JPH05124370A - スクリーン印刷用マスク - Google Patents
スクリーン印刷用マスクInfo
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- JPH05124370A JPH05124370A JP28902991A JP28902991A JPH05124370A JP H05124370 A JPH05124370 A JP H05124370A JP 28902991 A JP28902991 A JP 28902991A JP 28902991 A JP28902991 A JP 28902991A JP H05124370 A JPH05124370 A JP H05124370A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 印刷されたインクパターンの膜厚が各部一様
になる。 【構成】 網１２にその目をつぶして遮蔽用乳剤層１３
がパターン状に形成されて、遮蔽用乳剤層１３が形成さ
れていないインク通過用開口１４1 〜１４3 が構成さ
れ、その開口１４1 〜１４3 にそれぞれ乳剤層の島１７
がほぼ均一に分布形成されている。
になる。 【構成】 網１２にその目をつぶして遮蔽用乳剤層１３
がパターン状に形成されて、遮蔽用乳剤層１３が形成さ
れていないインク通過用開口１４1 〜１４3 が構成さ
れ、その開口１４1 〜１４3 にそれぞれ乳剤層の島１７
がほぼ均一に分布形成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は例えば抵抗体用インク
をスクリーン印刷してパターン状抵抗体を形成するため
利用されるスクリーン印刷用マスクに関する。
をスクリーン印刷してパターン状抵抗体を形成するため
利用されるスクリーン印刷用マスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】図４Ａに従来のスクリーン印刷用マスク
の一部の平面図を、その断面を図４Ｂに示す。スクリー
ン印刷用マスク１１はステンレス線やナイロン線などで
構成された網１２にその目をつぶした状態で遮蔽用乳剤
層１３がパターン状態に形成されて、その遮蔽用乳剤層
１３が形成されていない、インク通過用開口１４i （ｉ
＝１，２，３）が構成されている。この例では３つの方
形開口１４1 ，１４2 ，１４3 が並んで設けられた場合
である。通常乳剤層１３はマスク１１の上面は網１２と
同一面とされ、下面は網１２より厚さｈだけ突出してい
る。
の一部の平面図を、その断面を図４Ｂに示す。スクリー
ン印刷用マスク１１はステンレス線やナイロン線などで
構成された網１２にその目をつぶした状態で遮蔽用乳剤
層１３がパターン状態に形成されて、その遮蔽用乳剤層
１３が形成されていない、インク通過用開口１４i （ｉ
＝１，２，３）が構成されている。この例では３つの方
形開口１４1 ，１４2 ，１４3 が並んで設けられた場合
である。通常乳剤層１３はマスク１１の上面は網１２と
同一面とされ、下面は網１２より厚さｈだけ突出してい
る。
【０００３】乳剤層１３は一般には、感光性乳剤を網１
２に充填し、下面にｈだけ余分に厚く塗布し、紫外線な
どで、開口１４1 ，１４2 ，１４3 のポジパターンマス
クを通して露光し、感光性乳剤を選択的に硬化し、その
後、未硬化部分を洗い流して開口１４1 〜１４3をもつ
遮蔽用乳剤層１３を得る。このマスク１１を用いて印刷
するには、マスク１１を被印刷体１５上に配し、マスク
１１上にインクを置き、Ｘ方向（開口１４1 〜１４3 の
配列方向）に長い板状のスキージを、マスク１１に圧着
してＸ方向と直角なＹ方向に移動する。この時、インク
が開口１４1 〜１４3 の網１２の目を通過して被印刷体
１５にインクが付着し、遮蔽用乳剤層１３の部分はイン
クが通過せず、図４Ｃに示すように開口１４1 〜１４3
とそれぞれ同一形状のインクパターン１６1 〜１６3 が
被印刷体１５に形成される。
２に充填し、下面にｈだけ余分に厚く塗布し、紫外線な
どで、開口１４1 ，１４2 ，１４3 のポジパターンマス
クを通して露光し、感光性乳剤を選択的に硬化し、その
後、未硬化部分を洗い流して開口１４1 〜１４3をもつ
遮蔽用乳剤層１３を得る。このマスク１１を用いて印刷
するには、マスク１１を被印刷体１５上に配し、マスク
１１上にインクを置き、Ｘ方向（開口１４1 〜１４3 の
配列方向）に長い板状のスキージを、マスク１１に圧着
してＸ方向と直角なＹ方向に移動する。この時、インク
が開口１４1 〜１４3 の網１２の目を通過して被印刷体
１５にインクが付着し、遮蔽用乳剤層１３の部分はイン
クが通過せず、図４Ｃに示すように開口１４1 〜１４3
とそれぞれ同一形状のインクパターン１６1 〜１６3 が
