JPH05120664A

JPH05120664A - 磁気デイスク及びその製造方法

Info

Publication number: JPH05120664A
Application number: JP27926591A
Authority: JP
Inventors: Takao Yonekawa; 隆生米川; Katsuo Abe; 勝男阿部; Atsusuke Takagaki; 篤補高垣; Noriyuki Shige; 則幸重; Shuichi Kojima; 修一小島; Kenji Furusawa; 賢司古澤
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1991-10-25
Filing date: 1991-10-25
Publication date: 1993-05-18

Abstract

(57)【要約】【目的】スパッタ磁気ディスクに於て、磁性膜中の酸素
濃度を３原子％以下とすることで高保磁力を有する面内
記録用磁気ディスクを得る。【構成】非磁性基板にＣｒ下地膜、磁性膜、Ｃ保護膜か
らなるスパッタ磁気ディスクのＣｏＣｒ系金属磁気記録
膜は、スパッタ雰囲気中の水蒸気分圧により、膜中酸素
濃度が増加し、これに伴い保磁力が低下する。この為、
スパッタ雰囲気中の水蒸気分圧を２×１０Ｅ-6Ｔｏｒｒ
以下とすることで、磁性膜中の酸素含有量が３原子％以
下の低酸素含有量の磁気記録膜を得る。【効果】高密度記録に適した高保磁力媒体を持つ磁気デ
ィスクが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、スパッタ薄膜形成手法
を用いて磁気記録媒体を形成した磁気ディスク、及び磁
気記録媒体の成膜方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の、スパッタ薄膜形成手法を用いて
磁気ディスク用基板上に磁気記録媒体を形成した磁気デ
ィスク、所謂スパッタ磁気ディスクは、次の構成から成
っている。例えば、磁気ディスク用基板として、アルミ
基材にＮｉＰめっきを施したＮｉＰめっき基板やガラス
基板、セラミック基板等の非磁性材料の基板を用いてき
た。磁気記録媒体としては、ＣｒもしくはＣｒに他の元
素を添加した下地膜上に、Ｃｏを主成分としたＣｏＣｒ
合金にＴａ、Ｐｔなどの第３元素を添加した磁性膜や、
ＣｏＮｉ合金にＣｒ、Ｚｒなどの第３元素を添加した磁
性膜を連続スパッタ形成することで、一軸異方性を示す
Ｃｏのｈｃｐ(hexagonal close-packed)結晶構造のｃ軸
を膜面面内方向に配向させて面内磁気記録用媒体を得て
いる。更に記録媒体上には保護膜としてＣ（カーボン）
などをスパッタ形成した積層構成をしている。

【０００３】また、記録媒体としては、他にも多くの構
成があり、下地膜がなく、直接磁性膜を基板上に形成し
たり、磁性膜にＣｏＰｔ合金を用いたりする磁気ディス
クも考案されている。

【０００４】いずれの方法でも記録膜はスパッタ形成手
法を用いて成膜するため、成膜雰囲気によって磁性膜の
磁気特性が変動する。例えば、以下の公知例が報告され
ている。アイ・イー・イー・イー，トランザクション
オンマグネティックス２２，５（１９８６年）第１
５５８頁から第１１６０頁(IEEE,Trans. on Magnetics,
VOL.22, No.5,(1986) pp1158-1160)には、真空層中の
不純物ガスによって有機フィルム上にスパッタ形成した
垂直記録媒体の垂直方向の異方性磁界が低下することが
記載されている。また、アイ・イー・イー・イー，トラ
ンザクションオンマグネティックス２４，６（１９
８８年）第２９８５頁から第２９８７頁(IEEE, Trans.
on Magnetics, VOL.24,No.6,(1988) pp2985-2987)に
は、酸素や窒素ガスを混入させたスパッタ雰囲気中で成
膜すると、保磁力（以後、Ｈｃと記載する場合がある）
が低下することが示されている。

【０００５】また磁性媒体のノイズを低減するために、
特開平２−２８１４１４では、磁性層間に１層以上の非
磁性層が存在し、磁性層を分断する様に、磁性層と非磁
性層を交互に積層させた構造の記録膜を持つ磁気ディス
クが考案されている。そして、この非磁性層は、磁性層
間の磁気的な相互作用を分断することのできる程の膜厚
であることが望ましいとされている。これにより、Ｓ／
Ｎ比の良好な磁気ディスクが得られるとしている。

