JPH05128988A - 電子線装置 - Google Patents
電子線装置Info
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- JPH05128988A JPH05128988A JP31133091A JP31133091A JPH05128988A JP H05128988 A JPH05128988 A JP H05128988A JP 31133091 A JP31133091 A JP 31133091A JP 31133091 A JP31133091 A JP 31133091A JP H05128988 A JPH05128988 A JP H05128988A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料加熱もしくは試料冷却時の試料の機械的
ドリフトや微小部分析時の試料汚染、試料損傷などを防
止する。 【構成】 鏡体室１内には電子顕微鏡の鏡体部２が設置
されている。鏡体部２には、電子銃３、収束レンズ系
４、拡大レンズ系５が設けられ、これらは鏡体室１外に
置かれた操作部６に接続されている。鏡体部２には鏡体
排管２１、真空バルブ２２を介して真空ポンプ２３が接
続されている。また、鏡体部２には体加熱ヒータ１４が
装着され、当該鏡体加熱ヒータ１４の鏡体加熱電源部１
５は鏡体室１外に設置されている。鏡体室１にはバルブ
１７、１８を介して冷房機１６が接続されると共に、バ
ルブ１９を介して窒素ガスボンベ２０が接続され、ま
た、鏡体室排管２４、真空バルブ２５を介して真空ポン
プ２６が接続されている。
ドリフトや微小部分析時の試料汚染、試料損傷などを防
止する。 【構成】 鏡体室１内には電子顕微鏡の鏡体部２が設置
されている。鏡体部２には、電子銃３、収束レンズ系
４、拡大レンズ系５が設けられ、これらは鏡体室１外に
置かれた操作部６に接続されている。鏡体部２には鏡体
排管２１、真空バルブ２２を介して真空ポンプ２３が接
続されている。また、鏡体部２には体加熱ヒータ１４が
装着され、当該鏡体加熱ヒータ１４の鏡体加熱電源部１
５は鏡体室１外に設置されている。鏡体室１にはバルブ
１７、１８を介して冷房機１６が接続されると共に、バ
ルブ１９を介して窒素ガスボンベ２０が接続され、ま
た、鏡体室排管２４、真空バルブ２５を介して真空ポン
プ２６が接続されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子線を利用して極微
小領域の観察・分析を行う電子顕微鏡や電子線測長装置
などの電子線装置に係り、特に、鏡体内への雰囲気ガス
のリークを防止して試料汚染や試料破壊を防止する一
方、試料ホルダと試料ステージとの温度差の違いにより
生ずる試料のドリフトを防止するようにした電子線装置
に関するものである。
小領域の観察・分析を行う電子顕微鏡や電子線測長装置
などの電子線装置に係り、特に、鏡体内への雰囲気ガス
のリークを防止して試料汚染や試料破壊を防止する一
方、試料ホルダと試料ステージとの温度差の違いにより
生ずる試料のドリフトを防止するようにした電子線装置
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】電子顕微鏡などの電子線装置の鏡体内は
高真空排気されているが、例えばＯリング部などからの
僅かな真空漏れは防ぎ切れない。このため、鏡体内部に
は雰囲気ガス（空気）が侵入し、これが残留ガスとして
鏡体内に存在する。残留ガスが存在する状態で試料に電
子線が照射されると、残留ガスに含まれる酸素や水分な
どが原因となって、試料汚染や試料損傷といった問題が
発生する。
高真空排気されているが、例えばＯリング部などからの
僅かな真空漏れは防ぎ切れない。このため、鏡体内部に
は雰囲気ガス（空気）が侵入し、これが残留ガスとして
鏡体内に存在する。残留ガスが存在する状態で試料に電
子線が照射されると、残留ガスに含まれる酸素や水分な
どが原因となって、試料汚染や試料損傷といった問題が
発生する。
【０００３】そこで、このような問題を解決するため
に、例えば特開昭57-3361 号公報や特開昭61-58151号公