被印刷体１５に形成される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】インクパターン１６1
〜１６3の膜厚は図４Ｃに示すように周辺部が厚く、中
央部が薄い。開口１４1 ，１４2 ，１４3 の各幅ｌ1 ，
ｌ2，ｌ3 はｌ3 ＞ｌ1 ＞ｌ2 の関係にあるが、この
時、最も短いｌ2 の開口１４2 によるインクパターン１
６2 の膜厚が一番厚く、最も長いｌ3 の開口１４3 によ
るインクパターン１６3 の膜厚が一番薄くなる。
〜１６3の膜厚は図４Ｃに示すように周辺部が厚く、中
央部が薄い。開口１４1 ，１４2 ，１４3 の各幅ｌ1 ，
ｌ2，ｌ3 はｌ3 ＞ｌ1 ＞ｌ2 の関係にあるが、この
時、最も短いｌ2 の開口１４2 によるインクパターン１
６2 の膜厚が一番厚く、最も長いｌ3 の開口１４3 によ
るインクパターン１６3 の膜厚が一番薄くなる。
【０００５】このような膜厚のむらの原因を追求した結
果、次の理由によるものであると考えるに至った。網１
２がスキージの押圧により下方側に変形し、幅が大きい
開口部分の網程、下方側に変形し、それだけ網１２を通
過するインク量が少なくなり、膜厚が薄くなる。スクリ
ーン印刷により、抵抗体や容量形成部を形成する場合
に、前記膜厚のむらは、抵抗値や容量値が目的値からず
れることになる。また重ね印刷の場合は、前段階のイン
クパターンが盛り上っているので網を不均等に浮き上ら
せ、圧入インク量のむらが発生する。
果、次の理由によるものであると考えるに至った。網１
２がスキージの押圧により下方側に変形し、幅が大きい
開口部分の網程、下方側に変形し、それだけ網１２を通
過するインク量が少なくなり、膜厚が薄くなる。スクリ
ーン印刷により、抵抗体や容量形成部を形成する場合
に、前記膜厚のむらは、抵抗値や容量値が目的値からず
れることになる。また重ね印刷の場合は、前段階のイン
クパターンが盛り上っているので網を不均等に浮き上ら
せ、圧入インク量のむらが発生する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明によればインク
通過用開口内に乳剤層の島が分布形成されている。この
乳剤層の島により印刷時のスキージによる押圧での網の
変形量が減少し、かつその変形量を各開口ごとに各部ほ
ぼ均一にすることができる。
通過用開口内に乳剤層の島が分布形成されている。この
乳剤層の島により印刷時のスキージによる押圧での網の
変形量が減少し、かつその変形量を各開口ごとに各部ほ
ぼ均一にすることができる。
【０００７】
【実施例】図１にこの発明の実施例を示し、図４と対応
する部分に同一符号を付けてある。この発明によればイ
ンク通過用開口１４1 〜１４3 内にそれぞれ乳剤層の島
１７が分布形成される。この例は各乳剤層の島１７は直
径ｄの円形とされた場合であり、その分布密度は各開口
１４1 〜１４3 で同一とされている。乳剤層の島１７も
マスク１１の下面側に網１２よりも突出している。
する部分に同一符号を付けてある。この発明によればイ
ンク通過用開口１４1 〜１４3 内にそれぞれ乳剤層の島
１７が分布形成される。この例は各乳剤層の島１７は直
径ｄの円形とされた場合であり、その分布密度は各開口
１４1 〜１４3 で同一とされている。乳剤層の島１７も
マスク１１の下面側に網１２よりも突出している。
【０００８】この構成においてマスク１１上にインクを
乗せて、Ｘ方向に長いスキージ板（ゴム板）をＹ方向に
走査し、開口１４1 〜１４3 に到達すると、従来の島１
７がないマスクではスキージ板の圧力で網１２を押し下
げ網１２の下面と被印刷体１５との間の距離が低下しそ
の変形低下量は幅ｌが長い程大きい。しかしこの発明に
よれば遮蔽用乳剤層１３と同じ厚みの島１７が多数分布
するので網１２の変形は島１７の周辺では防止され、島
１７と島１７との間も、島間の間隔が短かいので網１２
の変形量が減少される。またその減少された変形量は、
島１７の分布が一様であるので開口１４1 〜１４3 の何
れの部位でも平均的に一様となり、その結果通過インク
量が各部位で平均的に一様となり、インクパターン１６
1 〜１６ 3 の各膜厚ｈ1 ，ｈ2 ，ｈ3 は何れも均一で且
つ等しくなる。
乗せて、Ｘ方向に長いスキージ板（ゴム板）をＹ方向に
走査し、開口１４1 〜１４3 に到達すると、従来の島１
７がないマスクではスキージ板の圧力で網１２を押し下
げ網１２の下面と被印刷体１５との間の距離が低下しそ
の変形低下量は幅ｌが長い程大きい。しかしこの発明に
よれば遮蔽用乳剤層１３と同じ厚みの島１７が多数分布
するので網１２の変形は島１７の周辺では防止され、島
１７と島１７との間も、島間の間隔が短かいので網１２
の変形量が減少される。またその減少された変形量は、
