JPH05116963A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
- Publication number
- JPH05116963A JPH05116963A JP30662091A JP30662091A JPH05116963A JP H05116963 A JPH05116963 A JP H05116963A JP 30662091 A JP30662091 A JP 30662091A JP 30662091 A JP30662091 A JP 30662091A JP H05116963 A JPH05116963 A JP H05116963A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- molding
- mold
- molding surface
- lead
- magnesium oxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B40/00—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it
- C03B40/02—Preventing adhesion between glass and glass or between glass and the means used to shape it, hold it or support it by lubrication; Use of materials as release or lubricating compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/14—Die top coat materials, e.g. materials for the glass-contacting layers
- C03B2215/20—Oxide ceramics
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
［目的］ Ｐｂを多く含有した硝材のプレス成形に際し
てのＰｂの悪影響を防止する。 ［構成］ 成形用型１の成形面３をＭｇＯを主成分とし
た化学成分とする。ＭｇＯがＰｂとの反応性が小さく、
Ｐｂ成形面の付着によるくもりおよびＰｂの成形面の拡
散による固溶体の生成を防止する。
てのＰｂの悪影響を防止する。 ［構成］ 成形用型１の成形面３をＭｇＯを主成分とし
た化学成分とする。ＭｇＯがＰｂとの反応性が小さく、
Ｐｂ成形面の付着によるくもりおよびＰｂの成形面の拡
散による固溶体の生成を防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、レンズなどの光学素子
を加熱プレスにより成形する光学素子成形用型に関す
る。
を加熱プレスにより成形する光学素子成形用型に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】光学ガラスを加熱プレスにより所望の形
状の光学素子に成形する光学素子成形用型では、ガラス
との融着が防止できると共に、高温に対しての耐熱性を
有することが要求されている。特開昭６３−５０３３４
号公報はこのための従来技術であり、型の表層にＺｒ
Ｎ，ＡｌＮ，ＮｂＮなどの金属窒化物を設けている。こ
の型材は耐酸化性及び耐アルカリ性が大きく、ガラスと
の濡れ性が悪いため焼き付きが生じにくい特性を有して
いる。
状の光学素子に成形する光学素子成形用型では、ガラス
との融着が防止できると共に、高温に対しての耐熱性を
有することが要求されている。特開昭６３−５０３３４
号公報はこのための従来技術であり、型の表層にＺｒ
Ｎ，ＡｌＮ，ＮｂＮなどの金属窒化物を設けている。こ
の型材は耐酸化性及び耐アルカリ性が大きく、ガラスと
の濡れ性が悪いため焼き付きが生じにくい特性を有して
いる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながらＺｒＮ，
ＡｌＮ，ＮｂＮの金属窒化物からなる表面層を有する従
来の成形用型はガラス素材の種類により適用できない場
合がある。例えば従来の成形用型によって、高屈折率で
多量のＰｂを含有しているＳＦ系硝材の成形を行うと、
成分中のＰｂが成形型の成形面に付着してくもりを生じ