報では、複数個の電子レンズの中心に、電子線通路とな
る１本のステンレスパイプを設けて当該パイプ内を真空
シールすると共に、当該ステンレスパイプに加熱手段を
設けて、真空加熱脱ガスを可能にした技術が開示されて
いる。
に、例えば特開昭57-3361 号公報や特開昭61-58151号公
報では、複数個の電子レンズの中心に、電子線通路とな
る１本のステンレスパイプを設けて当該パイプ内を真空
シールすると共に、当該ステンレスパイプに加熱手段を
設けて、真空加熱脱ガスを可能にした技術が開示されて
いる。
【０００４】また、特開昭63-32847号公報では、鏡体内
の残留ガスを液体ヘリウムに吸着させる技術が開示され
ている。
の残留ガスを液体ヘリウムに吸着させる技術が開示され
ている。
【０００５】その他にも、試料近傍に液体窒素などで冷
却した金属板を置き、それに残留ガスを吸着させる方法
も提案されている。また、補助的な手段として、測定の
合間に短時間、鏡体をベーキングして鏡体内部の部品に
吸着したガスを放出させることにより試料汚染を軽減す
る方法も提案されている。
却した金属板を置き、それに残留ガスを吸着させる方法
も提案されている。また、補助的な手段として、測定の
合間に短時間、鏡体をベーキングして鏡体内部の部品に
吸着したガスを放出させることにより試料汚染を軽減す
る方法も提案されている。
【０００６】一方、従来の電子顕微鏡では、測定者の作
業効率を重視して、その鏡体部が操作部、信号処理部、
信号表示部などと一体構造となっていた。従って、鏡体
部は一般的な実験室の環境に設置されていた。
業効率を重視して、その鏡体部が操作部、信号処理部、
信号表示部などと一体構造となっていた。従って、鏡体
部は一般的な実験室の環境に設置されていた。
【０００７】このため、鏡体表面は常に20℃前後の空気
に触れていることになり、例えば、タンパク質の構造や
ポリマなどの高分子材料の構造を観察するときのよう
に、試料を冷却しながら観察する場合、あるいは半導体
結晶の成長過程を観察するときのように、試料を加熱し
ながら測定する場合には、試料ホルダと試料ステージと
の温度が異なるために発生する、試料の機械的なドリフ
トにより、観察像の分解能の低下や微小領域測定時の空
間分解能の低下を招いていた。
に触れていることになり、例えば、タンパク質の構造や
ポリマなどの高分子材料の構造を観察するときのよう
に、試料を冷却しながら観察する場合、あるいは半導体
結晶の成長過程を観察するときのように、試料を加熱し
ながら測定する場合には、試料ホルダと試料ステージと
の温度が異なるために発生する、試料の機械的なドリフ
トにより、観察像の分解能の低下や微小領域測定時の空
間分解能の低下を招いていた。
【０００８】このような試料ドリフトを防止するため
に、例えば特開昭56-22039号公報では、試料交換室に、
鏡体内部の試料ステージと試料ホルダとが同じ温度にな
るようにホルダに加熱機構を設ける技術が提案されてい
る。また、特開昭61-126751 号公報では、電子線装置の
設置室全体の温度制御を行う技術が提案されている。
に、例えば特開昭56-22039号公報では、試料交換室に、
鏡体内部の試料ステージと試料ホルダとが同じ温度にな
るようにホルダに加熱機構を設ける技術が提案されてい
る。また、特開昭61-126751 号公報では、電子線装置の
設置室全体の温度制御を行う技術が提案されている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記した各
従来技術は、装置の大型化やランニングコストの増大を
招き、いずれも実用化されるに至っていない。
従来技術は、装置の大型化やランニングコストの増大を
招き、いずれも実用化されるに至っていない。
【００１０】本発明の第１の目的は、上記した従来技術
の問題点を解決して、鏡体内に存在する残留ガスによる
試料汚染や試料損傷を防止することにある。
の問題点を解決して、鏡体内に存在する残留ガスによる
試料汚染や試料損傷を防止することにある。
【００１１】また、本発明の第２の目的は、上記した従
来技術の問題点を解決して、試料ホルダと試料ステージ
との温度が異なるために発生する試料の機械的なドリフ
トを防止することにある。