島１７の分布が一様であるので開口１４1 〜１４3 の何
れの部位でも平均的に一様となり、その結果通過インク
量が各部位で平均的に一様となり、インクパターン１６
1 〜１６ 3 の各膜厚ｈ1 ，ｈ2 ，ｈ3 は何れも均一で且
つ等しくなる。
【０００９】印刷に当って島１７が傾かないためには島
１７の直径ｄは遮蔽用乳剤層１３の網１２よりの突出厚
ｈとほぼ同じか、それより大である必要がある。 ｄ＞＞ｈでは印刷後に島１７が無インクパターンとして
残るが、美術・外観を目的としない電子回路の製作等で
は全く問題がない。しかし外観が必要な場合はｄ≧ｈで
なるべく島１７の直径ｄをｈに近くすると印刷直後は島
１７が無インクパターンとして残るが、インクが流動性
を有しているので、いわゆるレベリング作用により島の
無インクパターン部にインクが流入して埋まり、島の無
インクパターンがない印刷ができる。
１７の直径ｄは遮蔽用乳剤層１３の網１２よりの突出厚
ｈとほぼ同じか、それより大である必要がある。 ｄ＞＞ｈでは印刷後に島１７が無インクパターンとして
残るが、美術・外観を目的としない電子回路の製作等で
は全く問題がない。しかし外観が必要な場合はｄ≧ｈで
なるべく島１７の直径ｄをｈに近くすると印刷直後は島
１７が無インクパターンとして残るが、インクが流動性
を有しているので、いわゆるレベリング作用により島の
無インクパターン部にインクが流入して埋まり、島の無
インクパターンがない印刷ができる。
【００１０】島１７と島１７との間隔は狭い方がスキー
ジの押圧による網１２の下方変形が少ない。しかしあま
り島間隔が狭いとマスク１１除去時、インクが被印刷体
１５上に残らずにマスク１１に附着したままはがれるお
それがある。よって島間隔は乳剤層１３の突出厚ｈとほ
ぼ等しいか、それより大とすることが必要である。これ
はインクの附着しない無効面積（島の面積）を減少する
のにも役立つ。
ジの押圧による網１２の下方変形が少ない。しかしあま
り島間隔が狭いとマスク１１除去時、インクが被印刷体
１５上に残らずにマスク１１に附着したままはがれるお
それがある。よって島間隔は乳剤層１３の突出厚ｈとほ
ぼ等しいか、それより大とすることが必要である。これ
はインクの附着しない無効面積（島の面積）を減少する
のにも役立つ。
【００１１】次に１枚のマスク１１で２種の膜厚のイン
クパターンを同時に印刷する例を図２Ａに示す。図示例
では同じ大きさの島１７が用いられているが開口１４1
は島１７の分布密度が開口１４2 ，１４3 の各島１７の
分布密度よりも小さくされている。このためスキージに
よる押圧による網１２の下方変形量は開口１４1 では開
口１４2 ，１４3 より大となりそれだけ通過インク量が
低下し、インクパターン１６1 ，１６2 ，１６3 は図２
Ｂに示すように膜厚ｈ1 ＜ｈ2 ＝ｈ3 となる。このよう
にして２種の膜厚のインクパターンがえられる。図２Ａ
では同じ直径の島１７が用いられたが、島の１７の直径
ｄを同時に変化してもよい。この場合は無効印刷（無イ
ンクパターン）面積も計算に入れなくてはならない。
クパターンを同時に印刷する例を図２Ａに示す。図示例
では同じ大きさの島１７が用いられているが開口１４1
は島１７の分布密度が開口１４2 ，１４3 の各島１７の
分布密度よりも小さくされている。このためスキージに
よる押圧による網１２の下方変形量は開口１４1 では開
口１４2 ，１４3 より大となりそれだけ通過インク量が
低下し、インクパターン１６1 ，１６2 ，１６3 は図２
Ｂに示すように膜厚ｈ1 ＜ｈ2 ＝ｈ3 となる。このよう
にして２種の膜厚のインクパターンがえられる。図２Ａ
では同じ直径の島１７が用いられたが、島の１７の直径
ｄを同時に変化してもよい。この場合は無効印刷（無イ
ンクパターン）面積も計算に入れなくてはならない。
【００１２】以上では島１７の平面形状は円として説明
したが任意の形をとることができる。正方形、矩形、楕
円、Ｈ型、Ｉ型、Ｘ型、Ｙ型等自由である。次に重ね印
刷に使用するスクリーン印刷用マスクにこの発明を適用
した例を図３を参照して説明する。図３Ａは被印刷体１
５上に第１インクパターン１８として例えば銀電極がス
クリーン印刷により形成されている状態を示す。これら
銀電極１８にわたって被印刷体１５上に第２インクパタ
ーンとして抵抗体層を形成する。このためのスクリーン
印刷用マスク１１として、その抵抗体層の形成部分の形
状をも開口１４が遮蔽用乳剤層１３で構成され、その開
口１４には図１で述べた乳剤層の島１７が分布形成され
ている。遮蔽用乳剤層１３の下面において前段階のイン
クパターン、この例では銀電極１８と対応する部分にそ
の厚さと対応した深さの凹部１９が図３Ｂに示すように
形成される。乳剤層の島１７についても、銀電極１８と
対応する部分に網１２よりの突出量が小とされている。
