JPH05119838A - 位置決めステージ - Google Patents

位置決めステージ

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JPH05119838A
JPH05119838A JP28277591A JP28277591A JPH05119838A JP H05119838 A JPH05119838 A JP H05119838A JP 28277591 A JP28277591 A JP 28277591A JP 28277591 A JP28277591 A JP 28277591A JP H05119838 A JPH05119838 A JP H05119838A
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JP
Japan
Prior art keywords
stage
piezo
positioning
positioning stage
voltage
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP28277591A
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English (en)
Inventor
Kazuya Tomikawa
一也 富川
Nobuyuki Umeda
信行 梅田
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH05119838A publication Critical patent/JPH05119838A/ja
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 試料を所定の場所に迅速かつ高精度で位置合
わせできる位置決めステージの提供。 【構成】 Xステージ11に搭載されたYステージ12と、
これに搭載されたZステージ13と、Zステージ13に搭載
されてX,Y平面内で回転する中心部を貫通する開口34
a を設けた回転ステージ34とを含んで構成した第1の位
置決めステージ30と、回転ステージ34の開口34a 内に挿
入かつZステージ13上に載置されて、印加された直流電
圧の大きさによりX軸方向への膨張量が制御されるピエ
ゾXステージ21と、これに搭載されて、印加された直流
電圧の大きさによりY軸方向への膨張量が制御されるピ
エゾYステージ22と、更にその上に搭載されて、印加さ
れた直流電圧が臨界電圧以上の際には表面を回転ステー
ジ34の表面から突き出し、直流電圧が臨界電圧以内の際
には表面を回転ステージ34の表面から落ち込ませるピエ
ゾZステージ23とを含んで構成される第2の位置決めス
テージ20とを含ませて位置決めステージを構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、載置した試料を所定の
場所に位置合わせする位置決めステージ、特に試料を所
定の場所に迅速かつ高精度で位置合わせできる位置決め
ステージに関する。
【0002】現在の大規模・高集積半導体装置における
配線パターンは、サブミクロンの領域になっている。し
たがって、このような配線パターンの形成や検査を能率
的に行なう上で、半導体ウェーハを所定の位置に迅速か
つ高精度で位置合わせできる位置決めステージが不可欠
である。
【0003】
【従来の技術】次に、従来の位置決めステージについて
図2を参照して説明する。図2は、従来の位置決めステ
ージを説明するための図であって、同図(a)は位置決め
ステージの平面図、同図(b) は位置決めステージの側面
図である。
【0004】半導体装置のウェーハプロセス工程等で使
用する位置決めステージは、第1の位置決めステージ10
に、第2の位置決めステージ20を搭載して構成してい
た。この第1の位置決めステージ10は、X軸方向に自在
に移動するXステージ11と、このXステージ11上に搭載
されてY軸方向に自在に移動するYステージ12と、この
Yステージ12上に搭載されてZ軸方向に移動(昇降)す
るZステージ13及びこのZステージ上に搭載されてX軸
とY軸とで構成される平面内で回転する回転ステージ14
とを含んで構成されていた。
【0005】また、第2の位置決めステージ20は、第1
の位置決めステージ10の回転ステージ14に搭載されて、
印加された直流電圧の大きさによりX軸方向への膨張量
が制御されるピエゾXステージ21と、このピエゾXステ
ージ21上に搭載されて、印加された直流電圧の大きさに
よりY軸方向への膨張量が制御されるピエゾYステージ
22と、このピエゾYステージ22上に搭載されて、印加さ
れた直流電圧の大きさによりZ方向への膨張量が制御さ
れるピエゾZステージ23とを含んで構成されていた。
【0006】したがって、かかる従来の位置決めステー
ジにおいては、第1の位置決めステージ10のそれぞれの
ステージ11,12,13,14 を高速で移動( 但し、回転ステー
ジ14は回転) した後に、この第1の位置決めステージ10
の回転ステージ14上に搭載された第2の位置決めステー
ジ20のそれぞれのステージ21,22,23に直流電圧をそれぞ
れ独立に印加することより、ステージ21,22,23をそれぞ
れ微少移動し、ピエゾZステージ23上に搭載した半導体
ウェーハ等の試料40( 以降、半導体ウェーハ40と呼称)
を所定の場所に位置合わせするようにしていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前述した如
く従来の位置決めステージは、第1の位置決めステージ
10の回転ステージ上に第2の位置決めステージ20を搭載
して構成されていた。
【0008】したがって、第1の位置決めステージ10の
回転ステージ14が回転すると、第2の位置決めステージ