【０００６】また、製造方法に起因する再生出力のうね
りの発生を低減させる方法として、基板表面の円周方向
に微細な加工痕を形成したテクスチャ基板を用いた米国
特許第４７３５８４０号明細書に開示された方法があ
る。テクスチャ加工を施す主な理由は、円周方向（加工
方向）に磁気異方性を付与する効果がある。また、テク
スチャ加工を施す他の理由は、ヘッドスライダー面とデ
ィスク面との吸着現象を回避し、ディスク始動回転時の
ヘッド−ディスク間の接線力を低減することが上げられ
る。

【０００７】なお、本発明で使用するテクスチャ粗さＲ
ａとは、ディスク基板面の円周方向に加工した微細な加
工痕を半径方向に測定したときの中心線平均粗さのこと
を示す。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】上述した通り、磁性膜
中に酸素が含有すると磁気特性が低下する。しかし、通
常状態の成膜装置は、成膜雰囲気中に磁気特性を低下さ
せる程の酸素は存在しない。また、多量に窒素、酸素が
成膜雰囲気中に存在する場合は、真空槽のリークが考え
られる。従って、通常状態の成膜装置に於て、成膜時に
磁気特性を低下させる原因は、他に存在する。

【０００９】一般的にスパッタ装置等の真空器機は、真
空槽壁に付着した大気中の水蒸気により、必ず真空雰囲
気中には水蒸気（以後、水蒸気をＨ₂Ｏと記載する）が
存在する。更にＨ₂Ｏ分子が解離してＯＨ、Ｏ₂、Ｈ₂等
の分子も存在する。

【００１０】一方、スパッタ磁気ディスクを成膜するス
パッタ装置は、量産性を考えて大気中から真空槽中へ基
板、更に基板を複数枚保持した保持具を連続して仕込室
より搬入し、取り出し室よりの搬出を繰り返す、所謂ロ
ードロック方式の真空装置である。発明者らは、これが
要因となって基板や保持具に付着していた水蒸気が真空
槽内で脱離し、スパッタ雰囲気中にＨ₂Ｏガスの濃度が
高まることを確認した。更にＨ₂Ｏガスが存在する雰囲
気中でＣｏＣｒ系の磁性膜を形成すると、スパッタ中に
酸素が膜中に含有したり、スパッタ材と反応したりして
磁性膜の磁気特性、特にＨｃが低下したり、特性が変動
して成膜プロセス制御が困難な状況になることを確認し
た。

【００１１】また、Ｈ₂Ｏ分圧の高い雰囲気中に、成膜
後の下地膜または磁性膜の金属表面を露出させると、Ｈ
₂Ｏ分子が付着したり、表面が酸化されたりして、その
上に積層する膜の結晶成長が阻害される問題が生じた。
特に多層膜構造の磁気記録膜は、層間が多く介在するた
めに上記問題が顕在化した。

【００１２】従来、基板に粗さＲａ（以後、Ｒａは中心
線平均粗さを示す）４ｎｍ以上のテクスチャ加工基板を
用いてきた事で、磁気異方性を発生、または磁気ディス
ク面へのヘッド吸着の防止を行ってきた。しかし線記録
密度、トラック密度が高密度になり、更にヘッド浮上量
が０．１０μｍ、トラック幅が１０μｍ以下になると、
粗いテクスチャ基板では、テクスチャ加工溝に伴う再生
出力の不均一が生じるという弊害が発生してきた。

【００１３】本発明の目的は、膜中に含有する酸素量を
低減することで、良好な磁気特性を示す磁気記録媒体を
持つ磁気ディスクを提供することにある。

【００１４】本発明の他の目的は、膜中に含有する酸素
量を低減させるための成膜方法を提供することにある。

【００１５】本発明の他の目的は、テクスチャの粗さを
２ｎｍ以下とすることで、高密度記録に適した磁気ディ
スクを提供することにある。

【００１６】本発明の他の目的は、膜中や膜の層間に含
有する酸素量を低減した磁性膜を多層積層することで磁
気特性が良好でノイズの小さな磁気記録媒体を持つ磁気
ディスクを提供することにある。