したが任意の形をとることができる。正方形、矩形、楕
円、Ｈ型、Ｉ型、Ｘ型、Ｙ型等自由である。次に重ね印
刷に使用するスクリーン印刷用マスクにこの発明を適用
した例を図３を参照して説明する。図３Ａは被印刷体１
５上に第１インクパターン１８として例えば銀電極がス
クリーン印刷により形成されている状態を示す。これら
銀電極１８にわたって被印刷体１５上に第２インクパタ
ーンとして抵抗体層を形成する。このためのスクリーン
印刷用マスク１１として、その抵抗体層の形成部分の形
状をも開口１４が遮蔽用乳剤層１３で構成され、その開
口１４には図１で述べた乳剤層の島１７が分布形成され
ている。遮蔽用乳剤層１３の下面において前段階のイン
クパターン、この例では銀電極１８と対応する部分にそ
の厚さと対応した深さの凹部１９が図３Ｂに示すように
形成される。乳剤層の島１７についても、銀電極１８と
対応する部分に網１２よりの突出量が小とされている。
【００１３】このようにして前段インクパターン１８に
よるマスク１１の不均一な浮き上りが防止され、抵抗体
用インクの印刷により、図３Ｃに示すように膜厚が一様
な第２インクパターン２１を開口１４と対応して形成す
ることができる。
よるマスク１１の不均一な浮き上りが防止され、抵抗体
用インクの印刷により、図３Ｃに示すように膜厚が一様
な第２インクパターン２１を開口１４と対応して形成す
ることができる。
【００１４】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によればイン
ク通過用開口に乳剤層の島が分布形成されているため、
マスクがスキージにより押圧されても網の下方への変形
が少なく、インクが各部一様に通過し、一様の膜厚のイ
ンクパターンが得られる。
ク通過用開口に乳剤層の島が分布形成されているため、
マスクがスキージにより押圧されても網の下方への変形
が少なく、インクが各部一様に通過し、一様の膜厚のイ
ンクパターンが得られる。
【図１】Ａは請求項１の発明の実施例を示す平面図、Ｂ
はその断面図、Ｃはこのスクリーン印刷用マスクを用い
て形成したインクパターンを示す断面図である。
はその断面図、Ｃはこのスクリーン印刷用マスクを用い
て形成したインクパターンを示す断面図である。
【図２】Ａは請求項６の発明の実施例を示す平面図、Ｂ
はそのマスクを用いて形成したインクパターンを示す断
面図である。
はそのマスクを用いて形成したインクパターンを示す断
面図である。
【図３】Ａはスクリーン印刷されたインクパターンの例
を示す断面図、Ｂはそのインクパターン上にスクリーン
印刷するための請求項７の発明の実施例を示す断面図、
ＣはＢのマスクにより印刷されたインクパターンを示す
断面図である。
を示す断面図、Ｂはそのインクパターン上にスクリーン
印刷するための請求項７の発明の実施例を示す断面図、
ＣはＢのマスクにより印刷されたインクパターンを示す
断面図である。
【図４】Ａは従来のスクリーン印刷用マスクの一部を示
す平面図、Ｂはその断面図、Ｃはそのマスクを用いて印
刷したインクパターンを示す断面図である。
す平面図、Ｂはその断面図、Ｃはそのマスクを用いて印
刷したインクパターンを示す断面図である。
Claims (7)
- 【請求項１】 網にその目をつぶした状態で遮蔽用乳剤
層がパターン状に形成されて、その遮蔽用乳剤層が形成
されていないインク通過用開口が構成されているスクリ
ーン印刷用マスクにおいて、 上記インク通過用開口内に乳剤層の島が分布形成されて
いることを特徴とするスクリーン印刷用マスク。 - 【請求項２】 上記乳剤層の島の厚さは上記遮蔽用乳剤
層の厚さとほぼ等しいことを特徴とする請求項１記載の
スクリーン印刷用マスク。 - 【請求項３】 上記乳剤層の島の直径が上記遮蔽用乳剤
層の厚さとほぼ同一以上とされていることを特徴とする
請求項１記載のスクリーン印刷用マスク。 - 【請求項４】 印刷後のインクの流動により、インクパ
ターンに上記乳剤層の島のパターンが消える程の大きさ
に、上記乳剤層の島の平面寸法が小さくされていること
を特徴とする請求項１記載のスクリーン印刷用マスク。 - 【請求項５】 上記乳剤層の島の相互間隔がその乳剤層
の島の厚さとほぼ同等以上であることを特徴とする請求
項１記載のスクリーン印刷用マスク。 - 【請求項６】 上記インク透過用開口が複数形成され、
これらの開口の寸法に応じて、上記乳剤層の島の開口ご
との密度及び島の平面寸法を選定して、印刷後のインク
の厚さが開口により異なるようにされていることを特徴
とする請求項１記載のスクリーン印刷用マスク。 - 【請求項７】 上記遮蔽用乳剤層の上記網の一面より出
ている部分に凹部が形成されていることを特徴とする請
