JPH05119193A - 工業用ｘ線検査装置 - Google Patents
工業用ｘ線検査装置Info
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- JPH05119193A JPH05119193A JP22947491A JP22947491A JPH05119193A JP H05119193 A JPH05119193 A JP H05119193A JP 22947491 A JP22947491 A JP 22947491A JP 22947491 A JP22947491 A JP 22947491A JP H05119193 A JPH05119193 A JP H05119193A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 小形でしかも操作性がよく、かつ安価な工業
用Ｘ線検査装置を提供する。 【構成】 照射筒４０を固定照射筒４１及び可動照射筒
４２で構成する。可動照射筒４２は昇降手段７０によっ
て上下動し、可動照射筒４２が上昇しているときに被検
査物の装脱を行なう。可動照射筒４２の下面にはゴム弾
性を有する防Ｘ線部材５０が取付けられており、段差が
生じる場合であってもＸ線の漏洩を完全に防止する。ま
た、上面テーブル３２と可動照射筒４２は昇降手段７０
を介していっしょに水平移動するように構成してあるの
で、防Ｘ線をしたまま、基板等の位置合わせを行なうこ
とができる。 【効果】 必要な部位だけ防Ｘ線を行なうので、装置全
体をシールドボックスで囲う必要がない。
用Ｘ線検査装置を提供する。 【構成】 照射筒４０を固定照射筒４１及び可動照射筒
４２で構成する。可動照射筒４２は昇降手段７０によっ
て上下動し、可動照射筒４２が上昇しているときに被検
査物の装脱を行なう。可動照射筒４２の下面にはゴム弾
性を有する防Ｘ線部材５０が取付けられており、段差が
生じる場合であってもＸ線の漏洩を完全に防止する。ま
た、上面テーブル３２と可動照射筒４２は昇降手段７０
を介していっしょに水平移動するように構成してあるの
で、防Ｘ線をしたまま、基板等の位置合わせを行なうこ
とができる。 【効果】 必要な部位だけ防Ｘ線を行なうので、装置全
体をシールドボックスで囲う必要がない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、工業用のＸ線検査装置
に関し、特に多層基板の位置決めマーク検査，集積回路
の欠陥検査等に適したＸ線検査装置に関する。
に関し、特に多層基板の位置決めマーク検査，集積回路
の欠陥検査等に適したＸ線検査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、Ｘ線を利用した検査装置は、Ｘ線
の外部漏洩を防止するため、被検査対象となる製品の全
体をシールドボックスの内部に収納し、その中でＸ線を
照射して検査を行なっていた。
の外部漏洩を防止するため、被検査対象となる製品の全
体をシールドボックスの内部に収納し、その中でＸ線を
照射して検査を行なっていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従来
の工業用Ｘ線検査装置は、被検査対象となる製品の全体
をシールドボックス内に収納した状態で検査を行なって
いるため、幅の広い製品を対象とした検査、例えば、積
層された基板の隅部に形成してある位置決めマークの一
致状態を検査する多層基板位置決めマーク検査において
は、図８に示すように、多層基板１００の面積のほぼ四
倍近い広さを有するシールドボックス９０を用意しなけ
ればならなかった。このため、検査装置の床面積が広く
なって装置が大型化するとともに、シールドボックス９
０の開閉扉９１も重厚なものが必要となり操作性が悪
く、装置の高価格化をまねいていた。本発明は上記の問