たり、成形型の型材の成分の中へＰｂが拡散し固溶体が
生じる問題があった。
ＡｌＮ，ＮｂＮの金属窒化物からなる表面層を有する従
来の成形用型はガラス素材の種類により適用できない場
合がある。例えば従来の成形用型によって、高屈折率で
多量のＰｂを含有しているＳＦ系硝材の成形を行うと、
成分中のＰｂが成形型の成形面に付着してくもりを生じ
たり、成形型の型材の成分の中へＰｂが拡散し固溶体が
生じる問題があった。
【０００４】また、一般には、窒化物より酸化物の方が
化学的に安定しているため、成形面がＡｌＮ層からなる
成形型を大気中で使用してガラス素材を成形すると、成
形時の高温度によって、窒素成分Ｎが窒素ガスＮ2 とし
て大気中に駆逐されると共に、成形面の表面に酸化物Ａ
ｌ2 Ｏ3 が析出し、成形面の面粗さが粗くなる問題もあ
った。本発明は上記事情を考慮してなされたものであ
り、Ｐｂを含有する硝材の成形を良好に行うことがで
き、しかも高精度の成形が可能な光学素子成形型を提供
することを目的とする。
化学的に安定しているため、成形面がＡｌＮ層からなる
成形型を大気中で使用してガラス素材を成形すると、成
形時の高温度によって、窒素成分Ｎが窒素ガスＮ2 とし
て大気中に駆逐されると共に、成形面の表面に酸化物Ａ
ｌ2 Ｏ3 が析出し、成形面の面粗さが粗くなる問題もあ
った。本発明は上記事情を考慮してなされたものであ
り、Ｐｂを含有する硝材の成形を良好に行うことがで
き、しかも高精度の成形が可能な光学素子成形型を提供
することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するため本発明は、少なくとも成形面を酸化マグネシ
ウム（ＭｇＯ）を主とした化学成分により形成したこと
を特徴とする。例えば、高純度のＭｇＯ粉末にＳｉ
Ｏ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の焼結助剤を添加して、概略の型形
状にプレスして仮焼成し、この仮焼成体を最終形状に近
い寸法に機械加工した後、本焼成してセラミックブラン
クとし、このセラミックブランクを研削して最終寸法と
し、さらに成形面を研磨加工することにより成形型とす
る。あるいは、ＳｉＣセラミック等の型基材の少なくと
も成形面に、ＭｇＯ膜を形成する。以上のような成形型
はＭｇＯを主成分として、その成形面が形成され、この
成形型をＰｂの含有量の多いガラス素材の成形に用いる
ものである。
成するため本発明は、少なくとも成形面を酸化マグネシ
ウム（ＭｇＯ）を主とした化学成分により形成したこと
を特徴とする。例えば、高純度のＭｇＯ粉末にＳｉ
Ｏ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 等の焼結助剤を添加して、概略の型形
状にプレスして仮焼成し、この仮焼成体を最終形状に近
い寸法に機械加工した後、本焼成してセラミックブラン
クとし、このセラミックブランクを研削して最終寸法と
し、さらに成形面を研磨加工することにより成形型とす
る。あるいは、ＳｉＣセラミック等の型基材の少なくと
も成形面に、ＭｇＯ膜を形成する。以上のような成形型
はＭｇＯを主成分として、その成形面が形成され、この
成形型をＰｂの含有量の多いガラス素材の成形に用いる
ものである。
【０００６】上記構成では成形面の主成分であるＭｇＯ
がＰｂとの反応性が小さく、Ｐｂが成形面に付着するこ
とがなくなる。このためＰｂの付着に基いた基板のくも
りやＰｂの拡散に基いた固溶体の発生を防止することが
できる。
がＰｂとの反応性が小さく、Ｐｂが成形面に付着するこ
とがなくなる。このためＰｂの付着に基いた基板のくも
りやＰｂの拡散に基いた固溶体の発生を防止することが
できる。
【０００７】
【実施例１】図１は本発明の実施例１における上型、図
２はその下型２を示している。これら上型１および下型
２はいずれも円柱形状に成形され、その成形面３および
４と反対側の端部に、固定を行うための突縁部１ａ，２
ａを一体的に有している。これらの型１，２における軸
方向の長さＡは２０mmであり、成形面３，４の外径Ｃは
φ１１．８mmとなっている。また突縁部１ａ，２ａの長
さＢは５mm、その外径Ｄはφ２０mmとなっており、上型
１の成形面３の曲率Ｒは３８．３７５mm、下型の成形面
４の曲率Ｒは２７．９８３mmとなっている。
２はその下型２を示している。これら上型１および下型
