JPH05123956A - シリンドリカル面の磨き装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 曲率半径が大きなシリンドリカル面をも、き
わめて容易にラッピング・ポリッシングが行える装置を
提供するものである。 【構成】 被加工物１は、転写面を有する磨き皿３に、
カンザシ５により押圧されると共に磨きガイド２により
保持される。磨き皿３を回転しつつカンザシ５を矢印方
向に揺動させることで、被加工物１には、磨き皿３の転
写面の曲率を有する面が加工される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学レンズ及び光学レ
ンズの成形金型などの硬脆材料で高精度なシリンドリカ
ル面を得るための加工装置に関するもので、特にシリン
ドリカル面の磨き装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】シリンドリカルレンズ、あるいはレンズ
を成形するシリンドリカル面を持った成形金型は、図５
に示すように、回転機構７に取り付けられて回転する被
加工物１の内面もしくは外周面に、図６に示す回転する
ポリシャーあるいは砥石９を押し当て、同時にラッピン
グ・ポリッシング剤８を供給しながら、被加工物１の磨
きを行なう。

【０００３】上記のように磨かれた被加工物の一部分を
切り出すことにより、凸面あるいは凹面のシリンドリカ
ル面を有する、レンズや金型を作成することができる。
さらには、図７に示す様に、あらかじめ形状の決まった
被加工物１を、回転機構７に取り付けられて回転する加
工治具６に装着し、前記したような方法で被加工物の磨
きを行ないシリンドリカルレンズあるいは成形用金型を
製作していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記の様な方法で、シ
リンドリカル面をラッピング・ポリッシングを行なうに
は、所望するシリンドリカル面のＲが大きくなるにつれ
て、加工治具、回転機構などの加工設備が大きくなり設
備コストが高く、従って被加工物のコスト高とともに非
能率的であると言う問題を有していた。

【０００５】本発明は、上記課題に対し、きわめて容易
にシリンドリカル面のラッピング・ポリッシングが行え
る装置を提供するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の装置は、所望するシリンドリカル面に対応す
る磨き皿と、該磨き皿をシリンドリカルＲの中心軸と直
行方向に回転させる回転機構と、一体化された被加工物
と磨きガイドを前記磨き皿上にて任意の荷重で加圧でき
る加圧機構と、加圧と同時に前記磨き皿回転軸と直行方
向に前記被加工物をカンザシを介して任意の幅で揚動さ
せる揚動機構と、前記磨き皿にラッピング・ポリッシン
グ剤を供給するスラリー供給装置を具備したものであ
る。

【０００７】

【作用】本発明は、上記した装置により、大きな加工設
備を必要とせず高精度なシリンドリカル面をラッピング
・ポリッシングを比較的簡単に得ることが出来る。

【０００８】

【実施例】以下本発明の実施例について図面を参照しな
がら説明する。

【０００９】図１に、本発明の装置の一実施例の構成を
示す。同図（ａ）は、側面図を、同図（ｂ）は正面図を
示す。図２は、同実施例装置におけるラッピング・ポリ
ッシングの様子を示す。被加工物のシリンドリカル面と
対応する面を有する磨き皿３が、回転装置４に取り付け
られ、磨き皿３の上に磨きガイド２とともに、被加工物
１が、カンザシ５により任意の圧力で押しつけられ、図
中矢印方向に揺動させてポリッシングを行なう。

【００１０】図３に磨きガイド２の詳細構成を示す。磨
きガイド２は、球形の足を持つものであり、磨き皿が回
転しても被加工物と磨き皿との相対位置がずれないよう
にするためのものであり、被加工物の大きさがある程度
大きい物であれば必要はない。

【００１１】図２において、回転装置４を介して磨き皿
３を回転させると、磨きガイド２と被加工物１は磨き皿
３とともに回転する。カンザシ５により所定の圧力を与
えて揺動を与えると、図４のように磨き皿３と磨きガイ
ド２及び被加工物１は相対位置を保ちながら、直線運動
をする。

【００１２】図４（ａ）は、磨き皿３の回転が０゜の
時、被加工物１と磨きガイド２がｘだけ揺動するときの
磨き皿３と被加工物１及び磨きガイド２との位置関係で
あり、図４（ｂ）は、磨き皿３が９０゜回転した時、被
加工物１と磨きガイド２がｘだけ揺動するときの磨き皿
３と被加工物１及び磨きガイド２との位置関係であり、
図４（ｃ）は、磨き皿３が１３５゜回転した時、被加工
物１と磨きガイド２がｘだけ揺動するときの磨き皿３と
被加工物１及び磨きガイド２との位置関係を示すもので
ある。

【００１３】すなわち、磨き皿３と被加工物１及び磨き
ガイド２は常に同じ位置関係を保ちながら揚動による直
線運動と磨き皿３による回転運動と磨き皿３と被加工物
１との間にスラリー供給装置１０により所定の研磨砥粒
を入れることによりラッピング・ポリッシングが始ま
る。

【００１４】磨き皿３の回転速度、カンザシ５による揺
動速度を独立して任意の速度で行なっても磨き皿３と被
加工物１及び磨きガイド２の位置関係は変わることはな
く、何等支障は発生しない。

【００１５】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、シリン
ドリカルＲに応じた大型設備は必要とせず、比較的簡単
で高精度なシリンドリカル面が得られる。

【００１６】

【図面の簡単な説明】

【図１】（ａ）は、本発明の一実施例装置の側面図 （ｂ）は、同実施例装置の正面図

【図２】同実施例装置の要部詳細図

【図３】同実施例装置の磨きガイドの詳細図

【図４】（ａ）は、同実施例装置の磨き皿の回転角度が
０゜における動作説明図 （ｂ）は、同実施例装置の磨き皿の回転角度が９０゜に
おける動作説明図 （ｃ）は、同実施例装置の磨き皿の回転角度が１３５゜
における動作説明図

【図５】従来のシリンドリカル面のラッピング・ポリッ
シング装置の側面図

【図６】同従来装置を用いた加工方法の説明図

【図７】同従来装置による他の加工方法の説明図

【符号の説明】

１ 被加工物 ２ 磨きガイド ３ 磨き皿 ４ 回転装置 ５ カンザシ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】所望のシリンドリカル面に対応する磨き皿
   と、該磨き皿をシリンドルカルＲの中心軸と直行する方
   向に回転させる回転機構と、一体化された被加工物とガ
   イド治具を任意の荷重で前記磨き皿上に加圧できる加圧
   機構と、加圧と同時に前記磨き皿回転軸と直行する方向
   に被加工物を揚動できる揚動機構と、前記磨き皿上に、
   ラッピング・ポリッシング剤を供給するスラリー供給装
   置を具備したことを特徴とするシリンドリカル面の磨き
   装置。
2. 【請求項２】磨き皿とガイド治具の接触状態が３点以上
   の点接触であることを特徴とする請求項１記載のシリン
   ドリカル面の磨き装置。