題点にかんがみてなされたものであり、小型でしかも操
作性のよい工業用Ｘ線検査装置の提供を目的とする。
の工業用Ｘ線検査装置は、被検査対象となる製品の全体
をシールドボックス内に収納した状態で検査を行なって
いるため、幅の広い製品を対象とした検査、例えば、積
層された基板の隅部に形成してある位置決めマークの一
致状態を検査する多層基板位置決めマーク検査において
は、図８に示すように、多層基板１００の面積のほぼ四
倍近い広さを有するシールドボックス９０を用意しなけ
ればならなかった。このため、検査装置の床面積が広く
なって装置が大型化するとともに、シールドボックス９
０の開閉扉９１も重厚なものが必要となり操作性が悪
く、装置の高価格化をまねいていた。本発明は上記の問
題点にかんがみてなされたものであり、小型でしかも操
作性のよい工業用Ｘ線検査装置の提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の工業用Ｘ線検査装置は、Ｘ線発生器と、Ｘ線カ
メラと、Ｘ線発生器とＸ線カメラの間に位置し被検査物
を載置するテーブルと、Ｘ線発生器の下部に設けられ被
検査物を部分的に覆う照射筒と、照射筒の下部にリング
状に取り付けられた含鉛ゴムからなる防Ｘ線部材とを具
備した構成としてあり、好ましくは照射筒を固定照射筒
と可動照射筒で形成し、可動照射筒を上下動可能に構成
し、またテーブルを水平方向に移動可能とするととも
に、このテーブルに可動筒の駆動手段を固定した構成と
してある。さらに、必要に応じテーブルを、水平の一方
向に移動する中間テーブルと、この中間テーブル上に載
置され中間テーブルの移動方向と直交する方向に移動す
る上面テーブルとで構成するとともに、中間テーブルに
原点復帰手段を設けた構成とし、また上面テーブルに固
定手段を設けた構成としてある。
本発明の工業用Ｘ線検査装置は、Ｘ線発生器と、Ｘ線カ
メラと、Ｘ線発生器とＸ線カメラの間に位置し被検査物
を載置するテーブルと、Ｘ線発生器の下部に設けられ被
検査物を部分的に覆う照射筒と、照射筒の下部にリング
状に取り付けられた含鉛ゴムからなる防Ｘ線部材とを具
備した構成としてあり、好ましくは照射筒を固定照射筒
と可動照射筒で形成し、可動照射筒を上下動可能に構成
し、またテーブルを水平方向に移動可能とするととも
に、このテーブルに可動筒の駆動手段を固定した構成と
してある。さらに、必要に応じテーブルを、水平の一方
向に移動する中間テーブルと、この中間テーブル上に載
置され中間テーブルの移動方向と直交する方向に移動す
る上面テーブルとで構成するとともに、中間テーブルに
原点復帰手段を設けた構成とし、また上面テーブルに固
定手段を設けた構成としてある。
【０００５】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。図
１は本発明の一実施例に係る工業用Ｘ線装置正面図、図
２は同じく要部構成図、図３は同じく平面図である。こ
れらの図面において、本発明の工業用Ｘ線装置１は、Ｘ
線発生器１０、Ｘ線カメラ２０、Ｘ−Ｙテーブル３０、
照射筒４０、防Ｘ線部材５０等で構成されている。Ｘ線
発生器１０は、Ｘ線管１１と制御部及び冷却装置等で構
成されている。Ｘ線管１１は、Ｘ線を発生させるための
真空管であり、装置上部に固定されている。Ｘ線管１１
は、高電圧（例えば６万ボルト）を加えるとＸ線を発生
し、被検査物及びＸ線カメラに向けてＸ線を照射する。
１は本発明の一実施例に係る工業用Ｘ線装置正面図、図
２は同じく要部構成図、図３は同じく平面図である。こ
れらの図面において、本発明の工業用Ｘ線装置１は、Ｘ
線発生器１０、Ｘ線カメラ２０、Ｘ−Ｙテーブル３０、
照射筒４０、防Ｘ線部材５０等で構成されている。Ｘ線
発生器１０は、Ｘ線管１１と制御部及び冷却装置等で構
成されている。Ｘ線管１１は、Ｘ線を発生させるための
真空管であり、装置上部に固定されている。Ｘ線管１１