【００１７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
には、まずスパッタ雰囲気中のＨ₂Ｏ分圧を下げる必要
がある。発明者らは、スパッタ雰囲気中の不純物ガスの
大半は基板搬入に伴う槽内持ち込みによるＨ₂Ｏである
ことを確認した。即ち、大気中で基板、及び基板保持治
具表面にＨ₂Ｏが付着し、真空層中でこのガスの脱離が
行われるために、真空層中のＨ₂Ｏ分圧が上昇する。従
って、Ｈ₂Ｏ分圧を下げるには、持ち込む量を少なくす
る事と、排気する量を大きくすことを同時に実行するほ
うが効果的である。特にＨＯは、凝固点温度が他のガス
より十分に高いため、冷凍機等のポンプにより大きな排
気速度が得られる。また、ＨＯを選択的に排気すること
も可能である。その他に基板、及び基板搬送治具を成膜
室に搬入する前にスパッタエッチング、紫外線照射等に
よるクリーニングを行なう方法もある。

【００１８】一方、成膜速度を高速にして、成膜時のＨ
₂Ｏ分圧の影響を低減する方法もある。単位時間に付着
するガス分子の数が同じと考えると、成膜速度が高速で
あれば、膜中に取り込むガス濃度が低くなることは明ら
かである。

【００１９】この様な成膜手段を駆使することで、膜中
の酸素濃度、及び層間に局在する酸素を低下させること
ができ、下地膜、磁性膜の結晶成長を疎外する要因を除
くことができる。

【００２０】

【作用】スパッタ雰囲気中のＨ₂Ｏ分圧を意識的に２×
１０Ｅ-6Ｔｏｒｒ以下に低減さる事で、磁性膜中に含有
される酸素濃度を磁気特性に影響を及ぼさない程までに
減じる事ができる。更に、高いＨ₂Ｏ分圧の雰囲気で成
膜した時に生じていた下地膜と磁性膜の境界に局在する
酸素がなくなり、膜厚方向で酸素濃度が３原子％以下で
酸素濃度分布は生じることがない為に、結晶配向性に支
障はきたさない。磁性膜をＣｏＣｒベースの磁性層と非
磁性層を積層させた多層構造の磁性膜を形成した場合で
も、磁性層と非磁性層の界面に局在する酸素がなくな
り、膜厚方向で酸素濃度が３原子％以下で酸素濃度分布
は生じることはない為、結晶配向性に支障はきたさな
い。この為、低Ｈ₂Ｏ分圧下で成膜した媒体では、円周
方向に磁気異方性が強く生じ、高保磁力の媒体が得られ
る。更に多層構造の磁性膜を形成した記録媒体は、多層
構造にした事による特性の低下は生じなく、ノイズも低
減できる。従って、テクスチャの平均粗さＲａが２ｎｍ
以下の微少粗さテクスチャ基板でも、円周方向に強く磁
気異方性を生じさせる事が可能である。

【００２１】テクスチャ粗さを小さくすることで、ヘッ
ドギャップと磁性膜との距離が空間的に均一となり、ト
ラック一周のヘッド再生出力波形が均一となる作用があ
る。この作用は、ヘッド浮上量が狭く、トラック幅が狭
くなるほど効果が大きい。ヘッド再生出力波形が均一と
なることで、出力、周波数特性などの記録再生性能や、
ヘッドの位置決め精度、エラーレートなど磁気ディスク
装置の信頼性向上にも寄与する。

【００２２】

【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。実施例１本発明による成膜手法が有効であることを確認する為
に、Ｈ₂Ｏ分圧を変化させて各種磁性膜を形成した。基
板は、中心線平均粗さＲａが２ｎｍのテクスチャ加工を
円周方向に施したＮｉＰめっき基板１を用いた。磁性膜
３は、ＣｏＣｒ（１２原子％）Ｔａ（４原子％）、Ｃｏ
Ｃｒ（１２原子％）Ｐｔ（４原子％）の２種類の磁性膜
を用い、下地膜２は、Ｃｒを用いた。また保護膜４は、
Ｃ（カーボン）をスパッタ形成した。この様に、記録媒
体を構成するＣｒ下地膜２、ＣｏＣｒ系磁性膜３、Ｃ保
護膜４の３層を連続スパッタ成膜してスパッタディスク
を得た。またスパッタ条件は、基板温度２３０℃、Ａｒ
ガス圧５ｍＴｏｒｒ、成膜速度をＣｒ下地膜２．８ｎｍ
／ｓ、磁性膜１ｎｍ／ｓとし、膜厚構成は、保護膜４を
２０ｎｍ、磁性膜３を５０ｎｍ、下地膜２を５０ｎｍと
て条件を固定した。