求項１記載のスクリーン印刷用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28902991A JPH05124370A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | スクリーン印刷用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28902991A JPH05124370A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | スクリーン印刷用マスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05124370A true JPH05124370A (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=17737908
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28902991A Pending JPH05124370A (ja) | 1991-11-06 | 1991-11-06 | スクリーン印刷用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05124370A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994025276A1 (en) * | 1993-05-05 | 1994-11-10 | Cutcher Thomas V | Printing screen and method for printing a variable thickness pattern |
| JP2006334957A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Murata Mfg Co Ltd | スクリーン印刷版 |
| JP2013161871A (ja) * | 2012-02-02 | 2013-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 印刷装置及びそれを用いた太陽電池セルの製造方法 |
| JP2015098102A (ja) * | 2013-11-18 | 2015-05-28 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン形成方法及びその形成装置 |
| CN113921659A (zh) * | 2021-12-10 | 2022-01-11 | 南京日托光伏新能源有限公司 | 一种改善mwt孔隐的方法 |
-
1991
- 1991-11-06 JP JP28902991A patent/JPH05124370A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1994025276A1 (en) * | 1993-05-05 | 1994-11-10 | Cutcher Thomas V | Printing screen and method for printing a variable thickness pattern |
| US5390595A (en) * | 1993-05-05 | 1995-02-21 | Cutcher; Thomas V. | Printing screen with plugs and method for printing a variable thickness pattern |
| JP2006334957A (ja) * | 2005-06-02 | 2006-12-14 | Murata Mfg Co Ltd | スクリーン印刷版 |
| JP4670487B2 (ja) * | 2005-06-02 | 2011-04-13 | 株式会社村田製作所 | スクリーン印刷版 |
| JP2013161871A (ja) * | 2012-02-02 | 2013-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | 印刷装置及びそれを用いた太陽電池セルの製造方法 |
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| CN113921659A (zh) * | 2021-12-10 | 2022-01-11 | 南京日托光伏新能源有限公司 | 一种改善mwt孔隐的方法 |
| CN113921659B (zh) * | 2021-12-10 | 2022-06-28 | 南京日托光伏新能源有限公司 | 一种改善mwt孔隐的方法 |
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