は、高電圧（例えば６万ボルト）を加えるとＸ線を発生
し、被検査物及びＸ線カメラに向けてＸ線を照射する。
【０００６】制御部は、図示していないが、高電圧発生
回路及び出力安定回路などからなるＸ線制御部と、ブレ
ーカー、ヒューズ及び制御用ＤＣレギュレーターなどか
らなる入力電源部で構成されている。
回路及び出力安定回路などからなるＸ線制御部と、ブレ
ーカー、ヒューズ及び制御用ＤＣレギュレーターなどか
らなる入力電源部で構成されている。
【０００７】Ｘ線カメラ２０は、Ｘ線を受けてＸ線を電
気信号に変換する映像管と、そのための制御部とで構成
されている。Ｘ線カメラ２０は装置の底部であって、Ｘ
線が照射される位置に、Ｘ線管１１と同軸に固定されて
いる。
気信号に変換する映像管と、そのための制御部とで構成
されている。Ｘ線カメラ２０は装置の底部であって、Ｘ
線が照射される位置に、Ｘ線管１１と同軸に固定されて
いる。
【０００８】Ｘ−Ｙテーブル（Ｘ−Ｙステージ）３０
は、被検査物を載置する試料台であり、Ｘ線発生器１０
とＸ線カメラ２０の間に配設されている。Ｘ−Ｙテーブ
ル３０の表面材質としては、被検査物に傷やダメージを
与えにくいベークライトを使用し、さらに基板等の薄い
被検査物の取扱いを容易にするため表面に溝を形成する
ことが好ましい。Ｘ−Ｙテーブル３０は、中間テーブル
３１と上面テーブル３２とで構成されている。中間テー
ブル３１は、装置底部に敷設されたレール３３上をロー
ラ３４を介して水平の一方向にスムーズに移動する。上
面テーブル３２は、中間テーブル３１上に載置されてお
り、中間テーブル３１の上面に敷設されたレール３５上
をローラ３６を介してスムーズに移動する。上面テーブ
ル３２の移動方向は、中間テーブル３１の移動方向と直
交する方向としてある。このＸ−Ｙテーブル３０を採用
することによって、被検査物の水平面内の位置を自由に
調整して位置合わせを行なうことができる。
は、被検査物を載置する試料台であり、Ｘ線発生器１０
とＸ線カメラ２０の間に配設されている。Ｘ−Ｙテーブ
ル３０の表面材質としては、被検査物に傷やダメージを
与えにくいベークライトを使用し、さらに基板等の薄い
被検査物の取扱いを容易にするため表面に溝を形成する
ことが好ましい。Ｘ−Ｙテーブル３０は、中間テーブル
３１と上面テーブル３２とで構成されている。中間テー
ブル３１は、装置底部に敷設されたレール３３上をロー
ラ３４を介して水平の一方向にスムーズに移動する。上
面テーブル３２は、中間テーブル３１上に載置されてお
り、中間テーブル３１の上面に敷設されたレール３５上
をローラ３６を介してスムーズに移動する。上面テーブ
ル３２の移動方向は、中間テーブル３１の移動方向と直
交する方向としてある。このＸ−Ｙテーブル３０を採用
することによって、被検査物の水平面内の位置を自由に
調整して位置合わせを行なうことができる。
【０００９】なお、被検査物の位置合わせを行なった
後、Ｘ線検査を行なうに際しては、ステージが微動する
ことなく確実に固定されることが必要である。このた
め、例えば、図４に示すような電磁ロックを用いてテー
ブルを固定することが好ましい。電磁ロックは、装置基
台部に固定されたアルミケーシング６１内を摺動する電
磁石６２に通電することによって、上面テーブル３２の
下面にアルミベース６３を介して取付けられたスチール
プレート６４に、電磁石６２が引き寄せられて密着す
る。電磁石６２はアルミケージング６１に一定のクリア
ランスをもってホールドされているので上面テーブル３
２は動けなくなり、固定される。電磁石６２への通電を
切ると電磁石６２はスチールプレート６４から離れ、固
定が解除されてテーブルは自由に動けるようになる。な
お、電磁ロックを構成する電磁石６２及びスチールプレ
ート６４以外の部材は、磁力の影響を避けるため非磁性
金属（アルミニウム等）で形成してある。
後、Ｘ線検査を行なうに際しては、ステージが微動する