20も一緒に回転してしまい、第2の位置決めステージ20
のステージ21,22 の移動方向と第1の位置決めステージ
10のステージ11,12 の移動方向と異なってしまうという
問題があった。
【0009】本発明は、このような問題を解消し、且つ
半導体ウェーハを予め定めた場所に迅速かつ高精度に位
置合わせできる位置決めステージを提供することを目的
になされたものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】前記目的は、図1に示す
ように、X軸方向に自在に移動するXステージ11と、こ
のXステージ11に搭載されてX軸方向と直交するY軸方
向に自在に移動するYステージ12と、このYステージ12
に搭載されてX軸とY軸とに直交するZ軸方向に移動す
るZステージ13と、Zステージ13に搭載されてX軸とY
軸とで構成される平面内で回転する中心部を貫通する開
口34a を設けた回転ステージ34とを含んで構成した第1
の位置決めステージ30と、前記回転ステージ34の開口34
a 内に挿入かつZステージ13上に載置されて、印加され
た直流電圧の大きさによりX軸方向への膨張量が制御さ
れるピエゾXステージ21と、このピエゾXステージ21上
に搭載されて、印加された直流電圧の大きさによりY軸
方向への膨張量が制御されるピエゾYステージ22と、こ
のピエゾYステージ22上に搭載されて、印加された直流
電圧が臨界電圧より大の際には表面を回転ステージ34の
表面から突き出し、直流電圧が臨界電圧以内の際には表
面を回転ステージ34の表面から落ち込ませるピエゾZス
テージ23とを含んで構成される第2の位置決めステージ
20とを含んで構成したことを特徴とする位置決めステー
ジにより達成される。
【0011】
【作用】本発明の位置決めステージにおいては、第1の
位置決めステージ30の回転ステージ34の開口34a 内に第
2の位置決めステージ20を挿入した状態でZステージ13
に載置して構成している。
【0012】したがって、第1の位置決めステージ30の
それぞれのステージ11,12,13,34 を移動(但し、回転ス
テージ34は回転) しても、第2の位置決めステージ20は
X、Y及びZ軸方向には移動するものの回転することは
ない。
【0013】また、半導体ウェーハ40のX、Y及びZ軸
方向への高速の移動と回転は、第1の位置決めステージ
30の回転ステージ34で半導体ウェーハ40を支持して行な
い、X、Y及びZ軸方向への微少の移動は、第2の位置
決めステージ20のピエゾZステージ23に支持させて行な
う。
【0014】したがって、本発明は、半導体ウェーハ40
を予め定めた場所に迅速かつ高精度に位置合わせできる
位置決めステージの提供を可能にする。
【0015】
【実施例】以下、本発明の一実施例の位置決めステージ
について図1及び図3を参照して説明する。図1は本発
明の一実施例の位置決めステージを説明するための図で
あって、同図(a) は位置決めステージの側面図、同図
(b) はA部の拡大側面図である。なお、本明細書におい
ては、同一部品、同一材料等に対しては全図をとおして
同じ符号を付与してある。
【0016】本発明の一実施例の位置決めステージは、
図2により説明した従来の位置決めステージの第1の位
置決めステージ10を新構成の第1の位置決めステージ30
に代えるとともに、第2の位置決めステージ20を第1の
位置決めステージ30の回転ステージ34の開口34a 内に挿
入かつ第1の位置決めステージ30のZステージ13上に載
置して構成したものである。なお、回転ステージ34は、
従来の回転ステージ14の中心部を貫通する開口34a を設
けて構成したものである。
【0017】このように構成した本発明の一実施例の位
置決めステージにより、半導体ウェーハ40の所定の場所
への位置合わせを行なうには、まず、半導体ウェーハ40
を水平にして第1の位置決めステージ30の回転ステージ
34上に載置する。
【0018】なお、この回転ステージ34上に半導体ウェ
ーハ40を載置する際には、第2の位置決めステージ20の
ピエゾZステージ23は矢印D方向に移動した状態、すな
わち、ピエゾZステージ23には直流電源(図示せず)か
らピエゾ信号ケーブル24を介して電圧が全く供給されて
いない状態か、若しくはピエゾZステージ23の表面が回
転ステージ34の表面より低い位置にある状態である臨界
直流電圧以内の電圧が加えられた状態である。
【0019】かかる状態で、第1の位置決めステージ30
のそれぞれのステージ11,12,13及び回転ステージ34を移
動( 但し、回転ステージ34はX軸とY軸とで構成される
平面方向に沿っての回転) させて、半導体ウェーハ40を
所定の場所の近接位置に移動させるときもその向きを所
定の方向に一致させる。
【0020】次いで、第2の位置決めステージ20のピエ
ゾZステージ23にピエゾ信号ケーブル24を介して臨界直
流電圧を越える直流電圧を印加し、ピエゾZステージ23
の表面を第1の位置決めステージ30の回転ステージ34の
表面から矢印Uに突き出させると、半導体ウェーハ40は
ピエゾZステージ23だけに支持されることとなる。
【0021】したがって、ピエゾZステージ23に加える
電圧を臨界電圧を越える範囲で変えることにより、半導
体ウェーハ40のZ軸方向への位置合わせが行なわれる。
この後、ピエゾXステージ21及びピエゾYステージ22に
ピエゾ信号ケーブル24を介してそれぞれ独立に直流電圧
を加えて、ピエゾXステージ21をX軸方向に膨張させる
とともに、ピエゾYステージ22をY軸方向に膨張させる
ことにより半導体ウェーハ40はX軸、Y軸方向に微少移
動して所定の場所に高精度で位置合わせされる。
【0022】そして、ピエゾXステージ21等にピエゾ信
号ケーブル24を介してそれぞれ独立に加えられている直
流電圧をそのまま保持すると、ピエゾXステージ21等の
移動は全く停止し、半導体ウェーハ40は所定の場所に位