２はいずれも円柱形状に成形され、その成形面３および
４と反対側の端部に、固定を行うための突縁部１ａ，２
ａを一体的に有している。これらの型１，２における軸
方向の長さＡは２０mmであり、成形面３，４の外径Ｃは
φ１１．８mmとなっている。また突縁部１ａ，２ａの長
さＢは５mm、その外径Ｄはφ２０mmとなっており、上型
１の成形面３の曲率Ｒは３８．３７５mm、下型の成形面
４の曲率Ｒは２７．９８３mmとなっている。
【０００８】本実施例における上型１および下型２は全
体がＭｇＯを主成分とした材質により成形されるもので
あり、以下に、その成形方法を説明する。まず高純度Ｍ
ｇＯ粉末９５重量％と焼結助剤としてＡｌ2 Ｏ3 粉末を
５重量％混合し、１ｔｏｎ／ｃｍでプレス後、１５００
℃で２０時間仮焼成した後、最終形状の寸法より若干大
きめの寸法に加工する。その後、２０００℃で５６時間
焼成してセラミックスブランクを成形する。このブラン
クを研削加工し最終形状の寸法にした後、これらの型材
の成形面３，４を♯１５０００のダイヤモンドパウダー
研磨剤により研磨加工し、表面粗さＲｍａｘ０．０８μ
ｍ以下まで仕上げて上型１および下型２を成形する。
次に、以上により成形された上型１および下型２を使用
して、鉛（Ｐｂ）を含有する硝材の成形を行った。使用
した硝材は、転移点温度が４４０℃のＳＦ系硝材であり
Ｐｂが６０ｗｔ％含有されている。
体がＭｇＯを主成分とした材質により成形されるもので
あり、以下に、その成形方法を説明する。まず高純度Ｍ
ｇＯ粉末９５重量％と焼結助剤としてＡｌ2 Ｏ3 粉末を
５重量％混合し、１ｔｏｎ／ｃｍでプレス後、１５００
℃で２０時間仮焼成した後、最終形状の寸法より若干大
きめの寸法に加工する。その後、２０００℃で５６時間
焼成してセラミックスブランクを成形する。このブラン
クを研削加工し最終形状の寸法にした後、これらの型材
の成形面３，４を♯１５０００のダイヤモンドパウダー
研磨剤により研磨加工し、表面粗さＲｍａｘ０．０８μ
ｍ以下まで仕上げて上型１および下型２を成形する。
次に、以上により成形された上型１および下型２を使用
して、鉛（Ｐｂ）を含有する硝材の成形を行った。使用
した硝材は、転移点温度が４４０℃のＳＦ系硝材であり
Ｐｂが６０ｗｔ％含有されている。
【０００９】この硝材を１２００℃に加熱して溶融す
る。一方型温は、硝材の転移点温度以下である４２５℃
に保持した。成形は、５％程度の酸素濃度である酸化雰
囲気中にて行った。まず下型２の成形面４に溶融ガラス
を流し込み、上型１によって、８ｋｇ／ｃｍ2 の成形圧
力を加えて成形し、このガラス素材が、転移点温度以下
に冷却されたとき、成形を終了した。
る。一方型温は、硝材の転移点温度以下である４２５℃
に保持した。成形は、５％程度の酸素濃度である酸化雰
囲気中にて行った。まず下型２の成形面４に溶融ガラス
を流し込み、上型１によって、８ｋｇ／ｃｍ2 の成形圧
力を加えて成形し、このガラス素材が、転移点温度以下
に冷却されたとき、成形を終了した。
【００１０】以後、同様の成形を１５０００回連続し
た。一方、比較例としてＡｌＮ層を成形面に有した成形
型を用い、同一の条件でプレス成形した。図９はこれら
の成形によって変化した成形型の成形面の面精度の特性
図を示し、本実施例では面粗度の変化が極めて少なくな
っている。
た。一方、比較例としてＡｌＮ層を成形面に有した成形
型を用い、同一の条件でプレス成形した。図９はこれら
の成形によって変化した成形型の成形面の面精度の特性
図を示し、本実施例では面粗度の変化が極めて少なくな
っている。
【００１１】図３および図４は上記成形を行った後の成
形面の付着物をＸ線光電子分光法により分析した特性図
であり、図３は本実施例、図４は比較例を示す。図４に
示す比較例ではＰｂのピークがあらわれているが、図３
に示す本実施例ではＰｂのピークがなく、これにより成
形面にＰｂが付着して、くもりを生じたり、型の成分中
にＰｂが拡散して固溶体が生じることもない。
形面の付着物をＸ線光電子分光法により分析した特性図
であり、図３は本実施例、図４は比較例を示す。図４に
示す比較例ではＰｂのピークがあらわれているが、図３
に示す本実施例ではＰｂのピークがなく、これにより成
形面にＰｂが付着して、くもりを生じたり、型の成分中
にＰｂが拡散して固溶体が生じることもない。
【００１２】図５は本実施例の成形前における成形面の