来技術の問題点を解決して、試料ホルダと試料ステージ
との温度が異なるために発生する試料の機械的なドリフ
トを防止することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記した第１および第２
の目的を達成するために、本発明では、それぞれ以下の
ような手段を講じた点に特徴がある。 (1) 鏡体を収容し、その内部雰囲気を外部雰囲気から遮
断する密閉容器と、密閉容器内に不活性ガスを充填する
不活性ガス充填手段とを具備し、電子銃および電子レン
ズ群などを操作する操作手段を前記密閉容器外に配置す
るようにした。 (2) 試料ホルダおよび試料ステージを加熱（または冷
却）する第１の加熱（冷却）手段と、鏡体を加熱（また
は冷却）する第２の加熱（冷却）手段とをさらに設ける
ようにした。
の目的を達成するために、本発明では、それぞれ以下の
ような手段を講じた点に特徴がある。 (1) 鏡体を収容し、その内部雰囲気を外部雰囲気から遮
断する密閉容器と、密閉容器内に不活性ガスを充填する
不活性ガス充填手段とを具備し、電子銃および電子レン
ズ群などを操作する操作手段を前記密閉容器外に配置す
るようにした。 (2) 試料ホルダおよび試料ステージを加熱（または冷
却）する第１の加熱（冷却）手段と、鏡体を加熱（また
は冷却）する第２の加熱（冷却）手段とをさらに設ける
ようにした。
【００１３】
【作用】上記した構成(1) によれば、鏡体が不活性ガス
中に置かれるので、Ｏリング部などからの僅かな真空漏
れがあっても鏡体内には不活性ガスが侵入するだけで空
気が侵入することはない。したがって、残留ガスによる
試料汚染や試料損傷が防止される。
中に置かれるので、Ｏリング部などからの僅かな真空漏
れがあっても鏡体内には不活性ガスが侵入するだけで空
気が侵入することはない。したがって、残留ガスによる
試料汚染や試料損傷が防止される。
【００１４】また、上記した構成(2) によれば、試料ホ
ルダと試料ステージとの温度差が抑制されるので、試料
のドリフトが抑制されて分解能の高い観察が可能にな
る。
ルダと試料ステージとの温度差が抑制されるので、試料
のドリフトが抑制されて分解能の高い観察が可能にな
る。
【００１５】しかも、鏡体部と操作部とは別の環境に密
閉されているので、測定者の位置する環境に影響を与え
ずに鏡体温度や鏡体周辺の雰囲気を目的に応じて変える
ことができる。
閉されているので、測定者の位置する環境に影響を与え
ずに鏡体温度や鏡体周辺の雰囲気を目的に応じて変える
ことができる。
【００１６】
【実施例】図１は本発明の一実施例である電子顕微鏡の
断面図である。
断面図である。
【００１７】同図において、内部雰囲気を外部雰囲気か
ら遮断する鏡体室１の内部には電子顕微鏡の鏡体２が設
置されている。鏡体２内には、電子銃３、収束レンズ系
４、拡大レンズ系５が設けられ、これらは鏡体室１外に
置かれた操作部６に接続されている。また、収束レンズ
系４と拡大レンズ系５との間には、試料ホルダ（図示せ
ず）によって試料７が支持されている。
ら遮断する鏡体室１の内部には電子顕微鏡の鏡体２が設
置されている。鏡体２内には、電子銃３、収束レンズ系
４、拡大レンズ系５が設けられ、これらは鏡体室１外に
置かれた操作部６に接続されている。また、収束レンズ
系４と拡大レンズ系５との間には、試料ホルダ（図示せ
ず）によって試料７が支持されている。
【００１８】鏡体２には鏡体排管２１および真空バルブ
２２を介して真空ポンプ２３が接続されている。また、
鏡体２の側面には鏡体加熱ヒータ１４が装着され、当該
鏡体加熱ヒータ１４の加熱電源部１５は鏡体室１外に設
置されている。
２２を介して真空ポンプ２３が接続されている。また、
鏡体２の側面には鏡体加熱ヒータ１４が装着され、当該
鏡体加熱ヒータ１４の加熱電源部１５は鏡体室１外に設
置されている。
【００１９】一方、鏡体室１には、バルブ１７、１８を
介して冷房機１６が接続されると共に、バルブ１９を介
して、窒素ガスボンベなどの不活性ガスボンベ２０が接
続され、また、鏡体室排管２４および真空バルブ２５を
介して真空ポンプ２６が接続されている。
介して冷房機１６が接続されると共に、バルブ１９を介