ことなく確実に固定されることが必要である。このた
め、例えば、図４に示すような電磁ロックを用いてテー
ブルを固定することが好ましい。電磁ロックは、装置基
台部に固定されたアルミケーシング６１内を摺動する電
磁石６２に通電することによって、上面テーブル３２の
下面にアルミベース６３を介して取付けられたスチール
プレート６４に、電磁石６２が引き寄せられて密着す
る。電磁石６２はアルミケージング６１に一定のクリア
ランスをもってホールドされているので上面テーブル３
２は動けなくなり、固定される。電磁石６２への通電を
切ると電磁石６２はスチールプレート６４から離れ、固
定が解除されてテーブルは自由に動けるようになる。な
お、電磁ロックを構成する電磁石６２及びスチールプレ
ート６４以外の部材は、磁力の影響を避けるため非磁性
金属（アルミニウム等）で形成してある。
【００１０】Ｘ−Ｙテーブル３０は、Ｘ線検査終了後
は、次の検査に備えるため、及び後述する可動照射筒の
上昇時の引っ掛かりを防止するために、速やかに原点
（センター位置）に戻る必要がある。したがって、図５
に示すように、中間テーブル３１の可動方向Ｈに向かい
合わせて二つの小形のエアシリンダ３７ａ及び３７ｂを
対置させ、押圧部材３８ａ及び３８ｂで中間テーブル３
１の基部３１ａを両側から押圧して中間テーブル３１を
強制的に原点復帰させる。上面テーブルに関しても同様
である。原点位置の確認はフォトセンサースイッチ３９
で行なう。このような構成とすると、迅速かつ確実に原
点復帰が行なえるのみならず、位置合わせ時にテーブル
に不必要な力が加わることがないため、位置合わせをス
ムーズに行なうことができ、作業能力が向上する。
は、次の検査に備えるため、及び後述する可動照射筒の
上昇時の引っ掛かりを防止するために、速やかに原点
（センター位置）に戻る必要がある。したがって、図５
に示すように、中間テーブル３１の可動方向Ｈに向かい
合わせて二つの小形のエアシリンダ３７ａ及び３７ｂを
対置させ、押圧部材３８ａ及び３８ｂで中間テーブル３
１の基部３１ａを両側から押圧して中間テーブル３１を
強制的に原点復帰させる。上面テーブルに関しても同様
である。原点位置の確認はフォトセンサースイッチ３９
で行なう。このような構成とすると、迅速かつ確実に原
点復帰が行なえるのみならず、位置合わせ時にテーブル
に不必要な力が加わることがないため、位置合わせをス
ムーズに行なうことができ、作業能力が向上する。
【００１１】照射筒４０は、Ｘ線発生器１０の下部に設
けられており、Ｘ線が外部に漏れるのを防ぐためのＸ線
遮蔽部である。照射筒４０は固定照射筒４１と可動照射
筒４２で構成されている。固定照射筒４１は、Ｘ線発生
器の下部に位置するようＸ線装置の基部（フレーム）に
固定されている。可動照射筒４２は、固定照射筒４１の
下部に固定照射筒４１の先端を取囲むように形成されて
いる。可動照射筒４２は上下動可能に構成してあり、被
検査物の装脱が容易に行なえるようにしてある。
けられており、Ｘ線が外部に漏れるのを防ぐためのＸ線
遮蔽部である。照射筒４０は固定照射筒４１と可動照射
筒４２で構成されている。固定照射筒４１は、Ｘ線発生
器の下部に位置するようＸ線装置の基部（フレーム）に
固定されている。可動照射筒４２は、固定照射筒４１の
下部に固定照射筒４１の先端を取囲むように形成されて
いる。可動照射筒４２は上下動可能に構成してあり、被
検査物の装脱が容易に行なえるようにしてある。
【００１２】可動照射筒４２の下部には含鉛ゴムからな
る防Ｘ線部材５０がリング状に取り付けられており、可
動照射筒４２の下部と、基板等の被検査物または上面テ
ーブル３２との隙間からＸ線が漏洩するのを防止してい
る。例えば、図３及び６に示すように、被検査基板１０
０が可動照射筒４２の内部に納まらない場合、上面テー
ブル３２と基板１００との間に段差（隙間）を生ずる
が、防Ｘ線部材５０がゴム弾性によって変形して隙間を