面粗さの測定結果、図６は成形後の面粗さの測定結果を
示す。一方、図７および図８は比較例における成形前と
成形後の成形面の面粗さを示す。比較例における面粗さ
はＲｍａｘ０．０８１μｍ（図７）からＲｍａｘ０．３
１８μｍ（図８）に大きく変化しているが、実施例にお
ける面粗さはＲｍａｘ０．０８２μｍ（図５）からＲｍ
ａｘ０．０８６μｍであり、成形精度に何ら影響のない
変化となっている。以上のことから本実施例ではＰｂ含
有量の大きな硝材を成形しても、Ｐｂによる悪影響がな
く、精度の良い成形を連続的に行うことができる。
面粗さの測定結果、図６は成形後の面粗さの測定結果を
示す。一方、図７および図８は比較例における成形前と
成形後の成形面の面粗さを示す。比較例における面粗さ
はＲｍａｘ０．０８１μｍ（図７）からＲｍａｘ０．３
１８μｍ（図８）に大きく変化しているが、実施例にお
ける面粗さはＲｍａｘ０．０８２μｍ（図５）からＲｍ
ａｘ０．０８６μｍであり、成形精度に何ら影響のない
変化となっている。以上のことから本実施例ではＰｂ含
有量の大きな硝材を成形しても、Ｐｂによる悪影響がな
く、精度の良い成形を連続的に行うことができる。
【００１３】
【実施例２】図１０は本発明の実施例２の成形型を示
す。この成形型はＳｉＣセラミックスからなる基材１１
と、基材１１の成形面に形成されたＳｉＣ被膜１２と、
ＳｉＣ被膜１２上に形成されたＭｇＯ被膜１３とにより
構成されている。かかる成形型の成形は、まずＳｉＣセ
ラミックスから成る基材１１を実施例１と概略近い形状
に加工し、この基材１１の成形面に、厚さ０．５mmのＳ
ｉＣ被膜１２をＣＶＤ法により成膜する。このＳｉＣ膜
１２の成膜後、基材１１を、研削加工し、実施例１にお
いて使用した成形型と同様の寸法に仕上げる。この成形
面に形成したＳｉＣ被膜１２には、光学的機能が生じる
ため表面に面粗度Ｒmax ０．０３μｍの鏡面研磨を施
し、この鏡面研磨後、ＲＦスパッタリングにより、Ｓｉ
Ｃ被膜１２の上に、０．７μｍの膜厚のＭｇＯ被膜１３
を形成する。かかるＲＦスパッタリングではＭｇＯ９
９．９％の ターゲットを用い、圧力１ＰａのＡｒガス
を導入して行う。
す。この成形型はＳｉＣセラミックスからなる基材１１
と、基材１１の成形面に形成されたＳｉＣ被膜１２と、
ＳｉＣ被膜１２上に形成されたＭｇＯ被膜１３とにより
構成されている。かかる成形型の成形は、まずＳｉＣセ
ラミックスから成る基材１１を実施例１と概略近い形状
に加工し、この基材１１の成形面に、厚さ０．５mmのＳ
ｉＣ被膜１２をＣＶＤ法により成膜する。このＳｉＣ膜
１２の成膜後、基材１１を、研削加工し、実施例１にお
いて使用した成形型と同様の寸法に仕上げる。この成形
面に形成したＳｉＣ被膜１２には、光学的機能が生じる
ため表面に面粗度Ｒmax ０．０３μｍの鏡面研磨を施
し、この鏡面研磨後、ＲＦスパッタリングにより、Ｓｉ
Ｃ被膜１２の上に、０．７μｍの膜厚のＭｇＯ被膜１３
を形成する。かかるＲＦスパッタリングではＭｇＯ９
９．９％の ターゲットを用い、圧力１ＰａのＡｒガス
を導入して行う。
【００１４】この成形型によりレンズの成形を行う条件
は、実施例１と同様であり、１５０００回の連続成形を
行った。図１１は上記成形後における成形面の付着物を
Ｘ線光電子分光法により分析した特性図であり、Ｐｂの
ピークがなく、成形面へのＰｂの付着がないことが判明
している。従って、Ｐｂ付着に起因した成形面のくもり
や型材の成分内へのＰｂの拡散に基く固溶体の発生もな
い。図１２および図１３は成形前および成形後における
成形面の面精度であり、成形前（図１２）がＲｍａｘ
０．０２９μｍ、成形後（図１３）が０．０３３μｍで
あり成形精度への影響もない。
は、実施例１と同様であり、１５０００回の連続成形を
行った。図１１は上記成形後における成形面の付着物を
Ｘ線光電子分光法により分析した特性図であり、Ｐｂの
ピークがなく、成形面へのＰｂの付着がないことが判明
している。従って、Ｐｂ付着に起因した成形面のくもり
や型材の成分内へのＰｂの拡散に基く固溶体の発生もな
い。図１２および図１３は成形前および成形後における
成形面の面精度であり、成形前（図１２）がＲｍａｘ
０．０２９μｍ、成形後（図１３）が０．０３３μｍで
あり成形精度への影響もない。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、少なくと