して、窒素ガスボンベなどの不活性ガスボンベ２０が接
続され、また、鏡体室排管２４および真空バルブ２５を
介して真空ポンプ２６が接続されている。
【００２０】このような構成において、電子銃３から発
せられた電子線８は、収束レンズ４によって収束され、
収束レンズ４と拡大レンズ５の間に配置された試料７に
照射される。試料７の投影像９は拡大レンズ５によって
拡大され、撮像管１０に到達する。撮像管１０の像は鏡
体室１外のモニタ１１に表示される。
せられた電子線８は、収束レンズ４によって収束され、
収束レンズ４と拡大レンズ５の間に配置された試料７に
照射される。試料７の投影像９は拡大レンズ５によって
拡大され、撮像管１０に到達する。撮像管１０の像は鏡
体室１外のモニタ１１に表示される。
【００２１】試料７の近傍には、当該試料７から発生す
る特性Ｘ線を検出するためのＸ線検出器１２が取り付け
られている。Ｘ線検出器１２で検出された試料７からの
特性Ｘ線はＸ線信号表示部１３に表示される。
る特性Ｘ線を検出するためのＸ線検出器１２が取り付け
られている。Ｘ線検出器１２で検出された試料７からの
特性Ｘ線はＸ線信号表示部１３に表示される。
【００２２】上記した構成の電子線装置では、それぞれ
の使用目的に応じて次のような操作を行う。 (1) 鏡体内部部品を脱ガスする場合 真空バルブ２２を開き、真空ポンプ２３により鏡体２内
部を排気する。また、バルブ１７、１８、１９を閉じ、
真空バルブ２５を開いて、真空ポンプ２６により鏡体室
１内を排気する。
の使用目的に応じて次のような操作を行う。 (1) 鏡体内部部品を脱ガスする場合 真空バルブ２２を開き、真空ポンプ２３により鏡体２内
部を排気する。また、バルブ１７、１８、１９を閉じ、
真空バルブ２５を開いて、真空ポンプ２６により鏡体室
１内を排気する。
【００２３】排気完了後、真空バルブ２５を閉じてバル
ブ１９を開き、窒素ガスボンベ２０の窒素ガスを鏡体室
１内に導入する。このとき、鏡体室１内の気圧は室外の
気圧より高く設定することが望ましい。
ブ１９を開き、窒素ガスボンベ２０の窒素ガスを鏡体室
１内に導入する。このとき、鏡体室１内の気圧は室外の
気圧より高く設定することが望ましい。
【００２４】次に、加熱電源部を付勢して鏡体２を鏡体
加熱ヒータ１４により加熱する。この加熱により、鏡体
２内部に発生する鏡体内部部品からのガスは、真空ポン
プ２３によって鏡体室１外に排気される。これにより、
鏡体２内部は清浄な真空となり、また、鏡体室１は窒素
ガスボンベ２０からの窒素ガスで満たされているので、
鏡体２に僅かなリークがあっても、試料汚染の原因とな
る空気中の水分が鏡体２内部に浸入することが防止され
る。 (2) 加熱試料観察中の試料ドリフトを軽減する場合 図２は、試料ホルダ２８に加熱手段を設けた本発明の第
２実施例の断面図であり、前記と同一の符号は同一また
は同等部分を表している。
加熱ヒータ１４により加熱する。この加熱により、鏡体
２内部に発生する鏡体内部部品からのガスは、真空ポン
プ２３によって鏡体室１外に排気される。これにより、
鏡体２内部は清浄な真空となり、また、鏡体室１は窒素
ガスボンベ２０からの窒素ガスで満たされているので、
鏡体２に僅かなリークがあっても、試料汚染の原因とな
る空気中の水分が鏡体２内部に浸入することが防止され
る。 (2) 加熱試料観察中の試料ドリフトを軽減する場合 図２は、試料ホルダ２８に加熱手段を設けた本発明の第
２実施例の断面図であり、前記と同一の符号は同一また
は同等部分を表している。
【００２５】以下、加熱試料観察中の試料ドリフト軽減
の方法について、図１、図２を用いて説明する。
の方法について、図１、図２を用いて説明する。
【００２６】試料７を高温で観察する場合、試料７は試
料加熱ヒータ２７を組み込んだ試料加熱ホルダ２８に装
着されて鏡体２内に挿入される。試料加熱温度の設定
は、鏡体室１外に設置された試料加熱ヒータ電源２９に
より行なわれる。
料加熱ヒータ２７を組み込んだ試料加熱ホルダ２８に装
着されて鏡体２内に挿入される。試料加熱温度の設定
は、鏡体室１外に設置された試料加熱ヒータ電源２９に
より行なわれる。
【００２７】ところで、このような高温観察において
は、試料７と鏡体２との温度差に起因する試料ドリフト