【００２３】この条件下で、各種磁性膜についてＨ₂Ｏ
分圧に対する磁気特性の変化を図１に示す。保磁力Ｈｃ
は、Ｈ₂Ｏ分圧の増加に伴いＨｃが低下する。そして磁
性材料により、スパッタ雰囲気中のＨ₂Ｏ分圧に対する
保磁力低下の様子が異なる。特に第３元素としてＴａを
添加したＣｏＣｒＴａ媒体は、スパッタ雰囲気中のＨ₂
Ｏガスに影響されやすい。また、第３元素としてＰｔを
添加したＣｏＣｒＰｔ磁性膜もＨ₂Ｏ分圧の増加に伴い
Ｈｃが低下する。しかしＣｏＣｒＴａ磁性膜程大きく低
下しないことがわかった。発明者等は両磁性膜を分析し
た結果、ＣｏＣｒＴａ磁性膜は、スパッタ雰囲気中のＨ
₂Ｏから解離した酸素が磁性膜のＴａと結合しやすいた
めに、ＣｏＣｒＰｔ磁性膜よりスパッタ雰囲気中の影響
を受けやすい事が明らかとなった。この様に、ＣｏＣｒ
系磁性膜は、成膜時のＨ₂Ｏ不純物ガスにより大きく特
性を低下させてしまう事が明らかとなった。

【００２４】本発明に示したように、Ｈ₂Ｏ分圧を２×
１０Ｅ-6Ｔｏｒｒ以下とすることで、ＣｏＣｒＴａ磁性
媒体は、１６００Ｏｅ以上の高保磁力を得ることができ
た。またＣｏＣｒＰｔ磁性媒体でもＨ₂Ｏ分圧を２×１
０Ｅ-6Ｔｏｒｒ以下とすることで、１８００Ｏｅ以上の
高保磁力を得ることができた。

【００２５】また、各種記録媒体を制御されたＨ₂Ｏ分
圧の雰囲気中で成膜したとき、Ｈ₂Ｏ分圧と磁性膜３中
に含有した酸素濃度の関係を図２に示す。磁性膜３中の
酸素含有量は、Ｈ₂Ｏ分圧が高い程、含有量が上がるこ
とがわかる。これは、Ｈ₂Ｏガスが放電により水素と酸
素に分離し、酸素または水酸化物が磁性膜と結合してい
るためである事がわかった。

【００２６】粗さＲａが２ｎｍのテクスチャ加工を施し
たＮｉＰめっき基板１上に記録媒体を成膜して、Ｈ₂Ｏ
分圧が磁気異方性に及ぼす影響を図３に示す。磁気異方
性は、Ｈ₂Ｏ分圧が１×１０Ｅ-5Ｔｏｒｒ以上になると
ほぼ等方的になる。しかし、２×１０Ｅ-6Ｔｏｒｒ以下
であれば、円周方向に磁気異方性が付く事がわかった。
本発明により、Ｈ₂Ｏ分圧を２×１０Ｅ-6Ｔｏｒｒ以下
の雰囲気で成膜することで、円周方向の磁気異方性エネ
ルギーが高くなり、この為に円周方向の保磁力が向上
し、高密度記録に対応できる磁気ディスクが得られた。

【００２７】次にこれらスパッタディスクの電磁変換特
性を測定した。トラック１周当たりの出力エンベロープ
を図８（ａ）、図８（ｂ）に示す。両図を比較すると、
テクスチャ粗さＲａが２ｎｍのＮｉＰめっき基板に形成
したディスクは、粗さＲａが６ｎｍのＮｉＰめっき基板
に成膜したディスクと比較して、トラック１周当りのヘ
ッド出力波形（エンベロープ）が均一であった。テクス
チャ粗さが大きいと、ヘッドギャップと磁性膜との距離
に分布が生じ、トラック１周のヘッド再生出力波形が不
均一となる為である。そしてこの作用は、ヘッド浮上量
が狭くなる程効果が大きかった。そして、このテクスチ
ャ粗さがＲａ２ｎｍ程のＮｉＰ基板に記録媒体を形成し
たディスクを磁気ディスク装置に採用することで、ヘッ
ド再生出力波形が均一となり、出力、周波数特性などの
記録再生性能の向上や、ヘッドの位置決め精度、エラー
レートなど磁気ディスク装置の信頼性向上に寄与する事
ができた。

【００２８】実施例２Ｈ₂Ｏ分圧により膜中に含有する酸素濃度が変化する事
を先に示した。そして、磁性膜がＣｏＣｒＴａの場合
は、特にＨ₂Ｏガスに影響されやすいことがわかった。
そこで、Ｈ₂Ｏ分圧の異なる条件で成膜したＣｏＣｒＴ
ａ磁性膜を用いた記録媒体中に含有する酸素濃度の膜厚
方向の分布を分析した。

