Plating Layer 3 Resist 4 Electroless Copper Plating Layer 5 Dry Film Resist 6 Electric Solder Plating Film 10 Through Hole 31 First Resist Pattern 51 Second Resist Pattern

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 穴あけ加工によりスルホールが形成され
た銅張積層板にパネル銅めっきを被膜し、ついで銅めっ
き上に回路を形成する部分を覆うようにして第一レジス
トパターンを設け、このあとこの銅張積層板をエッチン
グ処理し、ついで前記第一レジストパターンを除去した
後、積層板全体に無電解銅めっきを行ない、ついでこの
銅張積層板にドライフィルムレジストをラミネートし、
これを露光現像して前記スルーホール及びめっきを行な
う必要のある部分が露出するように第二レジストパター
ンを形成し、ついでこのものに電気半田めっき処理を行
ない、この後に前記第二レジストパターンを除去し、そ
の後短時間のエッチング処理を行なって露出している無
電解銅めっき層を除去することを特徴とするプリント配
線板基板の製造方法。
1. A copper clad laminate having through holes formed by drilling is coated with panel copper plating, and then a first resist pattern is provided on the copper plating so as to cover a portion where a circuit is formed. After etching the copper-clad laminate, then removing the first resist pattern, electroless copper plating is performed on the entire laminate, then dry film resist is laminated on the copper-clad laminate,
This is exposed and developed to form a second resist pattern so as to expose the through hole and a portion that needs to be plated, and then this is subjected to an electric solder plating treatment, after which the second resist pattern is removed. Then, the exposed electroless copper plating layer is removed by performing an etching process for a short period of time, and then the exposed electroless copper plating layer is removed.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008092309A1 (en) * 2007-01-23 2008-08-07 Dongming Li Process for electroplating a printed circuit board with through-holes uncoverd by mask

Cited By (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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