が常に問題となる。そこで、この試料ドリフトの問題を
解決するために、本実施例では、鏡体２を鏡体加熱ヒー
タ１４によって試料７と同等またはそれに近い温度まで
加熱することにより、試料７（試料加熱ホルダ２８）と
鏡体２との温度差をなくし、試料７の熱的および機械的
ドリフトを軽減する。
は、試料７と鏡体２との温度差に起因する試料ドリフト
が常に問題となる。そこで、この試料ドリフトの問題を
解決するために、本実施例では、鏡体２を鏡体加熱ヒー
タ１４によって試料７と同等またはそれに近い温度まで
加熱することにより、試料７（試料加熱ホルダ２８）と
鏡体２との温度差をなくし、試料７の熱的および機械的
ドリフトを軽減する。
【００２８】しかも、鏡体室１によって、鏡体２の設置
される内部雰囲気が操作部６の設置される外部雰囲気か
ら遮断されるので、測定者の位置する操作部６を測定作
業に最適な環境に保ったまま、鏡体２の環境を測定目的
に合わせて理想的な状態に設定することができる。 (3) 冷却試料観察中の試料ドリフトを軽減する場合 図３は、試料ホルダに冷却手段を設けた本発明の第３実
施例の断面図であり、前記と同一の符号は同一または同
等部分を表している。
される内部雰囲気が操作部６の設置される外部雰囲気か
ら遮断されるので、測定者の位置する操作部６を測定作
業に最適な環境に保ったまま、鏡体２の環境を測定目的
に合わせて理想的な状態に設定することができる。 (3) 冷却試料観察中の試料ドリフトを軽減する場合 図３は、試料ホルダに冷却手段を設けた本発明の第３実
施例の断面図であり、前記と同一の符号は同一または同
等部分を表している。
【００２９】以下、冷却試料観察中の試料ドリフト軽減
の方法について、図１、図３を用いて説明する。
の方法について、図１、図３を用いて説明する。
【００３０】試料を低温で観察する場合、試料７は試料
冷却ホルダ３０に装着されて鏡体２内に挿入される。試
料冷却ホルダ３０には液体窒素などの冷媒３１を貯える
冷却層３２が連結されており、試料７は、試料冷却ホル
ダ３０を介して熱伝導により冷却されている。
冷却ホルダ３０に装着されて鏡体２内に挿入される。試
料冷却ホルダ３０には液体窒素などの冷媒３１を貯える
冷却層３２が連結されており、試料７は、試料冷却ホル
ダ３０を介して熱伝導により冷却されている。
【００３１】このような状態の観察においては、試料７
と鏡体２との温度差に起因する試料ドリフトが、上記
(2) 加熱の場合と同様に常に問題となる。そこで、この
試料ドリフトを解決するために、本実施例では、バルブ
１７、１８を開き、冷房機１６によって鏡体室１内をで
きるだけ試料７に近い温度に冷房する。これにより、試
料７と試料冷却ホルダ３０を取り巻く環境の温度差は縮
められ、試料のドリフトは軽減される。
と鏡体２との温度差に起因する試料ドリフトが、上記
(2) 加熱の場合と同様に常に問題となる。そこで、この
試料ドリフトを解決するために、本実施例では、バルブ
１７、１８を開き、冷房機１６によって鏡体室１内をで
きるだけ試料７に近い温度に冷房する。これにより、試
料７と試料冷却ホルダ３０を取り巻く環境の温度差は縮
められ、試料のドリフトは軽減される。
【００３２】しかも、前記同様、鏡体室１の内部雰囲気
が操作部６の設置される外部雰囲気から遮断されるの
で、測定者の位置する操作部６を測定作業に最適な環境
に保ったまま、鏡体２の環境を測定目的に合わせて理想
的な状態に設定することができるようになる。
が操作部６の設置される外部雰囲気から遮断されるの
で、測定者の位置する操作部６を測定作業に最適な環境
に保ったまま、鏡体２の環境を測定目的に合わせて理想
的な状態に設定することができるようになる。
【００３３】なお、上記した第２実施例では、鏡体２を
鏡体加熱ヒータ１４によって加熱されるものとして説明
したが、本発明はこれのみに限定されず、冷房機１６の
代りに暖房器を設置し、鏡体室１内に充填された不活性
ガスを暖房器で暖めることによって間接的に鏡体２を加
熱するようにしても良い。
鏡体加熱ヒータ１４によって加熱されるものとして説明
したが、本発明はこれのみに限定されず、冷房機１６の
代りに暖房器を設置し、鏡体室１内に充填された不活性
ガスを暖房器で暖めることによって間接的に鏡体２を加