塞ぎ、Ｘ線の外部への漏洩を完全に防止する。基板の表
面に凹凸がある場合にも同様に漏洩を防止できる。防Ｘ
線部材５０としては発泡ウレタンゴムに鉛の粒子を混入
した物であって、表面がビニールコーティングされたも
のが最適である。防Ｘ線部材の長さは特に制限されない
が、例えば４〜５ｍｍ程度とされる。
る防Ｘ線部材５０がリング状に取り付けられており、可
動照射筒４２の下部と、基板等の被検査物または上面テ
ーブル３２との隙間からＸ線が漏洩するのを防止してい
る。例えば、図３及び６に示すように、被検査基板１０
０が可動照射筒４２の内部に納まらない場合、上面テー
ブル３２と基板１００との間に段差（隙間）を生ずる
が、防Ｘ線部材５０がゴム弾性によって変形して隙間を
塞ぎ、Ｘ線の外部への漏洩を完全に防止する。基板の表
面に凹凸がある場合にも同様に漏洩を防止できる。防Ｘ
線部材５０としては発泡ウレタンゴムに鉛の粒子を混入
した物であって、表面がビニールコーティングされたも
のが最適である。防Ｘ線部材の長さは特に制限されない
が、例えば４〜５ｍｍ程度とされる。
【００１３】上記のように、本発明装置においては、上
下に可動する可動照射筒３２及び防Ｘ線部材５０によっ
て、被検査物の検査部位の周辺を部分的に遮蔽する構成
としてあるので、従来のように大型のシールドボックス
を必要としない。したがって、検査装置の小形化及び設
置面積の縮小（従来の１／３〜１／４）を図ることがで
きる。可動照射筒４２と固定照射筒４１の間の遮蔽は、
可動照射筒４２が下端位置にきたときに、固定照射筒４
１に固定された遮蔽部材５１と、可動照射筒４２とが密
着して、Ｘ線の漏洩を防止している。遮蔽部材５１とし
ては、上記防Ｘ線部材５０と同様の材料で形成できる。
下に可動する可動照射筒３２及び防Ｘ線部材５０によっ
て、被検査物の検査部位の周辺を部分的に遮蔽する構成
としてあるので、従来のように大型のシールドボックス
を必要としない。したがって、検査装置の小形化及び設
置面積の縮小（従来の１／３〜１／４）を図ることがで
きる。可動照射筒４２と固定照射筒４１の間の遮蔽は、
可動照射筒４２が下端位置にきたときに、固定照射筒４
１に固定された遮蔽部材５１と、可動照射筒４２とが密
着して、Ｘ線の漏洩を防止している。遮蔽部材５１とし
ては、上記防Ｘ線部材５０と同様の材料で形成できる。
【００１４】可動照射筒４２の昇降はシリンダ７１等で
構成される昇降手段７０によって行なう。この場合、上
下用エアーシリンダを用いると、被検査基板等の厚さに
関係なく動作端（最大端）まで可動照射筒４２が下降し
てしまい、基板や機構部にダメージを与える可能性が大
きい。そこで、図２及び図７に示すように、スライドレ
ール７２上を動くスライダ７３をばね７４で下方向に付
勢して、可動照射筒４２の下降をアーム７５を介してば
ね７４によって行なうようにする。このようにすると、
被検査基板の厚さが異なっても常に一定の圧力で基板を
押えることができ、機構部に無理がかかることもない。
また、万一、可動照射筒４２と上面テーブル３２または
基板１００との間に指が挟まれた場合であっても、ばね
７４によって一定の圧力しかかからないので安全であ
る。ばね７４による押圧力の調整は、圧力調整ナット７
６によって行なうことができる。
構成される昇降手段７０によって行なう。この場合、上
下用エアーシリンダを用いると、被検査基板等の厚さに
関係なく動作端（最大端）まで可動照射筒４２が下降し
てしまい、基板や機構部にダメージを与える可能性が大
きい。そこで、図２及び図７に示すように、スライドレ
ール７２上を動くスライダ７３をばね７４で下方向に付
勢して、可動照射筒４２の下降をアーム７５を介してば
ね７４によって行なうようにする。このようにすると、
被検査基板の厚さが異なっても常に一定の圧力で基板を
押えることができ、機構部に無理がかかることもない。
また、万一、可動照射筒４２と上面テーブル３２または