【００２９】まず、図４に示す層構造の様な、磁性膜３
が単層膜である記録媒体の膜厚方向の組成を分析した。
分析は、膜面をスパッタエッチングしながら膜の深さ方
向のオージェ分析（ＡＥＳ：Auger Electron Spectrosc
opy）を行ったもので、この結果を図５に示す。図５
（ａ）は、Ｈ₂Ｏ分圧が１．８×１０Ｅ-5Ｔｏｒｒの条
件で磁性膜にＣｏＣｒＴａを成膜した記録媒体、図５
（ｂ）はＨ₂Ｏ分圧が９．２×１０Ｅ-7Ｔｏｒｒの条件
で磁性膜にＣｏＣｒＴａを成膜した記録媒体の分析結果
である。図５（ａ）（ｂ）より、Ｈ₂Ｏ分圧の高い条件
で成膜した記録媒体は、酸素濃度が膜内で約３から４原
子％になっており、また膜厚方向の分布がＣｒ下地膜と
磁性膜との界面付近で６原子％程に増加していた。これ
に対してＨ₂Ｏ分圧の低い条件で成膜した記録媒体は、
膜中酸素濃度が２原子％以下で、更に膜厚方向の酸素濃
度分布がＣｒ下地膜と磁性膜との界面付近で酸素濃度増
加は認められなかった。これら記録媒体の磁気特性を表
１に示す。

【００３０】

【表１】

【００３１】低Ｈ₂Ｏ分圧条件の記録媒体は、保磁力
（Ｈｃ）、保磁力角形比（Ｓ＊）共に、高Ｈ₂Ｏ分圧条
件の記録媒体より高いＨｃ、Ｓ＊を得ることができた。
Ｃｒ下地膜と磁性膜との界面付近で酸素濃度が増加する
原因は、Ｃｒ下地膜を形成した後に基板を搬送する為の
未成膜時間が約２０秒要し、その間に下地膜の表面酸化
が進行したものである。これによりＣｒ下地膜２上に結
晶配向するはずの磁性膜３が、酸素の介在により結晶成
長が阻害されてしまい、磁気特性が低下していること
が、記録媒体のＸ線回折強度を測定することで明らかと
なった。

【００３２】次に、図６に示す層構造の様に、同じ磁性
膜３とＣｒ非磁性膜６を積層した多層構造の磁性層を形
成した場合に対しても、同様の分析を行った。図７
（ａ）は、Ｈ₂Ｏ分圧が１．１×１０Ｅ-5Ｔｏｒｒの条
件で磁性膜にＣｏＣｒＴａを成膜した記録媒体、図７
（ｂ）はＨ₂Ｏ分圧が９．１×１０Ｅ-5Ｔｏｒｒの条件
で磁性膜のＣｏＣｒＴａ成膜した記録媒体の分析結果で
ある。膜中の酸素濃度は、先の図５（ａ）（ｂ）の単層
磁性膜媒体とほぼ同じであり、高Ｈ₂Ｏ分圧条件では、
膜中の酸素濃度は３から４原子％であった。そして、高
Ｈ₂Ｏ分圧の条件では、Ｃｒ下地膜２と磁性膜間３、及
び２層の磁性膜３と非磁性層６間の界面付近に酸素濃度
の増加が認められた。一方、低Ｈ₂Ｏ分圧の条件では、
酸素濃度の局部的な増加はなく、２原子％以下となって
いた。

【００３３】この時の記録媒体の磁気特性を表２に示
す。

【００３４】

【表２】

【００３５】低Ｈ₂Ｏ分圧条件の記録媒体は、保磁力
（Ｈｃ）、保磁力角形比（Ｓ＊）共に、高Ｈ₂Ｏ分圧条
件の記録媒体より高いＨｃ、Ｓ＊を得ることができた。
膜の層間に酸素濃度の高い分布を示す理由は、磁性膜と
非磁性層間で、基板搬送に要する時間が約２０秒間要
し、この間に膜表面が酸化されるためである。