熱するようにしても良い。
【００３４】
【発明の効果】上記説明したように、本発明によれば、
次のような効果が達成される。 (1) 鏡体が不活性ガス中に置かれるので、Ｏリング部な
どからの僅かな真空漏れがあっても鏡体内には不活性ガ
スが侵入するだけで空気が侵入することはない。したが
って、残留ガスによる試料汚染や試料損傷が防止され
る。 (2) 鏡体の設置環境と観察者の操作環境とが区別される
ので、測定者の位置する操作部を測定作業に最適な状態
に保ったまま、鏡体部の環境を測定目的に合わせて理想
的な状態に設定することができる。 (3) 試料ホルダと試料ステージとの温度差が抑制される
ので、試料のドリフトが抑制されて分解能の高い観察が
可能になる。しかも、鏡体部と操作部とは別の環境に密
閉されているので、測定者の位置する環境に影響を与え
ずに鏡体温度や鏡体周辺の雰囲気を目的に応じて変える
ことができる。
次のような効果が達成される。 (1) 鏡体が不活性ガス中に置かれるので、Ｏリング部な
どからの僅かな真空漏れがあっても鏡体内には不活性ガ
スが侵入するだけで空気が侵入することはない。したが
って、残留ガスによる試料汚染や試料損傷が防止され
る。 (2) 鏡体の設置環境と観察者の操作環境とが区別される
ので、測定者の位置する操作部を測定作業に最適な状態
に保ったまま、鏡体部の環境を測定目的に合わせて理想
的な状態に設定することができる。 (3) 試料ホルダと試料ステージとの温度差が抑制される
ので、試料のドリフトが抑制されて分解能の高い観察が
可能になる。しかも、鏡体部と操作部とは別の環境に密
閉されているので、測定者の位置する環境に影響を与え
ずに鏡体温度や鏡体周辺の雰囲気を目的に応じて変える
ことができる。
【図１】 本発明の一実施例である電子顕微鏡のブロッ
ク図である。
ク図である。
【図２】 図１の試料ホルダ部近傍の断面図である。
【図３】 図１の試料ホルダ部近傍の断面図である。
１…電子線装置鏡体室、２…鏡体、３…電子銃、４…収
束レンズ、５…拡大レンズ、６…操作部、７…試料、８
…電子線、９…投影像、１０…撮像管、１１…モニタ、
１２…Ｘ線検出器、１３…Ｘ線信号表示部、１４…鏡体
加熱ヒータ、１５…加熱電源部、１６…冷房機、１７、
１８、１９…バルブ、２０…窒素ガスボンベ、２１…鏡
体排管、２２…真空バルブ、２３…真空ポンプ、２４…
鏡体室排管、２５…真空バルブ、２６…真空ポンプ、２
７…試料加熱ヒータ、２８…試料加熱ホルダ、２９…試
料加熱ヒータ電源、３０…試料冷却ホルダ、３１…冷
媒、３２…冷却層
束レンズ、５…拡大レンズ、６…操作部、７…試料、８
…電子線、９…投影像、１０…撮像管、１１…モニタ、
１２…Ｘ線検出器、１３…Ｘ線信号表示部、１４…鏡体
加熱ヒータ、１５…加熱電源部、１６…冷房機、１７、
１８、１９…バルブ、２０…窒素ガスボンベ、２１…鏡
体排管、２２…真空バルブ、２３…真空ポンプ、２４…
鏡体室排管、２５…真空バルブ、２６…真空ポンプ、２
７…試料加熱ヒータ、２８…試料加熱ホルダ、２９…試
料加熱ヒータ電源、３０…試料冷却ホルダ、３１…冷
媒、３２…冷却層
Claims (6)
- 【請求項１】 電子銃、電子レンズ群、試料ホルダ、お
よび試料ステージなどを収容する鏡体と、 前記鏡体内部を真空排気する第１の排気手段と、 前記鏡体を収容し、内部雰囲気を外部雰囲気から遮断す
る密閉容器と、 前記密閉容器内部を真空排気する第２の排気手段と、 真空排気された密閉容器内に不活性ガスを充填する不活
性ガス充填手段とを具備し、 前記電子銃および電子レンズ群などを操作する操作手段
を、前記密閉容器外に配置したことを特徴とする電子線
装置。 - 【請求項２】 密閉容器内の気圧は密閉容器外の気圧よ
り高いことを特徴とする請求項１記載の電子線装置。 - 【請求項３】 前記試料ホルダおよび試料ステージを加
熱する第１の加熱手段と、 前記鏡体を加熱する第２の加熱手段とをさらに具備した
ことを特徴とする請求項１または請求項２記載の電子線
装置。 - 【請求項４】 前記試料ホルダおよび試料ステージを冷
却する第１の冷却手段と、 前記鏡体を冷却する第２の冷却手段とをさらに具備した
ことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに
記載の電子線装置。 - 【請求項５】 前記第２の加熱手段は、前記密閉容器内
に充填された不活性ガスを加熱することにより鏡体を加
熱することを特徴とする請求項３または請求項４記載の
電子線装置。 - 【請求項６】 前記第２の冷却手段は、前記密閉容器内
に充填された不活性ガスを冷却することにより鏡体を冷
却することを特徴とする請求項４または請求項５記載の
電子線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31133091A JPH05128988A (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 電子線装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31133091A JPH05128988A (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 電子線装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05128988A true JPH05128988A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=18015841
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31133091A Pending JPH05128988A (ja) | 1991-10-31 | 1991-10-31 | 電子線装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05128988A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7075092B2 (en) * | 1998-09-28 | 2006-07-11 | Applied Materials, Inc. | Charged particle beam microscope with minicolumn |
| JP2009283461A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | E Hong Instruments Co Ltd | 電子顕微鏡の予冷型試料台 |
| CN103782363A (zh) * | 2011-09-14 | 2014-05-07 | 杰富意钢铁株式会社 | 用于使用了电子束的显微镜或者分析装置的试样加热架、以及使用了该试样加热架的试样加热方法 |
-
1991
- 1991-10-31 JP JP31133091A patent/JPH05128988A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7075092B2 (en) * | 1998-09-28 | 2006-07-11 | Applied Materials, Inc. | Charged particle beam microscope with minicolumn |
| JP2009283461A (ja) * | 2008-05-19 | 2009-12-03 | E Hong Instruments Co Ltd | 電子顕微鏡の予冷型試料台 |
| CN103782363A (zh) * | 2011-09-14 | 2014-05-07 | 杰富意钢铁株式会社 | 用于使用了电子束的显微镜或者分析装置的试样加热架、以及使用了该试样加热架的试样加热方法 |
| KR20140061451A (ko) * | 2011-09-14 | 2014-05-21 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 전자선을 사용한 현미경 혹은 분석 장치용 시료 가열 홀더, 및 그것을 사용한 시료 가열 방법 |
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