基板１００との間に指が挟まれた場合であっても、ばね
７４によって一定の圧力しかかからないので安全であ
る。ばね７４による押圧力の調整は、圧力調整ナット７
６によって行なうことができる。
【００１５】昇降手段７０は上面テーブル３２に固定さ
れており、したがって、可動照射筒４２が上面テーブル
３２とともに水平移動できるように構成されている。こ
れは、レーザースポット８０によって基板のおおよその
位置合わせは行なえるのであるが、最終的な位置合わせ
は、Ｘ線を照射しつつ、Ｘ線テレビシステムを用いて行
なわれるため、防Ｘ線をした状態でＸ−Ｙテーブル３０
を動かす必要があるからである。例えば、テーブル上で
２ｍｍの誤差があると、Ｘ線ＴＶシステムの拡大率が１
５倍であるときは、モニター画面上では３０ｍｍの誤差
が生じ、被検査部位が画面から外れてしまうことがあ
る。この場合、モニターを見ながら被検査部位の位置合
わせを行なう必要があるわけであるが、可動照射筒３２
を下降した状態でテーブル（基板）を動かして位置合わ
せを行なうと、基板とテーブルの間あるいは基板と可動
照射筒（防Ｘ線部材）との間に擦れが生じ被検査物にダ
メージを与える恐れがあり、防Ｘ線も不完全になり易
い。そこで、可動照射筒４２と上面テーブル３２が固定
されたままいっしょに移動できるようにしているのであ
る。これにより、確実にＸ線の漏洩を防止しつつ、位置
合わせをスムーズに行なうことができ、上述した電磁ロ
ック機構とあいまって位置合わせを素早く確実に行なう
ことができる。可動照射筒が水平方向に移動する場合、
可動照射筒４２と固定照射筒４１との間の遮蔽は上述し
た遮蔽部材５１によって行なわれる。
れており、したがって、可動照射筒４２が上面テーブル
３２とともに水平移動できるように構成されている。こ
れは、レーザースポット８０によって基板のおおよその
位置合わせは行なえるのであるが、最終的な位置合わせ
は、Ｘ線を照射しつつ、Ｘ線テレビシステムを用いて行
なわれるため、防Ｘ線をした状態でＸ−Ｙテーブル３０
を動かす必要があるからである。例えば、テーブル上で
２ｍｍの誤差があると、Ｘ線ＴＶシステムの拡大率が１
５倍であるときは、モニター画面上では３０ｍｍの誤差
が生じ、被検査部位が画面から外れてしまうことがあ
る。この場合、モニターを見ながら被検査部位の位置合
わせを行なう必要があるわけであるが、可動照射筒３２
を下降した状態でテーブル（基板）を動かして位置合わ
せを行なうと、基板とテーブルの間あるいは基板と可動
照射筒（防Ｘ線部材）との間に擦れが生じ被検査物にダ
メージを与える恐れがあり、防Ｘ線も不完全になり易
い。そこで、可動照射筒４２と上面テーブル３２が固定
されたままいっしょに移動できるようにしているのであ
る。これにより、確実にＸ線の漏洩を防止しつつ、位置
合わせをスムーズに行なうことができ、上述した電磁ロ
ック機構とあいまって位置合わせを素早く確実に行なう
ことができる。可動照射筒が水平方向に移動する場合、
可動照射筒４２と固定照射筒４１との間の遮蔽は上述し
た遮蔽部材５１によって行なわれる。
【００１６】なお、本発明装置にあっては、作業者の手
が可動照射筒に挟まれて、Ｘ線を浴びる危険性がある。
そこで、図６に示すように、リミットスイッチ５２を設
け、可動照射筒４２と上面テーブル３２との間が一定距
離（例えば、指の厚さ程度（約５ｍｍ））以下にならな
いとＸ線が照射されないようにすることが好ましい。
が可動照射筒に挟まれて、Ｘ線を浴びる危険性がある。
そこで、図６に示すように、リミットスイッチ５２を設
け、可動照射筒４２と上面テーブル３２との間が一定距
離（例えば、指の厚さ程度（約５ｍｍ））以下にならな
いとＸ線が照射されないようにすることが好ましい。
【００１７】次に、上記構成からなる本発明装置の作用
について説明する。まず、レーザースポット８０で照ら
された位置に基板の被検査部位を合わせる。可動照射筒
４２を下降し、可動照射筒４２及び防Ｘ線部材５０でＸ