置合わせされた状態が持続することとなる。
【0023】ピエゾ効果を有する材料により構成された
ピエゾXステージ21等は、図3に示すように印加する直
流電圧を0V(ボルト)から1000V程度に変化させ
てもその膨張量は24μm程度であるから、精度の良い
直流電源を使用することにより半導体ウェーハ40を0.
01μm程度の分解能で移動できることとなる。
【0024】斯くして、本発明の一実施例の位置決めス
テージは、半導体ウェーハを迅速かつ高精度で所定の場
所に位置合わせできることとなる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、半導体ウ
ェーハ等の試料を所定の場所に迅速且つ高精度で位置合
わせできる位置決めステージを提供する。
【0026】したがって、本発明の位置決めステージを
採用することにより、配線パターンがザブミクロン領域
の半導体装置を歩留り良く製造することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】は、本発明の一実施例の位置決めステージを説
明するための図、
【図2】は、従来の位置決めステージを説明するための
図、
【図3】は、印加直流電圧とピエゾ素子の膨張量の関係
を示す図である。
【符号の説明】
10と30は第1の位置決めステージ、 11は、Xステージ、 12は、Yステージ、 13は、Zステージ、 14と34は、回転ステージ、 34a は、開口、 20は、第2の位置決めステージ、 21は、ピエゾXステージ、 22は、ピエゾYステージ、 23は、ピエゾZステージ、 24は、ピエゾ信号ケーブル、 40は、半導体ウェーハ (試料) をそれぞれ示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X軸方向に自在に移動するXステージ(1
    1)と、このXステージ(11)に搭載されてX軸方向と直交
    するY軸方向に自在に移動するYステージ(12)と、この
    Yステージ(12)に搭載されてX軸とY軸とに直交するZ
    軸方向に移動するZステージ(13)と、Zステージ(13)に
    搭載されてX軸とY軸とで構成される平面内で回転する
    中心部を貫通する開口(34a) を設けた回転ステージ(34)
    とを含んで構成した第1の位置決めステージ(30)と、 前記回転ステージ(34)の開口(34a) 内に挿入かつZステ
    ージ(13)上に載置されて、印加された直流電圧の大きさ
    によりX軸方向への膨張量が制御されるピエゾXステー
    ジ(21)と、このピエゾXステージ(21)上に搭載されて、
    印加された直流電圧の大きさによりY軸方向への膨張量
    が制御されるピエゾYステージ(22)と、このピエゾYス
    テージ(22)上に搭載されて、印加された直流電圧が臨界
    電圧より大の際には表面を回転ステージ(34)の表面から
    突き出し、直流電圧が臨界電圧以内の際には表面を回転
    ステージ(34)の表面から落ち込ませるピエゾZステージ
    (23)とを含んで構成される第2の位置決めステージ(20)
    とを含んで構成したことを特徴とする位置決めステー
    ジ。
JP28277591A 1991-10-29 1991-10-29 位置決めステージ Withdrawn JPH05119838A (ja)

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JP28277591A JPH05119838A (ja) 1991-10-29 1991-10-29 位置決めステージ

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JPH05119838A true JPH05119838A (ja) 1993-05-18

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JP28277591A Withdrawn JPH05119838A (ja) 1991-10-29 1991-10-29 位置決めステージ

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JP (1) JPH05119838A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013148397A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Seiko Epson Corp ハンドラーおよび検査装置
JP2013148396A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Seiko Epson Corp ハンドラーおよび検査装置
JP2013148395A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Seiko Epson Corp ハンドラーおよび検査装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013148397A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Seiko Epson Corp ハンドラーおよび検査装置
JP2013148396A (ja) * 2012-01-17 2013-08-01 Seiko Epson Corp ハンドラーおよび検査装置
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Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 19990107