も成形面をＭｇＯを有した化学成分により形成するた
め、成形面にＰｂが付着することによってくもりが生じ
たり、型材成分内にＰｂが拡散し、固溶体が生じること
がなくなる。しかも大気中にて成形を行って成形面に酸
化物が析出することによる成形面の面精度の低下もな
く、さらに、ＭｇＯが大部分のガラス素材に含まれてい
るＳｉとの化学的反応性が悪いため、成形面にＳｉが拡
散して固溶することもない。
も成形面をＭｇＯを有した化学成分により形成するた
め、成形面にＰｂが付着することによってくもりが生じ
たり、型材成分内にＰｂが拡散し、固溶体が生じること
がなくなる。しかも大気中にて成形を行って成形面に酸
化物が析出することによる成形面の面精度の低下もな
く、さらに、ＭｇＯが大部分のガラス素材に含まれてい
るＳｉとの化学的反応性が悪いため、成形面にＳｉが拡
散して固溶することもない。
【図１】本発明の実施例１における上型の断面図。
【図２】本発明の実施例１における下型の断面図。
【図３】実施例１における光学素子成形後の成形面の分
析特性図。
析特性図。
【図４】比較例における光学素子成形後の成形面の分析
特性図。
特性図。
【図５】実施例１における成形前の成形面粗度の特性
図。
図。
【図６】実施例１における成形後の成形面粗度の特性
図。
図。
【図７】比較例における成形前の成形面粗度の特性図。
【図８】比較例における成形後の成形面粗度の特性図。
【図９】面粗度の変化を示す特性図。
【図１０】本発明の実施例２の断面図。
【図１１】実施例２の成形面の分析特性図。
【図１２】実施例２の成形前の成形面粗度の特性図。
【図１３】実施例２の成形後の成形面粗度の特性図。
１ 上型 ２ 下型 ３ 成形面 ４ 成形面
Claims (1)
- 【請求項１】 少なくとも成形面が酸化マグネシウムを
主とした化学成分により形成されていることを特徴とす
る光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30662091A JPH05116963A (ja) | 1991-10-24 | 1991-10-24 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30662091A JPH05116963A (ja) | 1991-10-24 | 1991-10-24 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05116963A true JPH05116963A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=17959280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30662091A Withdrawn JPH05116963A (ja) | 1991-10-24 | 1991-10-24 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05116963A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105813991A (zh) * | 2013-12-12 | 2016-07-27 | Hoya株式会社 | 研磨用玻璃光学元件坯料用成型模具、和研磨用玻璃光学元件坯料以及光学元件的制造方法 |
-
1991
- 1991-10-24 JP JP30662091A patent/JPH05116963A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105813991A (zh) * | 2013-12-12 | 2016-07-27 | Hoya株式会社 | 研磨用玻璃光学元件坯料用成型模具、和研磨用玻璃光学元件坯料以及光学元件的制造方法 |
| CN105813991B (zh) * | 2013-12-12 | 2019-10-01 | Hoya株式会社 | 研磨用玻璃光学元件坯料用成型模具、和研磨用玻璃光学元件坯料以及光学元件的制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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