【００３６】種類の異なる磁性膜を非磁性層を介さずに
多層化した場合も、各層間に酸素の高濃度の部分が存在
し、磁気特性のＨ₂Ｏ分圧の影響は、同じ結果が得られ
た。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、基板搬送雰囲気中、及
びスパッタ成膜雰囲気中のＨ₂Ｏ分圧を１×１０Ｅ-6Ｔ
ｏｒｒ以下とすることで、下地膜、及び磁性膜の膜中酸
素含有量を低減することができる。そして、酸素含有量
を低減した記録媒体は、高密度の記録が可能な高保磁力
の記録媒体を得ることが可能となった。

【００３８】更に、搬送雰囲気中のＨ₂Ｏ分圧を２×１
０Ｅ-6Ｔｏｒｒ以下とすることで、記録膜を多層化して
も、磁気特性の低下を回避することができた。

【００３９】またこの記録媒体は、テクスチャの粗さが
小さくても円周方向に磁気異方性を付与することが可能
であり、円周方向で高保磁力を示す記録媒体を得ること
ができた。

【００４０】また、テクスチャ粗さがＲａ２ｎｍ程の、
微細なＮｉＰテクスチャ基板に記録媒体を形成したディ
スクを磁気ディスク装置に採用することで、ヘッド再生
出力波形が均一となり、出力、周波数特性などの記録再
生性能の向上や、ヘッドの位置決め精度、エラーレート
など磁気ディスク装置の信頼性向上に寄与する事ができ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】スパッタ雰囲気中のＨ₂Ｏ分圧に対する磁気特
性の変化を表す図である。

【図２】Ｈ₂Ｏ分圧と磁性膜中に含有した酸素濃度の関
係を示す図である。

【図３】Ｈ₂Ｏ分圧と磁気異方性の関係を示す図であ
る。

【図４】本発明の一実施例を示し、磁性膜が単層膜であ
る記録媒体の断面層構成を示す図である。

【図５】高Ｈ₂Ｏ分圧中と低Ｈ₂Ｏ分圧中とでそれぞれ成
膜した記録媒体の膜断面方向の酸素濃度分布を示す図で
ある。

【図６】本発明の一実施例を示し、磁性膜が多層膜であ
る記録媒体の断面層構成を示す図である。

【図７】高Ｈ₂Ｏ分圧中と低Ｈ₂Ｏ分圧中とでそれぞれ成
膜した記録媒体の膜断面方向の酸素濃度分布を示す図で
ある。

【図８】テクスチャ粗さの異なるディスクのトラック１
周当りの出力エンベロープの比較を示す図である。

【記号の説明】

１---ＮｉＰめっき基板、２---Ｃｒ下地膜、３---磁性
膜、４---Ｃ保護膜、５---潤滑膜、６---Ｃｒ非磁性層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者重則幸神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所小田原工場内 (72)発明者小島修一神奈川県小田原市国府津2880番地株式会社日立製作所小田原工場内 (72)発明者古澤賢司神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地株式会社日立製作所生産技術研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板上に、Ｃｒ下地膜、またはＣｒ
を主成分として第２元素を微量に添加したＣｒ合金下地
膜と、Ｃｏを主成分としてＣｒが２５原子％以下の合金
に、第３元素としてＴａを８原子％以下、またはＰｔを
２０原子％以下を添加して成る１層以上の合金磁性膜
と、更にこの上に保護膜、または潤滑剤を塗布した、若
しくは保護膜上に潤滑剤を塗布した、磁気ディスクにお
いて、該下地膜、及び該Ｃｏ合金磁性膜中に含有する酸
素濃度が３原子％以下で、かつスパッタ形成した多層膜
の膜厚方向で、酸素含有量が３原子％以下の一定の濃度
であることを特徴とする磁気ディスク。
【請求項２】円周方向に形成したテクスチャの半径方向
の平均粗さＲａが２ｎｍ以下で、更に円周方向に磁気異
方性が生じていることを特徴とする請求項１記載の磁気
ディスク。
【請求項３】上記合金磁性膜が、組成の異なる多層の磁
性膜によって構成されていることを特徴とする請求項１
又は請求項２に記載の磁気ディスク。
【請求項４】上記合金磁性膜が、複数の磁性層と、この
磁性層間に１層以上の非磁性層より構成された多層膜か
ら構成されていることを特徴とする請求項１又は請求項
２に記載の磁気ディスク。
【請求項５】請求項１から請求項４のいずれかに記載の
磁気ディスクの製造方法であって、下地膜、及び磁性膜
のスパッタ雰囲気中、及び基板の搬送雰囲気中のＨ₂Ｏ
分圧が２×１０Ｅ-6Ｔｏｒｒ以下であることを特徴とす
る磁気ディスクの製造方法。