線を遮蔽可能な状態とする。その後、Ｘ線を照射し、Ｘ
線カメラ２０で撮られた画像を画像コントローラー及び
画像処理装置（図示せず）によって、積分処理等を行な
い見易い画像に変換し、ＴＶモニターに映し出す。エア
ーシリンダ３３及び３４を解除した後、Ｘ−Ｙテーブル
を駆動して被検査部位の位置合わせの微調整をＴＶモニ
ターを見ながら行ない、Ｘ−Ｙテーブルを電磁ロックし
た後被検査部位の検査（透視像の観察）を行なう。この
際、Ｘ線カメラコントローラ（図示せず）で感度やピン
トを調節し、画像コントローラで画像改善を行ない、必
要に応じ画面のコピー（印刷）を行なう。検査後、電磁
ロックを解除し、エアシリンダ３３及び３４でＸ−Ｙテ
ーブルの原点復帰を行なう。Ｘ線をＯＦＦにした後、可
動照射筒を上昇させて、基板を外し、検査を終了する。
について説明する。まず、レーザースポット８０で照ら
された位置に基板の被検査部位を合わせる。可動照射筒
４２を下降し、可動照射筒４２及び防Ｘ線部材５０でＸ
線を遮蔽可能な状態とする。その後、Ｘ線を照射し、Ｘ
線カメラ２０で撮られた画像を画像コントローラー及び
画像処理装置（図示せず）によって、積分処理等を行な
い見易い画像に変換し、ＴＶモニターに映し出す。エア
ーシリンダ３３及び３４を解除した後、Ｘ−Ｙテーブル
を駆動して被検査部位の位置合わせの微調整をＴＶモニ
ターを見ながら行ない、Ｘ−Ｙテーブルを電磁ロックし
た後被検査部位の検査（透視像の観察）を行なう。この
際、Ｘ線カメラコントローラ（図示せず）で感度やピン
トを調節し、画像コントローラで画像改善を行ない、必
要に応じ画面のコピー（印刷）を行なう。検査後、電磁
ロックを解除し、エアシリンダ３３及び３４でＸ−Ｙテ
ーブルの原点復帰を行なう。Ｘ線をＯＦＦにした後、可
動照射筒を上昇させて、基板を外し、検査を終了する。
【００１８】なお、本発明は上記実施例に限定されず、
本発明の要旨の範囲内で適宜変形して実施できる。例え
ば、可動照射筒の昇降をフットスイッチによって行なえ
るようにすると、作業性が向上する。また、基板の隅部
を観察する場合には、Ｘ線の散乱を防ぐため、基板と同
じ厚さのスチール製のスコヤーを基板隅部に当接し、観
察を行なってもよい。
本発明の要旨の範囲内で適宜変形して実施できる。例え
ば、可動照射筒の昇降をフットスイッチによって行なえ
るようにすると、作業性が向上する。また、基板の隅部
を観察する場合には、Ｘ線の散乱を防ぐため、基板と同
じ厚さのスチール製のスコヤーを基板隅部に当接し、観
察を行なってもよい。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明の工業用Ｘ線
検査装置は、小型でしかも操作性がよく、かつ安価であ
る。
検査装置は、小型でしかも操作性がよく、かつ安価であ
る。
【図１】本発明の一実施例に係る工業用Ｘ線装置の正面
図である。
図である。
【図２】本発明の一実施例に係る工業用Ｘ線装置の要部
構成図である。
構成図である。
【図３】本発明の一実施例に係る工業用Ｘ線装置の平面
図である。
図である。
【図４】電磁ロック機構を示す部分截断図である。
【図５】急速原点復帰を行なうためのエアーシリンダを
示す正面図である。
示す正面図である。
【図６】防Ｘ線部材のゴム弾性変形の様子を示す断面図
である。
である。
【図７】昇降手段における下方向付勢ばねを示す部分拡
大図である。
大図である。
【図８】従来のＸ線検査装置を示す断面図である。
１…Ｘ線照射装置 １０…Ｘ線発生器 ２０…Ｘ線カメラ ３０…Ｘ−Ｙテーブル ３１…上面テーブル ３２…中間テーブル ４０…照射筒 ４１…固定照射筒 ４２…可動照射筒 ５０…防Ｘ線部材 ７０…昇降手段
Claims (5)
- 【請求項１】 Ｘ線発生器と、Ｘ線カメラと、Ｘ線発生
器とＸ線カメラの間に位置し被検査物を載置するテーブ
ルと、Ｘ線発生器の下部に設けられ被検査物を部分的に
覆う照射筒と、照射筒の下部にリング状に取り付けられ
た含鉛ゴムからなる防Ｘ線部材とを具備したことを特徴
とする工業用Ｘ線検査装置。 - 【請求項２】 照射筒を固定照射筒と可動照射筒とで形
成し、可動照射筒を上下動可能に構成した請求項１記載
の工業用Ｘ線検査装置。 - 【請求項３】 テーブルを水平方向に移動可能とすると
ともに、このテーブルに可動筒の駆動手段を固定した請
求項２記載の工業用Ｘ線検査装置。 - 【請求項４】 テーブルを、水平の一方向に移動する中
間テーブルと、この中間テーブル上に載置され中間テー
ブルの移動方向と直交する方向に移動する上面テーブル
とで構成するとともに、中間テーブルに原点復帰手段を
設けた請求項３記載の工業用Ｘ線検査装置。 - 【請求項５】 上面テーブルに固定手段を設けた請求項
４記載の工業用Ｘ線検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22947491A JPH05119193A (ja) | 1991-08-15 | 1991-08-15 | 工業用ｘ線検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22947491A JPH05119193A (ja) | 1991-08-15 | 1991-08-15 | 工業用ｘ線検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05119193A true JPH05119193A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=16892746
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22947491A Pending JPH05119193A (ja) | 1991-08-15 | 1991-08-15 | 工業用ｘ線検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05119193A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07132442A (ja) * | 1993-11-09 | 1995-05-23 | Seikosha Co Ltd | Ｘ線撮像装置及びこれを使用した加工装置 |
| CN110213993A (zh) * | 2017-01-18 | 2019-09-06 | 株式会社岛津制作所 | 巡诊用x射线装置 |
| US10571410B2 (en) | 2014-08-13 | 2020-02-25 | Nikon Metrology Nv | X-ray apparatus |
-
1991
- 1991-08-15 JP JP22947491A patent/JPH05119193A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07132442A (ja) * | 1993-11-09 | 1995-05-23 | Seikosha Co Ltd | Ｘ線撮像装置及びこれを使用した加工装置 |
| US10571410B2 (en) | 2014-08-13 | 2020-02-25 | Nikon Metrology Nv | X-ray apparatus |
| US10571409B2 (en) | 2014-08-13 | 2020-02-25 | Nikon Metrology Nv | X-ray apparatus |
| CN110213993A (zh) * | 2017-01-18 | 2019-09-06 | 株式会社岛津制作所 | 巡诊用x射线装置 |
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